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        隧道磁阻電流傳感器的設(shè)計研究

        2020-01-06 06:41:44張蓬鶴李求洋張衛(wèi)欣劉崇偉
        儀表技術(shù)與傳感器 2019年12期
        關(guān)鍵詞:傳感元件磁場

        張蓬鶴,李求洋,張衛(wèi)欣,劉崇偉

        (1.中國電力科學(xué)研究院有限公司,北京 100192;2.國網(wǎng)天津市電力公司電力科學(xué)研究院,天津 300384)

        0 引言

        電流傳感器主要包括電流互感器、羅氏線圈、霍爾傳感器等,這些傳感器存在明顯的局限性。電流互感器只能測試交流電流,磁芯存在飽和風(fēng)險[1];羅氏線圈不能測直流電流,線圈制作繁瑣[2];霍爾器件溫度特性較差[3-4]。隧穿磁阻(tunneling magnetoresistance,TMR)傳感器具有靈敏度高、溫度漂移小、線性誤差小、動態(tài)范圍寬的優(yōu)良特性,適合應(yīng)用于電流測量領(lǐng)域。文獻[5-6]闡述了TMR效應(yīng)的有效測量方向是TMR器件的表面方向,即TMR傳感器只能檢測平行于其表面的磁場。然而,載流導(dǎo)線布置于TMR傳感器的正上方,會造成載流導(dǎo)線與TMR傳感器之間的距離難以控制且不易于集成化[7]。

        本文設(shè)計了一種新型Z軸TMR電流傳感器,其靈敏方向垂直于芯片表面,通過PCB布線控制載流導(dǎo)線與TMR傳感器的距離,實現(xiàn)與TMR傳感器在同一平面上的電流測量。Z軸TMR電流傳感器將TMR元件放置為梯度結(jié)構(gòu),通過在磁隧道結(jié)上方沉積一層高磁導(dǎo)率的聚磁結(jié)構(gòu)扭轉(zhuǎn)外加磁場方向,實現(xiàn)靈敏方向垂直于芯片表面的設(shè)計目標。對測量數(shù)據(jù)進行溫度補償和線性補償后,測試結(jié)果表明TMR電流傳感器在0.1~60 A測量范圍內(nèi),測量精度達到1%。

        1 TMR元件設(shè)計

        TMR元件的最小結(jié)構(gòu)單元是磁隧道結(jié)(magnetic tunnel junction,MTJ),基本結(jié)構(gòu)如圖1所示。其基本結(jié)構(gòu)是3層膜結(jié)構(gòu),分別為隧道層、自由層、被釘扎層。被釘扎層的磁矩方向固定,隧道層是可被隧穿的?級厚度的鎂或鋁氧化物,自由層是高磁導(dǎo)率的鐵磁材料,其磁化方向受外界磁場的調(diào)制[8]。自由層的磁矩和被釘扎層的磁矩之間的夾角,決定了磁隧道結(jié)的磁電阻R。

        圖1 磁隧道結(jié)基本結(jié)構(gòu)

        自由層的磁化方向取決于系統(tǒng)的最小能量,系統(tǒng)能量包括:被測磁場提供的能量、偏置磁場提供的能量、退磁場能以及各向異性能。如圖2所示,當有被測磁場Ha時,自由層的磁矩M穩(wěn)定在某一角度θ,那么自由層和被釘扎層磁矩夾角為90°-θ,此時磁電阻R滿足式 (1):

        (1)

        式中:C1和C2為與TMR薄膜有關(guān)的常數(shù)。

        圖2 磁矩方向

        通過測量磁電阻R的值,即可計算出外界磁場和被測電流的大小。

        將4個靈敏方向不同的磁電阻連接成全橋結(jié)構(gòu),如圖3所示,圖中箭頭代表各磁電阻的靈敏方向。R1和R4的靈敏方向一致,反向平行于R2和R3靈敏度。當有適當?shù)耐饧哟艌鰰r,全橋結(jié)構(gòu)的輸出電壓與外界磁場成線性關(guān)系[9]。

        圖3 全橋結(jié)構(gòu)及其輸出曲線

        2 TMR傳感器原理及設(shè)計

        2.1 Z軸TMR傳感器原理

        為使被測磁場方向改變至TMR傳感器的靈敏方向,本文應(yīng)用聚磁結(jié)構(gòu)的設(shè)計方法,在MTJ上方沉積一層聚磁結(jié)構(gòu)扭轉(zhuǎn)外加磁場的方向。其結(jié)構(gòu)側(cè)視圖及磁場扭轉(zhuǎn)方向示意如圖4所示。圖中2個磁隧道結(jié)MTJ1和MTJ2對稱放置于聚磁結(jié)構(gòu)的下方兩側(cè),磁場流線代表磁場的方向。當有垂直方向的外加磁場時,在聚磁結(jié)構(gòu)的邊緣,磁場方向會發(fā)生改變,在MTJ位置存在平行于MTJ表面方向的磁場分量。2個磁隧道結(jié)由于相對聚磁結(jié)構(gòu)位置對稱,其表面水平磁場分量大小相等、方向相反。

        圖4 聚磁結(jié)構(gòu)改變磁場方向

        為了提高Z軸傳感器的靈敏度,一方面需要提高MTJ自身的磁場響應(yīng),另一方面需要對聚磁結(jié)構(gòu)進行優(yōu)化設(shè)計,使得在一定的外加磁場下,提高平行于MTJ表面方向的磁場分量。

        2.2 MTJ的磁場響應(yīng)

        圖5 MTJ靈敏度隨長寬比的變化

        由圖5可以看出,MTJ的長寬比值越小,靈敏度越高。為了減小器件體積、降低成本、降低功耗,應(yīng)盡量減小線寬。根據(jù)目前的磁電阻器件MEMS工藝水平,本文將線寬設(shè)計為2 μm,即MTJ的寬度尺寸為2 μm。MTJ長寬比過小會引起較大磁滯,且理論分析MTJ磁滯影響非常困難,本文采用長寬比為4進行試制,采用試驗驗證的方式確定長寬比是否合適。

        3 TMR電流傳感器設(shè)計

        3.1 MTJ與聚磁結(jié)構(gòu)的垂直距離

        聚磁結(jié)構(gòu)位于MTJ的上方,二維有限元仿真得到的水平磁場結(jié)果如圖6所示??梢钥闯鼍嚯x聚磁結(jié)構(gòu)的垂直距離越近,水平磁場分量越大。因此,為了提高磁場強度,垂直距離應(yīng)越小越好。

        圖6 NiFe聚磁效果的二維有限元仿真

        NiFe層通常厚度較大,工藝上多采用電鍍的方法構(gòu)建,即在MTJ薄膜的上表面增加絕緣層后再電鍍NiFe。為了保證電氣絕緣和工藝可控性,本文設(shè)置MTJ與聚磁結(jié)構(gòu)的垂直距離為1 μm,盡可能大地提高MTJ靈敏度。

        3.2 聚磁結(jié)構(gòu)間距、厚度和寬度

        對于聚磁結(jié)構(gòu)來說,聚磁能力最主要的指標是將垂直磁場轉(zhuǎn)變?yōu)樗酱艌龅男Ч?,聚磁結(jié)構(gòu)的幾何尺寸不同直接影響聚磁能力的大小。由于TMR傳感器由眾多個MTJ構(gòu)成,因此聚磁結(jié)構(gòu)采用并聯(lián)形式,形成聚磁陣列。圖7為聚磁陣列的三維仿真模型,X和Z方向分別為聚磁結(jié)構(gòu)的厚度和寬度方向,外加磁場方向為Z軸方向。

        圖7 聚磁陣列的仿真模型

        在Z軸方向施加100 Gs的磁場,仿真比較不同結(jié)構(gòu)尺寸下的聚磁結(jié)構(gòu)性能。選擇圖7中Y=0,Z=0這一條直線,比較不同聚磁結(jié)構(gòu)厚度和寬度時,垂直磁場在該直線上的水平磁場分布。對于不同寬度下的聚磁結(jié)構(gòu),厚度對聚磁結(jié)構(gòu)產(chǎn)生的水平磁場分量影響如圖8所示,圖8中1 Gs=10-4T。

        (a)聚磁結(jié)構(gòu)寬度為5 μm

        (b)聚磁結(jié)構(gòu)寬度為10 μm

        (c)聚磁結(jié)構(gòu)寬度為20 μm圖8 聚磁結(jié)構(gòu)厚度對水平磁場強度的影響

        從圖8可見,聚磁效果隨著厚度的增加而逐步增強,當厚度超過10 μm時,聚磁效果隨著厚度的增加反而減弱。此外,聚磁層厚度越大,對電鍍工藝的要求越高。因此本文將聚磁層的厚度設(shè)計為10 μm。由圖8可知,隨著聚磁結(jié)構(gòu)寬度的增加,聚磁的效果略有減小,但是幾乎可以忽略。而在工藝上,聚磁層的寬度應(yīng)不小于聚磁層厚度;但寬度越大,器件的尺寸越大,器件成本增加,因此本文將聚磁結(jié)構(gòu)的寬度同樣設(shè)計為10 μm。

        在相鄰2個聚磁結(jié)構(gòu)之間,至少放置2個MTJ用于磁場強度測量。MTJ的寬度為2 μm,聚磁結(jié)構(gòu)的寬度為10 μm,且需留有至少1 μm的絕緣距離,因此相鄰2個聚磁結(jié)構(gòu)的間距為設(shè)置為15 μm。

        3.3 MTJ中心到聚磁結(jié)構(gòu)邊緣距離

        基于以上聚磁結(jié)構(gòu)和MTJ尺寸,進行MTJ中心到聚磁結(jié)構(gòu)邊緣距離的設(shè)計。圖9顯示了圖7中聚磁結(jié)構(gòu)下方直線Y=0,Z=0位置處的水平磁場分布,灰色框表示聚磁結(jié)構(gòu)的位置。從圖9可知,水平磁場最大的位置位于聚磁結(jié)構(gòu)的外側(cè),距離聚磁結(jié)構(gòu)邊緣大約0.5 μm位置。

        圖9 聚磁結(jié)構(gòu)和磁場分布的空間位置關(guān)系

        4 TMR電流傳感器的制備和測試

        4.1 TMR元件的制備

        TMR元件的試制采用TMR濺射鍍膜工藝平臺,經(jīng)過基片清洗、鍍膜、高溫退火、刻蝕、電鍍NiFe等工序,制備出了Z軸TMR元件樣品。TMR元件的制備過程如下:利用濺射鍍膜工藝,在硅基板上依次沉積電極層、種子層、人工反鐵磁層、MgO隧道層、自由層和上電極層;利用刻蝕的方法,制作出磁隧道結(jié);在上電極層構(gòu)建電氣互連結(jié)構(gòu),實現(xiàn)隧道結(jié)的互連;將裸晶圓放置在引線框上,對位安裝、打線、注塑、脫模,最終形成TMR元件。

        圖10是研制得到的TMR元件隨外加磁場的輸出響應(yīng)曲線,其輸入電壓為5 V。可以計算得到該TMR元件的靈敏度為4.4 mV·V-1·Oe-1,在±15 Gs磁場強度范圍內(nèi),傳感器線性程度很高。

        圖10 TMR元件輸出響應(yīng)曲線

        由于電流與磁場強度是線性關(guān)系,且2個相對聚磁結(jié)構(gòu)對稱位置的傳感元件a和b,傳感得到的磁場方向相反。因此,傳感器a和b位置處的磁場滿足如下表達式:

        Ha=0.2I+Hd
        Hb=-0.2I+Hd

        (2)

        式中:Ha,Hb分別為傳感元件a和b位置處的磁場;I為被測導(dǎo)線中的電流;Hd為外部干擾磁場。

        由于2個傳感元件位置較近,地球磁場或者外部干擾磁場在2個傳感元件位置處產(chǎn)生的分量可以認為是相同的。則輸入電壓為1 V時,傳感元件a和b的輸出電壓(單位: mV)表達式為:

        Va=4.4×(0.2I+Hd)
        Vb=4.4×(-0.2I+Hd)

        (3)

        傳感器輸出電壓為

        V0=Va-Vb=8.8×0.2×I

        (4)

        由式 (4)可見,通過將2個傳感元件構(gòu)成梯度的方式,可以免除外界干擾磁場的影響。

        4.2 應(yīng)用電路設(shè)計與測試

        利用TMR元件構(gòu)成的電流傳感器模塊如圖11所示,電流導(dǎo)線分布于PCB的正面和背面,TMR元件位于PCB正面,其靈敏部位與待測電流導(dǎo)線的距離設(shè)定為固定值5 mm。由于TMR元件輸出信號較小,應(yīng)用高精度儀表運算放大器將傳感信號放大。

        圖11 電路實物照片

        表1為本文設(shè)計的TMR電流傳感器模塊實際測試結(jié)果。電流傳感芯片在進行溫度補償和非線性補償校正后讀取的數(shù)據(jù)比校正前的數(shù)據(jù)精度有了明顯的提高。在校正之后,電流測量誤差在1%以內(nèi)。電流傳感器對小電流的測量誤差稍大,原因是由于此時元件的噪聲信號、放大電路的噪聲和非線性相比測試信號不可忽略,引起測量誤差。

        5 結(jié)束語

        本文設(shè)計了一種具有聚磁結(jié)構(gòu)的Z軸TMR元件,并使用該TMR元件實現(xiàn)了一種電流測量方法,證實了TMR元件用于電流傳感的可行性。在對測量數(shù)據(jù)進行溫度補償和線性補償后,TMR電流傳感器在目標測量范圍內(nèi)達到了1%的測量精度。測試結(jié)果驗證了TMR電流傳感器在電流測量領(lǐng)域內(nèi)具有較好的應(yīng)用前景。

        表1 TMR電流傳感器測試數(shù)據(jù)

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