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        直接接觸式膜蒸餾技術(shù)處理模擬放射性廢液

        2020-03-05 05:31:02伊成龍
        核化學(xué)與放射化學(xué) 2020年1期
        關(guān)鍵詞:傳質(zhì)廢液水蒸氣

        文 霞,伊成龍,趙 璇

        1.上海核工程研究設(shè)計院有限公司 工藝系統(tǒng)所,上海 200233;2.清華大學(xué) 核能與新能源技術(shù)研究院,北京 100084

        在大力發(fā)展核電的過程中,核電廠的運(yùn)行以及維修過程會不可避免地產(chǎn)生放射性廢液。據(jù)文獻(xiàn)[1]報道,田灣核電廠每臺機(jī)組每年產(chǎn)生的放射性廢液達(dá)2 350 m3,最大值達(dá)7 100 m3。核電廠產(chǎn)生的放射性廢液需經(jīng)過凈化處理,滿足國家標(biāo)準(zhǔn)(GB 6249-2011)[2]要求后方可排放。目前,核電廠處理低放廢液的常用方法主要包括:蒸發(fā)法、離子交換法、吸附法、化學(xué)絮凝法等。膜技術(shù)因二次廢物產(chǎn)生量少、占地面積小等特點而逐漸成為備受關(guān)注的放射性廢液處理技術(shù)之一[3]。膜蒸餾技術(shù)作為一種將傳統(tǒng)蒸發(fā)與膜技術(shù)相結(jié)合的新型膜技術(shù),與傳統(tǒng)蒸發(fā)相比,在放射性廢液的處理方面具有較為明顯的優(yōu)勢[4]:(1) 膜蒸餾裝置一般在30~70 ℃條件下運(yùn)行,其能耗和對裝置安全性的要求均顯著低于傳統(tǒng)蒸發(fā);(2) 由于低放廢液中大部分放射性核素的非揮發(fā)特性以及膜的攔截作用,該技術(shù)對非揮發(fā)性核素展現(xiàn)出良好的截留效果,去污因子(DF)可達(dá)103~106;(3) 與傳統(tǒng)蒸發(fā)相比,膜蒸餾裝置簡便、占地面積少、經(jīng)濟(jì)性高。因此,膜蒸餾技術(shù)可為放射性廢液的處理提供一種新的思路。

        膜蒸餾裝置根據(jù)冷卻方式的不同可分為四種基本形式:直接接觸式膜蒸餾(DCMD)、氣隙式膜蒸餾(AGMD)、氣掃式膜蒸餾(SGMD)和真空式膜蒸餾(VMD)[4]。目前,已有部分學(xué)者開展了關(guān)于膜蒸餾技術(shù)處理放射性廢液的研究。在Wen等[5]的研究中探究了VMD過程對模擬放射性廢液的處理效果,結(jié)果顯示VMD過程對模擬廢液中的銫、鍶和鈷的DF達(dá)103,且DF隨著真空度的提高,先增大后減小。張瑋玨等[6]采用SGMD裝置對總α活度濃度為868 Bq/L、總β活度濃度為5 610 Bq/L的放射性廢液進(jìn)行處理,經(jīng)處理后的產(chǎn)水中平均總α和β活度濃度分別為0.04 Bq/L和15.13 Bq/L。將膜蒸餾技術(shù)應(yīng)用于放射性廢液處理,除了需要考慮其對放射性廢液的凈化能力以外,還需要充分考慮裝置的可靠性、可維護(hù)維修性以及最終的二次廢物產(chǎn)生量。與其他膜蒸餾方式相比,DCMD裝置最為簡便、運(yùn)行條件溫和,無放射性元素以氣溶膠形態(tài)擴(kuò)散到環(huán)境的風(fēng)險,故運(yùn)行過程中無需增加額外的防護(hù)設(shè)備。因此,本工作擬選取DCMD裝置處理模擬放射性廢液,主要考察裝置在不同運(yùn)行條件下對放射性廢液中典型的元素鍶(Sr)、銫(Cs)、鈷(Co)的去除效果,并探究DCMD過程的傳質(zhì)傳熱機(jī)制,以期為DCMD在放射性廢液處理方面的實際應(yīng)用提供參考。

        1 DCMD過程的傳質(zhì)傳熱機(jī)理

        膜蒸餾過程是一個傳質(zhì)與傳熱相輔相成的復(fù)雜膜分離過程。在DCMD運(yùn)行過程中,膜熱側(cè)料液中的易揮發(fā)組分在膜孔界面形成蒸氣,在膜兩側(cè)因溫度差引起的蒸氣壓差的推動下穿透膜孔,到達(dá)膜冷側(cè)后被循環(huán)冷卻水冷凝并帶出。

        膜蒸餾過程中,水蒸氣在膜孔內(nèi)的傳質(zhì)是在膜兩側(cè)蒸氣壓差的推動下發(fā)生的,因此膜通量(J,L/(m2·h))可用達(dá)西定律表示為:

        J=C(pTfm-pTcm)

        (1)

        式中:Tfm和Tcm分別表示熱側(cè)膜表面溫度和冷側(cè)膜表面溫度,K;C表示傳質(zhì)系數(shù),s/m;p表示水蒸氣分壓,Pa。傳質(zhì)和傳熱過程中,由于邊界層的存在,Tfm與料液主體溫度(Tf)、Tcm與冷卻水主體溫度(Tc)存在一定的差異。

        在測得膜通量以及膜元件料液和冷卻水進(jìn)出口溫度后,根據(jù)公式(2)和公式(3)可獲得Tfm和Tcm[7]:

        (2)

        (3)

        式(2)、(3)中:hf、hm和hc分別表示熱側(cè)邊界層、膜以及冷側(cè)邊界層的傳熱系數(shù),W/(m2·K);Tf和Tc分別表示膜元件料液進(jìn)出口溫度的算術(shù)平均溫度和冷卻水進(jìn)出口溫度的算術(shù)平均溫度,K;ΔH表示水蒸氣的蒸發(fā)潛熱,J/kg。

        根據(jù)塵-氣模型可知,水蒸氣在疏水性膜孔內(nèi)可能的傳質(zhì)機(jī)理主要有三種:努森擴(kuò)散、分子擴(kuò)散以及努森-分子擴(kuò)散機(jī)理。

        當(dāng)膜孔內(nèi)空氣較少、且膜孔孔徑(d)比較小(d<λ,λ:水蒸氣分子的平均自由程)時,水蒸氣分子在膜孔內(nèi)的傳質(zhì)阻力主要來源于其與膜孔壁之間的碰撞。這種情況下,J可表示為式(4)[8]:

        (4)

        其中:C1,以努森擴(kuò)散機(jī)理為主的傳質(zhì)系數(shù),s/m;M,水分子的摩爾質(zhì)量,g/mol;R,氣體常數(shù),8.314 J/(mol·K);r、δ、τ和ε分別表示膜孔的平均半徑(m)、膜厚度(m)、彎曲因子和孔隙率;Δp,膜兩側(cè)的蒸氣壓差,Pa。

        當(dāng)膜孔孔徑較大(d>100λ)時,水蒸氣分子在膜孔內(nèi)的傳質(zhì)阻力主要來源于其與膜孔內(nèi)空氣分子之間的碰撞,此時,J可表示為式(5)[8]:

        (5)

        其中:C2,以分子擴(kuò)散機(jī)理為主的傳質(zhì)系數(shù),s/m;pa,膜孔內(nèi)的空氣壓力,Pa;p,膜孔內(nèi)的總壓力,Pa;D,水分子的擴(kuò)散系數(shù)。

        當(dāng)膜孔孔徑處于過渡范圍,即λ≤d≤100λ時,水蒸氣分子在膜孔內(nèi)的傳質(zhì)可能包含努森擴(kuò)散和分子擴(kuò)散兩種機(jī)理。此時,J可表示為式(6)[8]:

        (6)

        式中:C3,努森-分子擴(kuò)散機(jī)理為主的傳質(zhì)系數(shù),s/m。

        2 實驗部分

        2.1 試劑與儀器

        六水合硝酸鈷(Co(NO3)2·6H2O)、硝酸鍶(Sr(NO3)2)、硝酸銫(CsNO3),分析純,國藥集團(tuán)化學(xué)試劑有限公司;去離子水,電導(dǎo)率小于2 μS/cm,自制;Q 3-2聚丙烯(PP)中空纖維膜,ACCUEL?(Membrana GmbH公司)。

        iCAPQ電感耦合等離子體-質(zhì)譜儀,美國賽默飛世爾科技公司;CP1402電子天平,精度0.01 g,美國奧豪斯科技有限公司。

        2.2 DCMD裝置介紹

        本研究使用膜為疏水性PP中空纖維膜。膜絲內(nèi)徑為0.60 mm,膜厚度(δ)為0.20 mm,平均膜孔徑(d)為0.22 μm,孔隙率(ε)為73%,膜表面的水接觸角(θ)為128°±2.5°。中空纖維膜絲組裝于圓柱形膜元件內(nèi),膜元件的長度(L)為140 mm,內(nèi)徑(D′)為28 mm,每個膜元件內(nèi)裝入膜絲16根,有效膜面積為70 cm2。

        DCMD裝置為自主搭建的實驗裝置,其流程示意圖示于圖1。如圖1所示,在運(yùn)行前,將配制好的料液加入料液罐中,并加熱至所需溫度。穩(wěn)定10 min后,通過料液泵將熱料液泵入膜元件的殼程(膜絲外表面),冷卻水則通過冷卻水泵泵入膜元件的管程(膜絲內(nèi)表面)。料液在膜絲外表面形成的水蒸氣在膜兩側(cè)蒸氣壓差的推動下通過膜孔并到達(dá)膜絲內(nèi)的表面,被膜絲內(nèi)的循環(huán)冷卻水冷凝并帶出膜元件。產(chǎn)生的冷凝液(即產(chǎn)水)到達(dá)冷卻水罐并溢流至產(chǎn)水收集罐中,最后被電子天平實時記錄質(zhì)量。每組實驗連續(xù)運(yùn)行2 h,每隔15 min紀(jì)錄一次產(chǎn)水量,每半小時將產(chǎn)水倒回料液罐,料液罐體積為5 L。在運(yùn)行1、1.5、2 h時,料液和產(chǎn)水分別取10 mL測量元素濃度。

        1——料液罐,2——蠕動泵,3——溫度計,4——膜元件,5——熱交換器,6——冷卻水罐,7——產(chǎn)水收集罐,8——電子天平圖1 DCMD實驗裝置流程示意圖Fig.1 Schematic diagram of DCMD experimental set-up

        料液中Sr(Ⅱ)、Co(Ⅱ)和Cs(Ⅰ)的質(zhì)量濃度均為200 mg/L,采用去離子水配制。料液和產(chǎn)水中Sr(Ⅱ)、Co(Ⅱ)、Cs(Ⅰ)的濃度均采用電感耦合等離子體-質(zhì)譜儀測量。

        2.3 主要考察指標(biāo)

        裝置的產(chǎn)水速率采用膜通量(J)來衡量,J表示單位時間單位膜面積的產(chǎn)水量(L/(m2·h)) ,如式(7)所示:

        (7)

        式中:Δt,時間間隔,h;Δm,Δt時間內(nèi)收集的產(chǎn)水質(zhì)量,kg;S,膜元件內(nèi)的有效膜面積,m2;ρ,產(chǎn)水的密度,kg/L。

        裝置對目標(biāo)元素的截留效果采用去污因子(DF)來衡量。DF表示料液中元素濃度與產(chǎn)水中元素濃度之比,具體表示為:

        (8)

        上式中ρf和ρc分別表示料液和產(chǎn)水中目標(biāo)元素的質(zhì)量濃度,μg/L。由于DCMD過程的產(chǎn)水與冷卻水相混合,因此,產(chǎn)水中目標(biāo)元素的實際濃度需要通過物料衡算獲得,具體如式(9)。

        (9)

        其中:ρc,n和ρc,n-1分別表示在第n次和第n-1次的產(chǎn)水樣品中測得的元素質(zhì)量濃度,μg/L;V0和Vn分別表示產(chǎn)水管路中固有的冷卻水體積和第n次取樣間隔內(nèi)的產(chǎn)水體積,L。

        3 結(jié)果與討論

        3.1 運(yùn)行條件對膜通量的影響

        主要考察了四個運(yùn)行參數(shù)料液溫度(Tf)、料液流速(vf)、冷卻水溫度(Tc)以及冷卻水流速(vc)分別對膜通量(J)的影響,結(jié)果示于圖2。圖2中的膜通量是運(yùn)行2 h內(nèi)的平均膜通量,誤差棒表示運(yùn)行2 h,每隔15 min記錄的產(chǎn)水量根據(jù)式(7)計算的膜通量的標(biāo)準(zhǔn)偏差。從圖2(a)可以看出,當(dāng)固定其他三個運(yùn)行參數(shù)不變,Tf由40 ℃升高至80 ℃時,J由2.7 L/(m2·h)呈指數(shù)形式增加至29.2 L/(m2·h)。此現(xiàn)象主要是由于水蒸氣的分壓與溫度呈指數(shù)關(guān)系所致。與之相反,冷卻水的溫度增加導(dǎo)致膜通量顯著下降(圖2(b))。當(dāng)Tc由10 ℃增加至30 ℃時,J由19.9 L/(m2·h)降低至16.7 L/(m2·h)。冷卻水溫度的變化會影響膜兩側(cè)的溫差大小,當(dāng)冷卻水溫度增加時,膜兩側(cè)溫度差減小,進(jìn)而使得膜兩側(cè)壓差降低,膜通量減小。此外,冷卻水溫度的升高可能會導(dǎo)致其對跨膜的水蒸氣冷凝效果不夠,進(jìn)而導(dǎo)致膜通量降低。料液流速和冷卻水流速的改變均導(dǎo)致膜通量有一定程度的增加。從圖2(c)可知,當(dāng)料液流速由425 mL/min增加至1 450 mL/min時,膜通量由18.6 L/(m2·h)增加至20.2 L/(m2·h);當(dāng)冷卻水流速從75 mL/min增加至600 mL/min時,膜通量由19.3 L/(m2·h)增加至21.1 L/(m2·h)(圖2(d))。流速的增加導(dǎo)致DCMD過程的膜通量增加主要是由于在本研究的流速范圍內(nèi),流體在流道內(nèi)均呈層流狀態(tài)(Re<2 100),流速的增加可有效地降低膜的邊界層厚度,進(jìn)而降低傳質(zhì)阻力[9]。此外,料液流速的增加會使得料液在膜元件內(nèi)的停留時間減少,最終表現(xiàn)為料液在膜元件內(nèi)的平均溫度升高,膜兩側(cè)溫差增加,膜通量增加。同樣,冷卻水流速增加會使得冷卻水在膜元件內(nèi)的平均溫度降低,進(jìn)而使得膜通量增加。此外,從四個運(yùn)行參數(shù)的變化對膜通量的影響程度可知,料液溫度的變化對膜通量的影響最為明顯。因此,提高料液溫度是提高DCMD過程膜通量最有效的辦法。

        (a)——Tf的影響,(b)——Tc的影響,(c)——vf的影響,(d)——vc的影響圖2 運(yùn)行參數(shù)對DCMD過程膜通量的影響Fig.2 Effect of operation conditions on permeation flux in DCMD process

        3.2 DCMD過程的傳質(zhì)傳熱機(jī)制機(jī)理

        ■——實驗,●——努森擴(kuò)散機(jī)理擬合,▲——分子擴(kuò)散機(jī)理擬合,○——努森-分子擴(kuò)散機(jī)理擬合圖3 模型擬合的膜通量以及實驗?zāi)ね侩S料液溫度的變化情況Fig.3 Variation of permeation flux in model fitting and experiment with different feed temperatures

        3.2.1水蒸氣分子在膜孔內(nèi)的傳質(zhì)機(jī)制機(jī)理 在DCMD過程中,水蒸氣分子在膜孔內(nèi)傳質(zhì)的可能機(jī)理主要有三種:努森擴(kuò)散、分子擴(kuò)散以及努森-分子擴(kuò)散。根據(jù)上述三種可能的機(jī)理擬合計算的膜通量隨料液溫度的變化情況示于圖3。為更直觀地衡量擬合結(jié)果與實驗結(jié)果之間的偏差,采用平均相對偏差(ARE)來衡量,具體公式如式(10):

        (10)

        式中:Jex表示實驗?zāi)ね浚琂th表示根據(jù)不同跨膜傳質(zhì)機(jī)理擬合所得膜通量,n表示數(shù)據(jù)點個數(shù)。三種不同擬合機(jī)理所得的膜通量與實驗?zāi)ね康腁RE如圖3中表格所示。從ARE結(jié)果可知,考察的三種跨膜傳質(zhì)機(jī)理中,努森-分子擴(kuò)散機(jī)理擬合計算所得的膜通量與實驗?zāi)ね孔顬榻咏?,ARE值僅為4%。此結(jié)果表明,水蒸氣分子在膜孔內(nèi)的傳質(zhì)機(jī)理以努森-分子擴(kuò)散為主。水蒸氣分子在膜孔內(nèi)以何種機(jī)制為主, 可通過膜孔徑尺寸d與水分子平均自由程λ的大小關(guān)系來初步判斷。水分子在空氣中的平均自由程λ可用公式(11)表示[10]。

        (11)

        其中:kB是玻爾茲曼常數(shù),1.380×1023J/K;σw和σa表示水蒸氣和空氣的平均碰撞直徑,分別為2.641×10-10m和3.711×10-10m;pT為膜孔內(nèi)氣體總壓力,Pa,DCMD過程為大氣壓;mw和ma分別表示水和空氣的摩爾質(zhì)量,g/mol。 根據(jù)式(11)計算可得,在 40~80 ℃范圍內(nèi), 水蒸氣分子的平均自由程(λ) 在 0.11~0.12 μm 范圍內(nèi)。 本研究中采用的 PP 中空纖維膜的平均孔徑為 0.22 μm,即屬于λ

        3.2.2DCMD過程的傳質(zhì)阻力 在無明顯膜污染的情況下,DCMD過程的傳質(zhì)阻力(Rt)主要來自于三方面:熱側(cè)邊界層的阻力(Rf)、膜本身的阻力(Rm)以及冷側(cè)邊界層的阻力(Rc),分別可通過公式(12)—(15)計算得出[12]。

        (12)

        (13)

        (14)

        Rt=Rf+Rm+Rc

        (15)

        其中:pf、pfm、pc、pcm分別表示在Tf、Tfm、Tc以及Tcm下的水蒸氣分壓,Pa。各個傳質(zhì)阻力分量以及總的傳質(zhì)阻力隨著料液溫度的變化情況列入表1。從表1可知,此DCMD過程的Rt均比較大,達(dá)1 000 Pa·m2·h/kg以上。Rf、Rm、Rc三個分量中,Rm的值最大,Rf次之,Rc最小。結(jié)果表明,此DCMD過程中,傳質(zhì)阻力主要來自于膜本身,其次是熱側(cè)邊界層,冷側(cè)邊界層的傳質(zhì)阻力較小。此外,料液溫度的升高對三者的影響趨勢不同。其中,Rf隨著料液溫度的升高而增加,Rm則隨著料液溫度的降低而減小,Rc則無明顯變化。料液溫度的升高導(dǎo)致Rf增加主要是由于料

        表1 DCMD過程的傳質(zhì)阻力隨料液溫度的變化情況Table 1 Variation of mass transfer resistance in DCMD processe with different feed temperatures Pa·m2·h/kg

        3.2.3DCMD過程的溫度極化現(xiàn)象 溫度極化現(xiàn)象的存在是導(dǎo)致膜蒸餾過程的實際膜通量比理論膜通量小的主要原因之一。本研究中,DCMD過程的溫度極化程度采用溫度極化系數(shù)(TPC)來衡量,TPC可通過公式(16)計算而得。

        (16)

        TPC隨著料液溫度的變化情況列入表2。從表2可知,TPC值為0.46~0.66,遠(yuǎn)小于1,說明此DCMD過程的溫度極化現(xiàn)象較為嚴(yán)重。此外,隨著料液溫度的增加,TPC減小。此現(xiàn)象也主要是

        表2 DCMD過程的TPC隨料液溫度的變化情況Table 2 Variation of TPC in DCMD process with different feed temperatures

        由于料液溫度的增加,導(dǎo)致料液側(cè)的水蒸氣跨膜攜帶的蒸發(fā)潛熱以及熱傳導(dǎo)的熱量均增加所致。

        3.3 運(yùn)行參數(shù)對目標(biāo)元素截留效果的影響

        DCMD過程中,主要的四個運(yùn)行參數(shù):料液溫度(Tf)、料液流速(vf)、冷卻水溫度(Tc)以及冷卻水流速(vc)的改變對目標(biāo)元素Co(Ⅱ)、Sr(Ⅱ)和Cs(Ⅰ)的DF值的影響示于圖4(誤差棒表示運(yùn)行2 h內(nèi)所取3個樣品的DF值的標(biāo)準(zhǔn)偏差)。由圖4可知:DCMD過程對目標(biāo)元素Co(Ⅱ)、Sr(Ⅱ)和Cs(Ⅰ)均具有良好的截留效果,在本研究的考察范圍內(nèi),DF值均保持在105以上;其次,DCMD過程對三種不同的元素?zé)o明顯的選擇性。此外,在本研究考察的料液溫度(40~80 ℃)、冷卻水溫度(10~30 ℃)、料液流速(425~1 450 mL/min)和冷卻水流速(75~600 mL/min)范圍內(nèi),運(yùn)行條件的改變對三種元素的截留效果均未表現(xiàn)出明顯的影響,DF值始終保持在105以上。

        4 結(jié) 論

        (1) DCMD過程的膜通量受料液溫度、冷卻水溫度、料液流速以及冷卻水流速的影響,其中料液溫度對膜通量的影響最為明顯。當(dāng)料液溫度由40 ℃升高至80 ℃時,膜通量由2.7 L/(m2·h)增加至29.2 L/(m2·h)。

        (2) 此DCMD過程中,水蒸氣分子在膜孔內(nèi)的擴(kuò)散以努森-分子擴(kuò)散為主,跨膜傳質(zhì)阻力主要來自于膜本身,且溫度極化現(xiàn)象較為嚴(yán)重。

        (3) DCMD過程對模擬廢液中的目標(biāo)元素Co(Ⅱ)、Sr(Ⅱ)和Cs(Ⅰ)均展現(xiàn)出良好的截留效果,DF值達(dá)105以上,且截留效果受運(yùn)行條件的影響較小。

        DCMD技術(shù)為放射性廢液的處理提供了一種新的選擇。

        ——Co(Ⅱ),——Sr(Ⅱ),——Cs(Ⅰ)(a)——料液溫度,(b)——冷卻水溫度,(c)——料液流速,(d)——冷卻水流速圖4 運(yùn)行參數(shù)對元素截留效果的影響Fig.4 Effect of operation conditions on rejection of elements

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