楊李,何俊,吳濤
(武漢工程大學(xué)光電信息與能源工程學(xué)院,湖北 武漢 430205)
極紫外光刻技術(shù)是制造特征尺寸小于22 nm集成電路芯片的一項(xiàng)重要技術(shù)[1],隨著科學(xué)技術(shù)的迅猛發(fā)展,人們?cè)诎雽?dǎo)體工業(yè)制造中,希望在更小尺寸上集成更多的電子元件來實(shí)現(xiàn)設(shè)備的更多功能,因此科學(xué)工作者把目光投放在亞10 nm的極紫外光刻光源的研究上[2].根據(jù)目前制備極紫外多層膜的技術(shù)水平,La/B4C多層膜在6.xnm反射率可達(dá)46.2%[3],因此亞10 nm的極紫外光刻光源的研究集中在6.xnm波長處.研究結(jié)果表明,到目前為止,稀土元素釓(Gd)是極紫外光源中轉(zhuǎn)換率最高的靶材[4],該靶激光等離子體光源是亞10 nm的極紫外光刻光源最有潛力的競(jìng)爭(zhēng)者之一.
近年來,全球已經(jīng)有多個(gè)研究團(tuán)隊(duì)著手這方面的研究工作.愛爾蘭都柏林大學(xué)的Otsuka T等人研究計(jì)算結(jié)果表明,Gd離子在6.7 nm附近有密集的原子躍遷線列陣[5].O’Sullivan G等人通過理論計(jì)算研究證明,釓靶等離子體光源在適當(dāng)?shù)牡入x子條件下可在6.7 nm處0.6%的光譜寬帶內(nèi)獲得0.4%的轉(zhuǎn)換效率[6].Carrol P K等通過對(duì)原子序數(shù)在62 ~ 74之間的稀土元素的發(fā)射光譜進(jìn)行研究,表明Gd17+—Gd25+離子在6.5 ~ 6.7 nm附近發(fā)生躍遷可產(chǎn)生強(qiáng)窄帶輻射[7].因此,在轉(zhuǎn)換效率最高且在6.7 nm附近能產(chǎn)生較強(qiáng)的光譜躍遷列陣的優(yōu)勢(shì)下,釓離子是更有研究價(jià)值的亞極紫外光刻光源.D Kilbane等人用Flexible Atomic Code(FAC)在不同的等離子體參數(shù)條件下,對(duì)釓離子極紫外發(fā)射光譜進(jìn)行了模擬[8-9].本文中我們運(yùn)用Cowan程序[10]對(duì)原子數(shù)據(jù)進(jìn)行計(jì)算,得到Gd離子在19價(jià)到25價(jià)所產(chǎn)生的4p-4d和4d-4f的躍遷光譜,并著重分析組態(tài)相互作用對(duì)譜線分布的影響.
1.1 中心場(chǎng)近似下哈密頓算符的計(jì)算Cowan代碼是由Robert D Cowan開發(fā)的基于多組態(tài)相互作用的原子結(jié)構(gòu)和光譜計(jì)算程序包[11-12].通過Hartree-Fock(HF)方程[13]計(jì)算電子徑向波函數(shù),單電子的哈密頓算符()如下:
(1)
對(duì)于單電子徑向波函數(shù)Pi(r),組態(tài)的平均能量由下式表示:
(2)
(3)
(4)
ck是標(biāo)準(zhǔn)化的球面諧波函數(shù),而FK和GK可以用斯萊特[13]積分RK表示:
FK(ij)=RK(ij,ij)
(5)
GK(ij)=RK(ij,ji)
(6)
(7)
對(duì)(5)、(6)和(7)方程進(jìn)行迭代求解,可以得到所求波函數(shù).
1.2 Cowan code理論方法Cowan程序由4個(gè)子程序組成,分別為RCN、RCN2、RCG和RCE,在計(jì)算過程中只用到RCN、RCN2、RCG.RCN是用Hartree—Fork(HF)方法計(jì)算電子徑向波函數(shù)Pnili=Pi,
(8)
(9)
反對(duì)稱波函數(shù)基組是由N電子體系單組態(tài)構(gòu)成并表示為
ψ=(N!)-1/2∑(-1)Pφ1(rj1)φ2(rj2)φ3(rj3)…φN(rjN)
(10)
(11)
ψb是該組態(tài)的一個(gè)基組,Ek是Hamilton量的本征值.在單電子近似下Hamilton算符為:
(12)
該算符中包含電子動(dòng)能項(xiàng)、電子與原子核相互作用項(xiàng)、自旋軌道相互作用項(xiàng)和電子與電子之間相互作用項(xiàng).利用(10)式中構(gòu)建的非耦合基組可將組態(tài)平均能改寫為
(13)
(14)
2.1 組態(tài)平均能隨電離度的變化為定性分析譜線分布范圍和組態(tài)相互作用強(qiáng)弱,首先計(jì)算釓離子在不同離化度下,下列電子組態(tài)4p54dn+1、4p64dn-14f、4p64dn-15f、4p64dn-15p和4p64dn(n=3~10)的組態(tài)平均能,組態(tài)平均能隨電離態(tài)的變化如圖1所示.計(jì)算得出隨著離化度增大組態(tài)平均能增加的是4p64dn-15p、4p64dn-15f和4p64dn-14f,因此隨著離化度增加,4p64dn-15p、4p64dn-14f和4p64dn-15f組態(tài)躍遷產(chǎn)生的譜線波長分布向短波方向移動(dòng),只有4p54dn-1是減小的,4p64dn組態(tài)躍遷產(chǎn)生的譜線波長,向長波方向移動(dòng).從圖1中可以看出,4p64dn-14f和4p54dn+1的組態(tài)平均能非常接近并出現(xiàn)交叉,在一定程度上反映出這兩組態(tài)間存在較強(qiáng)的組態(tài)相互作用.
圖1 4p54dn+1、4p64dn-14f、4p64dn-15f、4p64dn-15p和4p64dn(n=3~ 10)組態(tài)平均能隨電離態(tài)的變化
圖2 4d-4f, 4d-5f, 4d-5p和4p-4d躍遷平均波長隨電離度的變化
圖3 不同電子溫度下的Gd離子豐度
表1運(yùn)用UTA統(tǒng)計(jì)理論計(jì)算在1 ~ 9 nm的光譜范圍內(nèi),Gd17+~ Gd25+的4d-4f和4d-4p躍遷的平均波長等一系列參數(shù),并運(yùn)用計(jì)算的參數(shù)繪制4d-4f, 4d-5f, 4d-5p和4p-4d躍遷平均波長隨電離度的變化圖,如圖 2所示.使用碰撞輻射方法[17]進(jìn)行等離子體建模運(yùn)算,電子密度取1021cm-3,得到離子豐度隨電子溫度變化的數(shù)據(jù),離子豐度表示該溫度下各個(gè)離子所占的相對(duì)強(qiáng)度大小,如圖3所示,離子豐度從高到低的排列順序?yàn)镚d19+,Gd18+,Gd17+,Gd20+,Gd21+,Gd22+,Gd23+,Gd24+,Gd25+.圖4中將文獻(xiàn)[18]中的144 eV電子溫度下的實(shí)驗(yàn)光譜數(shù)據(jù)與本文中用Cowan計(jì)算得出的Gd躍遷輻射光譜數(shù)據(jù)相比對(duì)應(yīng)良好,并在6.76 nm處提供最大強(qiáng)度.該合成譜是將Gd17+~ Gd25+理論計(jì)算的躍遷譜線按照?qǐng)D3計(jì)算得到的離子豐度的貢獻(xiàn)率合成在一起得到的,使用高斯展寬類型,展寬值為0.02 nm,理論上的合成譜與實(shí)驗(yàn)譜吻合較好.
2.2 計(jì)算不同離化度Gd離子的譜線分布使用Cowan程序計(jì)算Gd離子躍遷時(shí),考慮組態(tài)之間的相互作用,初始組態(tài)包括4p54dn+1,4p64dn-14f和4p64dn-15f,末態(tài)包括4p64dn,4p64dn-15s和4p64dn-15d.在Gd XVIII ~ Gd XXVI范圍躍遷譜線非常密集,產(chǎn)生不可分辨躍遷峰(UTA)[19-20].實(shí)際測(cè)量不同離化度下Gd離子光譜中的各個(gè)譜線時(shí),存在增寬效應(yīng),如儀器增寬,多普勒展寬等,使測(cè)量光譜變寬,因此對(duì)計(jì)算得出的躍遷光譜進(jìn)行高斯線型展寬,展寬值為0.02 nm,與實(shí)驗(yàn)所采用的光譜儀的儀器展寬值一致.下面將分別給出Gd XIX ~ Gd XXVI下單組態(tài)和多組態(tài)(CI)兩種情況下的譜線分布(圖5).
表1 Gd XVIII ~ Gd XXVI光譜譜線范圍內(nèi)4d-4f、4d-5p、4d-5f和4p-4d躍遷的UTA[16]統(tǒng)計(jì)數(shù)據(jù)
圖5 組態(tài)相互作用對(duì)Gd離子4p-4d, 4d-4f, 4d-5p, 4d-5f躍遷譜線分布的影響
從圖5可以看出,不同離化度下4d-4f和4p-4d躍遷產(chǎn)生的UTA譜線重疊較多,并且分布在我們研究的6 ~ 10 nm之間,而4d-5f和4d-5p躍遷產(chǎn)生的UTA譜線沒有重合,且分布在我們研究的波長范圍之外.當(dāng)考慮組態(tài)相互作用(CI)的時(shí)候,譜線分布的范圍變小,相比長波部分的波峰峰度降低或者幾乎消失,整個(gè)譜線向長波方向移動(dòng).在不同離化度下組態(tài)相互作用的強(qiáng)弱也有不同的,對(duì)于4p64dn-15f和4p64dn-15p組態(tài)而言,隨著離化度增加,波長向短波方向移動(dòng),與4p-4d和4d-4f躍遷產(chǎn)生光譜沒有重疊,因此在組態(tài)相互作用的時(shí)候這兩個(gè)組態(tài)對(duì)整個(gè)譜線的分布影響相對(duì)較小,而4d-4f產(chǎn)生的譜線逐漸向著長波方向移動(dòng),4p-4d躍遷產(chǎn)生的譜線逐漸向著短波方向移動(dòng),隨著離化度增加,4p64dn和4p64dn4f組態(tài)之間的重疊部分逐漸增加,因此,兩者之間的組態(tài)相互作用逐漸變強(qiáng).
本文中運(yùn)用Cowan程序從理論上計(jì)算Gd17+~Gd25+躍遷產(chǎn)生的4p-4d,4d-4f,4d-5f和4d-5p的躍遷光譜,分別給出在單組態(tài)和多組態(tài)兩種情況下的譜線分布狀況,通過系統(tǒng)的理論計(jì)算可以得到以下3點(diǎn)結(jié)論:
1)4p64dn-15p,4p64dn-14f和4p64dn-15f的組態(tài)平均能隨著離化度的增加而變大.
2)當(dāng)考慮組態(tài)間相互作用時(shí),譜線分布范圍明顯變窄,整體譜線向著長波方向移動(dòng).
3)對(duì)于本文中研究的釓離子躍遷來說,組態(tài)相互作用對(duì)譜線分布影響最大的2個(gè)組態(tài)是4p54dn+1和4p64dn-14f.
本文中提出的理論結(jié)果將對(duì)亞10 nm EUV光刻光源的研究具有一定參考價(jià)值.