林金堵
本刊名譽主編
自從印制電路板(PCB)誕生以來,由于銅導(dǎo)體與絕緣(介質(zhì))層之間結(jié)合力不高、熱膨脹系數(shù)差別大,極易發(fā)生分層等故障。為了克服這個問題,長期以來最傳統(tǒng)的方法是采用增加銅導(dǎo)體表面粗糙度技術(shù)來實現(xiàn)。這種解決方法,從本質(zhì)上來說,就是增加銅與絕緣介質(zhì)層之間接觸面積來提高結(jié)合強度,很顯然這是一種增加接觸面積的物理方法。隨著科技進步和信息技術(shù)的發(fā)展,PCB正在迅速走向高密度化和高頻(或高速)化,特別是信號傳輸高頻(高速)化的發(fā)展與進步,在PCB中銅導(dǎo)體的的趨膚效應(yīng)和高密度化發(fā)展帶來的銅導(dǎo)線尺寸細(xì)小化(導(dǎo)線的粗糙度占比率越來越大),因此高頻或高速的信號傳輸會越來越多在粗糙度表面層進行,其結(jié)果是使信號傳輸在粗糙度層內(nèi)發(fā)生“駐波”、“反射”等造成傳輸信號損失或“失真”(信號衰減),嚴(yán)重時會造成傳輸信號失敗。因此,在PCB內(nèi)銅導(dǎo)線表面采用粗糙化來提高結(jié)合強度已不合時宜,遇到嚴(yán)重挑戰(zhàn)!
在PCB中,結(jié)合強度(力)要求是增加銅導(dǎo)體表面粗糙度,而從高頻信號傳輸要求是減少銅導(dǎo)體表面粗糙度,這對矛盾的主要方面就是銅表面粗糙度。在PCB中必須滿足高密度化和信號高頻(高速)化速度發(fā)展要求,因此解決無粗糙度的銅表面與絕緣介質(zhì)層之間粘結(jié)并實現(xiàn)符合(規(guī)定)要求的結(jié)合強度(力)的最佳方案是用化學(xué)方法取代傳統(tǒng)的增加表面粗糙度的物理方法,如:在銅與絕緣(介質(zhì))層之間加入某種極薄的“共用”粘結(jié)層,它的一面能與銅表面進行反應(yīng),而另一面能與絕緣(介質(zhì))層“聚合”或“熔合”(或相容性),這樣的 “共用”粘結(jié)層可以牢固地把銅導(dǎo)體與絕緣(介質(zhì))層結(jié)合在一起,提高或達到其兩者之間結(jié)合強度的要求,同時也提供無粗糙度銅表面利于高頻(高速)信號的傳輸發(fā)展。
總體來說,傳統(tǒng)的銅表面粗化(輪廓)工藝技術(shù)受到挑戰(zhàn),挑戰(zhàn)的結(jié)果必然會催生新的工藝技術(shù)的誕生、成長和發(fā)展,這是事物的發(fā)展規(guī)律。 因此,在PCB中微、無粗糙度銅導(dǎo)線與絕緣介質(zhì)層之間的結(jié)合,采用化學(xué)方法取代傳統(tǒng)物理結(jié)合方法將會走上新階段,也是今后PCB發(fā)展和努力的方向!
在PCB中導(dǎo)體銅是與絕緣介質(zhì)層粘結(jié)在一起的,由于光滑的銅表面與絕緣樹脂的物理接觸為主的結(jié)合強度較低,加上絕緣樹脂的熱膨脹系數(shù)遠(yuǎn)大于銅的熱膨脹系數(shù),因此銅導(dǎo)體與絕緣樹脂之間在使用環(huán)境條件下易于發(fā)生分離(層)、起泡等問題,采用具有粗糙度銅表面來增加導(dǎo)體銅與絕緣樹脂面積的接觸以,提高其結(jié)合強度。
傳統(tǒng)的覆銅箔層壓板或PCB中導(dǎo)體銅與絕緣樹脂介質(zhì)層之間的表面積接觸是用來滿足結(jié)合力。由于銅導(dǎo)體平整表面與絕緣樹脂介質(zhì)之間結(jié)合強度不高,影響PCB產(chǎn)品長期可靠性工作,而單位面積內(nèi)有粗糙度表面比無粗糙度表面的“面積”要大得多,因此長期以來主要是采用增加銅表面粗糙度(輪廓)的方法來提高銅導(dǎo)體與絕緣樹脂之間的結(jié)合強度。如按標(biāo)準(zhǔn)(IPC或GB):銅箔的光面粗糙度應(yīng)≤0.43 μm,而粗糙度面是按覆銅箔層壓板內(nèi)與樹脂之間結(jié)合強度要求或信號傳輸頻率要求而采用不同程度的粗糙度(如標(biāo)準(zhǔn)型、低輪廓型、甚低輪廓型等)。
由于在PCB中信號傳輸不斷地高頻(或高速)化、趨膚效應(yīng)越來越嚴(yán)重化(見表1[1]),已經(jīng)明顯影響著信號傳輸效果。因此,不僅要求覆銅箔板的銅導(dǎo)體表面的粗糙度越來越?。ㄒ姳?[2]),而且其發(fā)展方向是無粗糙度(無輪廓)的銅表面要求。
從表1中可看出,隨著信號傳輸高頻化或高速數(shù)字化的發(fā)展與進步,信號在導(dǎo)體中的信號傳輸表面厚度越來越薄,當(dāng)信號傳輸高頻化或高速數(shù)字化的發(fā)展達到一定數(shù)值(10 GHz)以后,傳統(tǒng)的導(dǎo)體表面粗糙度便遇到了挑戰(zhàn)。因此,必須根據(jù)信號傳輸頻率和高速數(shù)字化程度來制造合適的粗糙度銅表面,才能滿足要求。
由于信號傳輸高頻(或高速)化的發(fā)展,要求覆銅箔層壓板的銅箔粗糙面的粗糙度不斷減少,并規(guī)定出相應(yīng)的標(biāo)準(zhǔn)(如表2所示[2])。
表1 信號傳輸頻率與趨膚效應(yīng)(表面銅層厚度)的關(guān)系
從表2中看到,即使選定V(甚低粗糙度)級的覆銅箔層壓板(特別是毛面輪廓)也不能滿足高頻(高速)化,特別是≥1G的傳輸信號(見表1)的要求。因此,覆銅箔層壓板產(chǎn)業(yè)要與印制電路板產(chǎn)業(yè)一起進行創(chuàng)新、轉(zhuǎn)型、發(fā)展,才能滿足信息技術(shù)、電子工業(yè)發(fā)展的要求??上驳氖?,目前我國采用化學(xué)方法(加入氧化石墨烯材料)已經(jīng)得到毛面極低粗糙度(輪廓)和結(jié)合強度的覆銅箔層壓板產(chǎn)品[3]。
在PCB制造中銅導(dǎo)線具有“三面”粗糙度(另一毛面是 由CCL基板決定),約占3/4影響著高頻信號傳輸性能的主要部分,因此在PCB導(dǎo)線的制造過程中控制其表面粗糙度最為關(guān)鍵。從表1中可以看出,要根據(jù)PCB中導(dǎo)線傳輸信號頻率高、低等要求來選擇基材,制定合適制造工藝以控制導(dǎo)線表面的粗糙度,在信號傳輸高頻化(特別是10 G以上頻率)高速發(fā)展的今天,無粗糙度(輪廓)銅導(dǎo)線課題已經(jīng)非常突出!
傳統(tǒng)的提高銅表面粗糙度的方法主要采用化學(xué)蝕刻、微蝕刻等技術(shù)來實現(xiàn)的,如黑氧化技術(shù)、微蝕刻(硫酸+過氧化氫、過硫酸鈉等微蝕刻液)技術(shù)等可以得到各種等級的銅表面粗糙度,但是這些傳統(tǒng)方法已經(jīng)不能滿足目前和今后高頻(高速)化信號傳輸?shù)囊蟆?/p>
為了解決(或提高)銅導(dǎo)線(體)光面與絕緣介質(zhì)層之間的 結(jié)合強度,可在若之間加入一種“自整合”單分子層(膜),一面(端)能與銅進行化學(xué)反應(yīng)(或化學(xué)改性、化學(xué)吸附),另一面(端)能與絕緣介質(zhì)進行“聚合”或相容,從而達到既滿足結(jié)合強度要求,又形成極低、或無粗糙度(輪廓)的目的。
“自整合”單分子層(膜)在某些文獻中稱為自整合單分子膜(SAMs,Self-Assembled Monolayers,有人稱為“自組裝”技術(shù))。這種物質(zhì)應(yīng)能溶解于水溶液(可加入表面活性劑利于快速覆蓋銅表面),從而可達到滿足環(huán)保、成膜快速、成本低廉和易于批量生產(chǎn)的要求。這種含有“自整合”單分子的水溶液在銅存在(浸入)時,它的一端能轉(zhuǎn)向銅(化學(xué)親和力吸附、或化學(xué)反應(yīng)或化學(xué)改性等), 另一端能與絕緣介質(zhì)發(fā)生聚合、復(fù)合反應(yīng)或相熔合作用,這樣的結(jié)果將通過“自整合”單分子層把銅導(dǎo)體與絕緣介質(zhì)強有力結(jié)合。同時,“自整合”單分子層還必須具有耐熱能力,如其熱分解溫度必須遠(yuǎn)大于PCB焊接溫度(如≥350 ℃)。這樣的物質(zhì)很像高溫型的有機可焊性保護劑(HT-OSPs)、氧化石墨烯(GO,Graphite Oxide)等類型的材料。
當(dāng)銅導(dǎo)線浸入“自整合”單分子的水溶液時,“自整合”單分子(或稱粘結(jié)劑)的一端會快速吸附(如靜電力等)在銅表面,進行化學(xué)反應(yīng)或化學(xué)吸附,形成較牢固的單分子層的薄膜。由于這種單分子薄膜僅一端與銅進行化學(xué)反應(yīng)(或化學(xué)吸附)等,而另一端能與有機化合物(如高分子的環(huán)氧樹脂等)進行聚合反應(yīng)或相熔復(fù)合,形成了非常有規(guī)律排列的單分子層 ,經(jīng)過烘干后便成為功能性粘結(jié)層。這種功能性粘結(jié)層與樹脂類結(jié)合的一端,要根據(jù)PCB等采用樹脂類型的不同而不同,或者說要根據(jù)應(yīng)用場合(對象和條件)不同而選擇不同的“自整合”單分子結(jié)構(gòu),才能達到好的聚合或復(fù)合效果以滿足結(jié)合強度要求!
表2 覆銅箔層壓板用銅箔表面輪廓(粗糙度)要求
在銅光面(極低或無粗糙度)上實現(xiàn)功能性粘結(jié)層的機理示于(如圖1中[3])。
圖1 “自整合”單分子成膜的 機理
自整合單分子膜(SAM)的加工方法應(yīng)力求過程簡單高效、成本低廉、便于規(guī)模生產(chǎn)。因此,SAM要選用易溶于水的組成,像OSP加工過程一樣的方法。即:
微蝕刻 →清潔(水洗)→自整合單分子膜(SAM)→清潔(水洗)→烘干
總之,由于信號傳輸高頻(或高速)化要求銅導(dǎo)體表面超低或無粗糙度,同時也為了避免或克服銅光面與樹脂類間的結(jié)合強度或結(jié)合力的降低,從目前的工程技術(shù)條件看,最好方法是在銅與樹脂之間加入“自整合”單分子膜(或稱整合劑)。或者說,在銅與樹脂的結(jié)合力將由“物理(接觸面積間)結(jié)合”道路走向化學(xué)結(jié)合(化學(xué)吸附、化學(xué)反應(yīng)、化學(xué)改性等)方法,從而提高銅與樹脂間的結(jié)合力(強度)。
在銅與樹脂間用化學(xué)方法加入功能性“整合層”(或“粘結(jié)層”)來滿足結(jié)合力和超低或無粗糙度銅表面的要求。 目前較理想和可實現(xiàn)的化學(xué)方法 ,主要有化學(xué)吸附(鍵鏈的靜電力作用而形成絡(luò)合物、螯合物等)、化學(xué)反應(yīng)(如氧化還原反應(yīng)等)和化學(xué)改性(形成聚合物、復(fù)合物等)等方法。下面分別略談其況。
在光面銅表面形成銅的絡(luò)合物或螯合物的“整合層”(或“粘結(jié)層”)中,其銅的的絡(luò)合物或螯合物是由“形成體”和“配位體”來組成的,在 本文中的“形成體”是銅,而“配位體”可以多種多樣的,但可概括為“無機物”和“有機物”兩大類。
3.1.1 配位體為無機物的銅的配合物
配位體為無機物銅的絡(luò)合(配合)物,其形成體大部分為金屬離子(或金屬原子),而配位體為無機物的分子(或原子)、負(fù)離子等,如Cu(NH3)42+、Ag(NH3)2+、Ni(CO)4(四羰基合鎳,此處的鎳為原子)、SCN-1等。配位體為無機物的絡(luò)合物(或配合物),由于耐熱性、熱穩(wěn)定性差,當(dāng)然,不能作為PCB板內(nèi)的粘結(jié)(整合)層。
3.1.2 配位體為有機物的銅的配合物
配位體為有機物的銅的配合物或螯合物時,這些有機物可以是分子(也可為離子),如咪唑、烷基咪唑、烷基苯并咪唑、烷基苯基咪唑等。由于這些咪唑類中有“五環(huán)”的Π鍵(雙鍵)或=NH官能團能與銅“鍵鏈”形成螯合物。同時,這些五環(huán)(咪唑)和六環(huán)(苯)的耐熱性能和熱穩(wěn)定性是很好的,特別是咪唑和苯基(見圖2)結(jié)合、再加上烷基等的結(jié)合將很大提高耐熱性和熱穩(wěn)定性,如烷基苯基咪唑的熱分解溫度可達到350 ℃以上。因此HT-OSP(高溫-有機可焊性保護劑)是有可能作為PCB的整合(粘結(jié))層的。
圖2 咪唑及其改性的咪唑類
采用化學(xué)反應(yīng)(氧化還原反應(yīng))來形成功能性“整合(粘結(jié))層”。如采用氧化石墨烯(GO,見圖3),由于GO中存在的羥基(-OH)、羧基(-COOH)和環(huán)氧基(=O)等活潑基團,控制這些基團(加入物質(zhì)、反應(yīng)條件和參數(shù)等)使其一面與銅反應(yīng),另一面與有機物作用形成聚合物,從而達到形成功能性“整合層”或“粘結(jié)層”的目的。這方面的研究開發(fā)已獲得可喜成果[3],不僅獲得極低粗糙度(輪廓)而滿足結(jié)合強度要求,而且提高了耐熱性(其Tg溫度從140 ℃提高到175 ℃以上)和導(dǎo)熱性能(導(dǎo)熱系數(shù)由0.09 W/m·K提高到6.44 W/m·K),同時其銅面粗糙度(輪廓)(Rz)能夠≤0.21 μm,其結(jié)合強度也有明顯提高(如圖3)。
圖3 氧化石墨烯結(jié)構(gòu)示意圖(來自公開資料)
采用化學(xué)改性(聚合或復(fù)合)來形成功能性“整合(粘結(jié))層”,如氧化石墨烯與有機物/無機物反應(yīng)可形成氧化石墨烯聚合物。由于發(fā)生聚合反應(yīng)會損失石墨烯的導(dǎo)電性而成為絕緣材料,但仍然有較好的導(dǎo)熱性能。這意味著在導(dǎo)熱性差的介質(zhì)層中加入氧化石墨烯與介質(zhì)層有機物進行聚合反應(yīng),達到既保證絕緣性能又提高導(dǎo)熱性。同時,既能與銅表面好學(xué)結(jié)合又能與樹脂類聚合會相容而結(jié)合,這方面應(yīng)投入人力物力等進行應(yīng)用的開發(fā)和研究。
總之,氧化石墨烯表面含有大量氧基官能團,高的活潑性和高比表面積,這些官能團能夠與很多有機物、無機物等進行化學(xué)反應(yīng)、化學(xué)改性等形成氧化石墨烯聚合∕復(fù)合材料等功能性整合層,從而開辟了新一類型的碳材料,期待成為光面(低或無粗糙度)銅與絕緣介質(zhì)層間最佳的納米整合(粘結(jié))層。