趙 魏,王雅娜,王 翔
(1北京機(jī)電工程研究所,北京 100074;2北京航空航天大學(xué) 宇航學(xué)院,北京 100091;3中國(guó)航發(fā)北京航空材料研究院 檢測(cè)研究中心,北京 100095;4航空材料檢測(cè)與評(píng)價(jià)北京市重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室,北京 100095;5中國(guó)航空發(fā)動(dòng)機(jī)集團(tuán) 材料檢測(cè)與評(píng)價(jià)重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室,北京 100095)
纖維增強(qiáng)復(fù)合材料層板結(jié)構(gòu)已被廣泛應(yīng)用于航空、航天、交通領(lǐng)域的各種主承力結(jié)構(gòu),惡劣的使用環(huán)境導(dǎo)致復(fù)合材料層板層間力學(xué)性能薄弱的問(wèn)題逐漸凸顯出來(lái)。其中分層是一種致命的破壞模式,將引起復(fù)合材料層板結(jié)構(gòu)剛度顯著下降,造成結(jié)構(gòu)的過(guò)早失效[1-4]。在實(shí)際工程應(yīng)用中,復(fù)合材料結(jié)構(gòu)中的分層往往以Ⅱ型(剪切)模式擴(kuò)展,例如面外載荷作用、低速?zèng)_擊等[5-6]。準(zhǔn)確表征和測(cè)量復(fù)合材料Ⅱ型層間斷裂韌度是復(fù)合材料損傷容限和耐久性分析的依據(jù),已成為復(fù)合材料必不可少的設(shè)計(jì)用力學(xué)性能數(shù)據(jù)。
實(shí)際復(fù)合材料結(jié)構(gòu)大都是由不同角度的鋪層堆疊而成的多向?qū)影澹謱涌砂l(fā)生在任意兩個(gè)鋪層之間[7],不同角度分層界面的Ⅱ型分層行為一直是國(guó)內(nèi)外學(xué)者的研究焦點(diǎn)。Chai[8]對(duì)碳纖維增強(qiáng)復(fù)合材料層板進(jìn)行端部缺口彎曲 (end notched flexure, ENF)測(cè)試,發(fā)現(xiàn)具有+30°/-30°分層界面實(shí)驗(yàn)件的GⅡc值高于具有0°/0°分層界面實(shí)驗(yàn)件。Polaha等[9]對(duì)0°/0°、15°/-15°和30°/-30°分層界面情形下的Ⅱ型層間斷裂韌度進(jìn)行了實(shí)驗(yàn)研究,發(fā)現(xiàn)3種分層界面的GⅡc值并無(wú)顯著差異。 Choi等[10]對(duì)碳/環(huán)氧復(fù)合材料進(jìn)行GⅡc測(cè)試,發(fā)現(xiàn)45°/-45°分層界面的GⅡc值比0°/0°分層界面的GⅡc值高45%~84%。Ozdil等[11]測(cè)試了一系列具有θ°/-θ°分層界面的玻璃/環(huán)氧復(fù)合材料層板的Ⅱ型層間斷裂韌度,測(cè)試結(jié)果表明當(dāng)θ°從0°變化到45°時(shí),GⅡc增加了近3倍。Tao和Sun[12]對(duì)具有0°/θ°分層界面的碳/環(huán)氧復(fù)合材料層板進(jìn)行ENF測(cè)試,發(fā)現(xiàn)當(dāng)θ°從0°到90°變化時(shí)GⅡc值逐漸降低。Hwang等[13]研究了具有0°/θ°和θ°/-θ°分層界面的碳/環(huán)氧復(fù)合材料層板的GⅡc值,發(fā)現(xiàn)GⅡc值隨著θ°的增加逐漸降低。Pereira等[14-15]測(cè)試了一系列不同分層界面0°/θ°和θ°/-θ°情形下的碳/環(huán)氧和玻璃/環(huán)氧復(fù)合材料的GⅡc,發(fā)現(xiàn)兩種材料都具有GⅡc值隨θ°增加而增加的規(guī)律。綜上所述,現(xiàn)有文獻(xiàn)中關(guān)于GⅡc隨著分層界面角度變化的規(guī)律尚無(wú)定論,不同研究中的結(jié)論甚至完全相悖,故仍需繼續(xù)開(kāi)展相關(guān)研究。
本工作針對(duì)具有不同預(yù)置分層界面國(guó)產(chǎn)T300/QY8911復(fù)合材料,分別進(jìn)行了預(yù)嵌薄膜末端開(kāi)裂和預(yù)開(kāi)裂裂紋處擴(kuò)展的Ⅱ型分層測(cè)試,對(duì)比分析了不同分層界面的GⅡc值,以及同一種分層界面下不同Ⅱ型分層分別從預(yù)嵌薄膜末端和預(yù)開(kāi)裂裂紋處擴(kuò)展對(duì)應(yīng)的GⅡc值。同時(shí),本工作采用虛擬裂紋閉合技術(shù)(virtual crack closure technique, VCCT)技術(shù),模擬預(yù)嵌薄膜末端起始的Ⅱ型分層擴(kuò)展行為,獲得了具有不同分層界面的ENF實(shí)驗(yàn)件Ⅱ型分層擴(kuò)展過(guò)程中分層前緣的能量釋放率分布,以此為基礎(chǔ)進(jìn)一步研究分層界面角度對(duì)Ⅱ型分層擴(kuò)展行為和層間斷裂韌度測(cè)量值的影響,并結(jié)合斷口形貌SEM觀測(cè),提出了一種Ⅱ型層間斷裂韌度修正值的理論計(jì)算公式。
實(shí)驗(yàn)件采用碳纖維增強(qiáng)樹脂基復(fù)合材料(CFRP)T300/QY8911制備。T300/QY8911單向帶的厚度為0.125mm,材料基本力學(xué)性能參數(shù)如下:E1=135GPa,E2=8.8GPa,ν12=0.33,G12=4.47GPa;XT=1239MPa,XC=1081MPa,YT=39MPa,YC=189MPa,S12=81MPa。
設(shè)計(jì)了5種具有不同鋪層順序和分層界面的ENF實(shí)驗(yàn)件,每種實(shí)驗(yàn)件分別制備了3個(gè)試樣。實(shí)驗(yàn)件尺寸為:長(zhǎng)180mm×寬25mm,厚度取決于鋪層數(shù)和單層厚度,預(yù)嵌薄膜長(zhǎng)度為60mm。實(shí)驗(yàn)件的鋪層順序和分層界面的信息如表1所示。
表1 具有不同分層界面的復(fù)合材料多向?qū)影錏NF試件Table 1 Multidirectional laminate ENF specimens with different delamination interfaces
Ⅱ型分層實(shí)驗(yàn)按照ASTM D 7905/D7905M—2014開(kāi)展,對(duì)ENF實(shí)驗(yàn)件采用三點(diǎn)彎曲的加載方式,如圖1所示,實(shí)驗(yàn)采用的加載壓頭和支座的半徑均為5mm,跨距2L為100mm。為了采用柔度法獲得Ⅱ型分層的斷裂韌度數(shù)據(jù),分別在25,30mm和35mm這3個(gè)有效分層長(zhǎng)度下開(kāi)展ENF實(shí)驗(yàn)。其中,在a0=30mm的有效分層長(zhǎng)度下開(kāi)展Ⅱ型分層擴(kuò)展實(shí)驗(yàn),持續(xù)加載直到裂紋擴(kuò)展。在a1=25mm和a2=35mm的有效分層長(zhǎng)度下開(kāi)展分層無(wú)擴(kuò)展的柔度測(cè)試實(shí)驗(yàn),使實(shí)驗(yàn)過(guò)程中的最大載荷保持在分層擴(kuò)展載荷預(yù)估值50%的范圍內(nèi)。實(shí)驗(yàn)過(guò)程中的加載速率為0.1mm/min,卸載速率為1mm/min,期間記錄載荷-位移曲線。
圖1 ENF實(shí)驗(yàn)件的三點(diǎn)彎曲加載方案Fig.1 Three-point bending loading scheme for ENF test specimens
計(jì)算3種有效分層長(zhǎng)度a(包括a1,a2,a0)下的ENF實(shí)驗(yàn)中載荷-位移曲線的柔度C,采用式(1)對(duì)3組(a,C)數(shù)據(jù)進(jìn)行曲線擬合,得到擬合參數(shù)A和m。
C=A+ma3
(1)
Ⅱ型層間斷裂韌度GⅡc采用式(2)計(jì)算:
(2)
其中,Pmax為有效分層長(zhǎng)度a0=30mm的分層擴(kuò)展實(shí)驗(yàn)中的最大載荷。
Ⅱ型分層從預(yù)嵌薄膜末端擴(kuò)展后,將產(chǎn)生一個(gè)新的尖銳裂紋,稱為預(yù)開(kāi)裂裂紋。通過(guò)肉眼觀測(cè)預(yù)開(kāi)裂裂紋尖端的位置不準(zhǔn)確,需采用式(3)確定。在實(shí)驗(yàn)件邊緣標(biāo)記預(yù)開(kāi)裂裂紋的位置,從該預(yù)開(kāi)裂裂紋末端起始處進(jìn)行的Ⅱ型層間斷裂韌度測(cè)試。實(shí)驗(yàn)流程和數(shù)據(jù)處理方法與上述Ⅱ型分層從預(yù)嵌薄膜末端擴(kuò)展的測(cè)試相同。
(3)
式中:acalc是預(yù)嵌薄膜末端開(kāi)裂后的分層長(zhǎng)度;Cu是由分層擴(kuò)展后卸載階段的載荷-位移曲線確定的柔度。
從預(yù)嵌薄膜末端開(kāi)裂的Ⅱ型分層擴(kuò)展具有高度的不穩(wěn)定性,分層起始后即快速向前擴(kuò)展5~10mm,因此只能獲得對(duì)應(yīng)分層起始處的斷裂韌度值GⅡc,NPC。表2羅列了5種ENF實(shí)驗(yàn)件的GⅡc,NPC數(shù)據(jù),可知具有0°/0°分層界面的ENF實(shí)驗(yàn)件的GⅡc,NPC值最高,具有0°/90°分層界面的ENF實(shí)驗(yàn)件的GⅡc,NPC值最低,具有其他3種分層界面的ENF實(shí)驗(yàn)件的GⅡc,NPC值相近。另外,實(shí)驗(yàn)過(guò)程中追蹤了Ⅱ型分層擴(kuò)展路徑,發(fā)現(xiàn)對(duì)具有預(yù)置45°/-45°和90°/90°分層界面的實(shí)驗(yàn)件,Ⅱ型分層從預(yù)嵌薄膜末端開(kāi)裂后,臨近分層界面的鋪層內(nèi)部在分層前緣處發(fā)生橫向開(kāi)裂而引發(fā)穿層,層間裂紋分別遷移到相鄰的0°/45°和0°/90°層間界面。對(duì)具有其他3種預(yù)置分層界面的實(shí)驗(yàn)件,分層可沿預(yù)嵌薄膜所在的層間界面平直擴(kuò)展。
表2 不同分層界面預(yù)嵌薄膜末端開(kāi)裂的Ⅱ型層間斷裂韌度
Table 2 Mode Ⅱ interlaminar fracture toughness corresponding to pre-embedded film end cracking at different interfaces
DelaminationinterfaceNoGⅡc,NPC/(J·m-2)Average value/(J·m-2)CV/%0°/0°ENF-1-1ENF-1-2ENF-1-392191710639678.645°/-45°ENF-2-1ENF-2-2ENF-2-371382262472013.890°/90°ENF-3-1ENF-3-2ENF-3-37258167477636.30°/45°ENF-4-1ENF-4-2ENF-4-373260377570312.70°/90°ENF-5-1ENF-5-2ENF-5-35625976566057.9
觀察Ⅱ型分層擴(kuò)展后實(shí)驗(yàn)件分解后的斷口,可知具有不同分層界面的實(shí)驗(yàn)件在預(yù)嵌薄膜末端的樹脂富集程度明顯不同,其中尤以具有0°/0°分層界面的實(shí)驗(yàn)件預(yù)嵌薄膜末端的樹脂富集程度最高,具有90°/90°分層界面的實(shí)驗(yàn)件樹脂富集程度最低,樹脂富集程度與測(cè)得的GⅡc,NPC成正比關(guān)系。預(yù)嵌薄膜末端的樹脂富集現(xiàn)象也存在于復(fù)合材料內(nèi)部缺陷(例如孔隙、褶皺)處,故GⅡc,NPC可表征復(fù)合材料內(nèi)部缺陷處萌生的Ⅱ型分層擴(kuò)展阻抗。
Ⅱ型分層從預(yù)嵌薄膜末端開(kāi)裂后,具有45°/-45°和90°/90°預(yù)置分層界面的實(shí)驗(yàn)件中的分層分別遷移到相鄰的0°/45°和0°/90°層間界面,因此在預(yù)開(kāi)裂裂紋處擴(kuò)展的Ⅱ型層間斷裂韌度測(cè)試中,5種實(shí)驗(yàn)件中預(yù)開(kāi)裂裂紋所在的層間界面只有0°/0°,0°/45°和0°/90°這3種,可統(tǒng)一表示為0°/θ°。對(duì)從預(yù)開(kāi)裂裂紋處的Ⅱ型分層,也無(wú)法捕獲穩(wěn)定分層擴(kuò)展過(guò)程中的斷裂韌度數(shù)據(jù),只能獲得Ⅱ型分層起始的層間斷裂韌度GⅡc,PC,5種實(shí)驗(yàn)件測(cè)得的GⅡc,PC數(shù)據(jù)如表3所示。分析表3中數(shù)據(jù),可知Ⅱ型分層從預(yù)開(kāi)裂裂紋處擴(kuò)展的GⅡc,PC呈現(xiàn)非常明顯的分層界面角度依賴性,實(shí)驗(yàn)件ENF-2-i(i=1,2,3)和實(shí)驗(yàn)件ENF-4-i(i=1,2,3)中預(yù)開(kāi)裂裂紋實(shí)際所在的位置均為0°/45°層間界面,這兩類實(shí)驗(yàn)件的GⅡc,PC平均值接近,分別為656J/m2和634J/m2。類似地,實(shí)驗(yàn)件ENF-3-i(i=1,2,3)和實(shí)驗(yàn)件ENF-5-i(i=1,2,3)中預(yù)開(kāi)裂裂紋實(shí)際所在的位置均為0°/90°層間界面,這兩類實(shí)驗(yàn)件的GⅡc,PC平均值接近,分別為407J/m2和439J/m2。綜合3種分層界面0°/θ°情形下Ⅱ型層間斷裂韌度GⅡc,PC的測(cè)試數(shù)據(jù),可見(jiàn)GⅡc,PC隨角度θ°的增大呈先增后減的規(guī)律,θ°為0°和90°時(shí)GⅡc,PC較小,θ°為45°時(shí)GⅡc,PC最大。預(yù)開(kāi)裂裂紋處的Ⅱ型分層擴(kuò)展萌生于尖銳的裂紋尖端,裂紋尖端無(wú)樹脂富集現(xiàn)象,更能反映不同鋪層之間真實(shí)的層間性能,測(cè)得的GⅡc,PC可表征在外載荷作用下,已出現(xiàn)內(nèi)部分層損傷復(fù)合材料結(jié)構(gòu)的Ⅱ型分層擴(kuò)展阻抗。
表3 不同分層界面預(yù)開(kāi)裂裂紋處擴(kuò)展的Ⅱ型層間斷裂韌度值Table 3 Mode Ⅱ interlaminar fracture toughness for delamination growing from the pre-crack at different interfaces
圖2展示了不同分層界面情形下,Ⅱ型分層從預(yù)嵌薄膜末端擴(kuò)展測(cè)得的層間斷裂韌度GⅡc,NPC與從預(yù)開(kāi)裂裂紋處擴(kuò)展測(cè)得的斷裂韌度GⅡc,PC數(shù)據(jù)的對(duì)比??梢?jiàn),對(duì)所有的分層界面情形,GⅡc,NPC均比GⅡc,PC大,主要原因?yàn)椋?1)預(yù)嵌薄膜末端存在樹脂富集,導(dǎo)致預(yù)埋分層的裂尖鈍化,而預(yù)開(kāi)裂裂紋具有尖銳的裂尖,鈍形裂尖處的裂紋擴(kuò)展比尖銳裂尖處的裂紋擴(kuò)展需要更多的能量[16-17]。(2)對(duì)預(yù)開(kāi)裂裂紋處的Ⅱ型分層,在肉眼可見(jiàn)的裂尖前緣已存在斷裂過(guò)程區(qū)[18],而預(yù)嵌薄膜末端處材料是無(wú)損的,故Ⅱ型分層從預(yù)開(kāi)裂裂紋處更容易擴(kuò)展。
圖2 沿不同分層界面Ⅱ型分層擴(kuò)展的GⅡc,NPC和GⅡc,PC數(shù)據(jù)對(duì)比Fig.2 Comparison of GⅡc,NPC and GⅡc,PC data from mode Ⅱ delamination along different interfaces
在復(fù)合材料多向?qū)影澧蛐头謱訑U(kuò)展過(guò)程中,分層前緣往往是彎曲的,實(shí)驗(yàn)件寬度方向從兩側(cè)到中部的分層狀態(tài)顯著不同,普通實(shí)驗(yàn)手段只能觀察到實(shí)驗(yàn)件邊緣的Ⅱ型分層,為此本工作采用VCCT,模擬Ⅱ型分層擴(kuò)展行為,獲得實(shí)驗(yàn)件Ⅱ型分層擴(kuò)展過(guò)程中分層前緣的能量釋放率(可反映分層前緣形貌),由此研究分層界面對(duì)Ⅱ型分層擴(kuò)展行為的影響。
ENF實(shí)驗(yàn)件的三維有限元模型如圖3所示, ENF實(shí)驗(yàn)件有限元模型中上、下兩臂采用的單元類型為8節(jié)點(diǎn)的連續(xù)殼單元(continuum shell,SC8R),上、下兩臂間的層間界面定義為基于斷裂準(zhǔn)則和VCCT的一種接觸類型。三維有限元模型采用逐層建模的方式,為每個(gè)鋪層分別設(shè)置纖維鋪設(shè)角度,并為每個(gè)單層在厚度方向劃分一個(gè)單元。預(yù)期的分層擴(kuò)展區(qū)域(預(yù)嵌薄膜末端到加載頭之間部分)采用精細(xì)網(wǎng)格密度,網(wǎng)格長(zhǎng)度為0.3mm,ENF實(shí)驗(yàn)件其他部位采用的網(wǎng)格長(zhǎng)度為1mm,不同網(wǎng)格密度區(qū)域采用網(wǎng)格漸變技術(shù),以避免網(wǎng)格突變可能引起的計(jì)算失真,實(shí)驗(yàn)件寬度方向采用均勻的網(wǎng)格密度,共劃分20個(gè)網(wǎng)格。
為模擬Ⅱ型分層實(shí)驗(yàn)中的載荷和約束狀態(tài),對(duì)ENF實(shí)驗(yàn)件的有限元模型采用如下約束和加載條件:約束有限元模型中ENF實(shí)驗(yàn)件下臂底部與左、右兩個(gè)下支座的兩條交線上(圖3中l(wèi)eft line和right line)節(jié)點(diǎn)沿Z軸和Y軸方向的平動(dòng)自由度,及其繞Z軸和X軸的轉(zhuǎn)動(dòng)自由度;在實(shí)驗(yàn)件上臂頂部與加載線的交線(圖3中l(wèi)oad line)上定義一個(gè)參考點(diǎn),將這個(gè)參考點(diǎn)與整個(gè)交線的自由度進(jìn)行綁定設(shè)置,實(shí)現(xiàn)“以點(diǎn)代面”,然后在這個(gè)參考點(diǎn)施加位移型載荷。
圖3 ENF實(shí)驗(yàn)件的三維有限元模型及模擬結(jié)果(a)3D 有限元模型;(b)分層界面接觸設(shè)置;(c)ENF實(shí)驗(yàn)件變形模擬Fig.3 Three-dimensional finite element model of the ENF test piece and its simulation results(a)3D finite element model;(b)contact setting for interlaminar interface;(c)deformation simulation result of the ENF specimen
在本工作開(kāi)展的復(fù)合材料Ⅱ型分層數(shù)值模擬中,采用式(4)所示的指數(shù)型斷裂準(zhǔn)則。模擬中使用的斷裂參數(shù)GⅡc采用實(shí)驗(yàn)測(cè)得的斷裂韌度值GⅡc,NPC,并假設(shè)GⅢc=GⅡc,在ENF實(shí)驗(yàn)?zāi)M中,GIc不是關(guān)鍵參數(shù),其取值對(duì)模擬結(jié)果幾乎沒(méi)有影響,根據(jù)此前對(duì)類似材料的測(cè)試結(jié)果,本工作5種ENF實(shí)驗(yàn)件模擬中采用的GIc值均為300J/m2,斷裂準(zhǔn)則中的指數(shù)α=2。
(4)
式中:GⅠ,GⅡ和GⅢ分別是能量釋放率的I型分量,Ⅱ型分量和Ⅲ型分量;GⅠc,GⅡc和GⅢc分別是Ⅰ型,Ⅱ型和Ⅲ型斷裂模式下的斷裂韌度;α是指數(shù)。
圖4(a)~(e)展示了5種具有不同分層界面的ENF實(shí)驗(yàn)件Ⅱ型分層擴(kuò)展的模擬結(jié)果,每一組圖中從左到右的3張子圖分別代表分層擴(kuò)展初始階段、中間階段和最終階段Ⅱ型能量釋放率GⅡ的分布(可直接反映分層前緣的形貌)。可見(jiàn)對(duì)0°/0°分層界面情形,分層從預(yù)埋薄膜末端起始后,GⅡ在實(shí)驗(yàn)件寬度方向分布對(duì)稱,兩邊緣GⅡ高于中部,故兩個(gè)邊緣先于中間發(fā)生分層擴(kuò)展,在隨后的分層擴(kuò)展過(guò)程中,兩邊緣的GⅡ始終高于中部,兩邊緣的分層擴(kuò)展也始終快于中部,最終的分層前緣為兩邊高,中間低的槽形。對(duì)45°/-45°分層界面情形,分層從預(yù)埋薄膜末端起始后,GⅡ在寬度方向分布對(duì)稱,且兩側(cè)GⅡ高于中部,故兩邊緣分層擴(kuò)展先于中間發(fā)生,后續(xù)分層擴(kuò)展過(guò)程中,兩邊緣GⅡ與中部GⅡ差距逐漸增加,且兩邊緣處GⅡ也呈現(xiàn)差異,最終分層前緣呈現(xiàn)兩邊高,中間低的不對(duì)稱槽狀。對(duì)90°/90°分層界面情形,分層從預(yù)埋薄膜末端起始后,GⅡ分布同樣具有分布對(duì)稱,兩側(cè)高于中部的特征,故兩邊緣先發(fā)生分層擴(kuò)展,后續(xù)分層擴(kuò)展過(guò)程中,中間某些區(qū)域的GⅡ逐漸超過(guò)兩邊緣,最終分層前緣呈現(xiàn)為對(duì)稱的雙峰形。對(duì)0°/45°分層界面情形,分層自起始后即表現(xiàn)出兩側(cè)不對(duì)稱的特征,兩個(gè)邊緣一側(cè)的GⅡ高于另一側(cè),分層擴(kuò)展先發(fā)生于GⅡ較高的一側(cè),后續(xù)分層擴(kuò)展過(guò)程中,兩側(cè)GⅡ差距越來(lái)越大,兩側(cè)分層狀態(tài)的差異也隨之增加,最終分層前緣呈現(xiàn)明顯的一側(cè)高、一側(cè)低的形貌特征。對(duì)0°/90°分層界面情形,分層自起始后,兩邊緣GⅡ高于中部,兩側(cè)呈稍微不對(duì)稱的特征,在后續(xù)分層擴(kuò)展過(guò)程中,兩側(cè)GⅡ差距逐漸凸顯,一側(cè)分層狀態(tài)稍快于另一側(cè),最終分層前緣呈一側(cè)偏高、一側(cè)偏低的形貌特征。鑒于VCCT只能模擬沿固定路徑的裂紋擴(kuò)展,本工作未能準(zhǔn)確模擬90°/90°和45°/-45°分層界面處的分層“遷移”,而根據(jù)Gillespie等的研究,預(yù)置分層偏離一個(gè)單層GⅡ降低不到3%[19],因此本工作未考慮分層“遷移”對(duì)分層前緣GⅡ的影響。
綜合不同分層界面處Ⅱ型分層擴(kuò)展模擬結(jié)果,所有分層界面處Ⅱ型分層前緣都具有鋸齒形形貌特征,與Ⅱ型分層斷面SEM圖像上呈現(xiàn)的梳子齒型形貌類似,這是一種典型的剪切形貌特征[20]。對(duì)θ°/θ°分層界面,在分層擴(kuò)展過(guò)程中實(shí)驗(yàn)件寬度方向的GⅡ基本對(duì)稱,其中0°/0°和45°/-45°分層界面的Ⅱ型分層前緣形貌呈槽形,實(shí)驗(yàn)件兩側(cè)分層擴(kuò)展明顯快于中部,而90°/90°分層界面處的GⅡ在實(shí)驗(yàn)件寬度方向分布均勻,分層前緣形狀呈鋸齒形, 0°/θ°分層界面處的GⅡ在寬度方向具有一側(cè)偏高、一側(cè)偏低的分布特征,分層擴(kuò)展?fàn)顟B(tài)一側(cè)較快,一側(cè)較慢,其中0°/45°分層界面處的Ⅱ型分層擴(kuò)展的不均勻性較顯著,而0°/90°分層界面處Ⅱ型分層擴(kuò)展的不均勻性不明顯。
式(2)所示的Ⅱ型層間斷裂韌度計(jì)算公式成立的條件是分層擴(kuò)展過(guò)程中分層前緣平直均勻,從功能平衡的角度,分層前緣能量釋放率GⅡ的分布不均會(huì)影響從預(yù)開(kāi)裂裂紋處分層擴(kuò)展的Ⅱ型斷裂韌度GⅡc,PC的測(cè)試結(jié)果,GⅡ分布越不均,GⅡc,PC計(jì)算結(jié)果越偏高[21]。為此,根據(jù)Ⅱ型分層的VCCT模擬結(jié)果,分別提取最終分層擴(kuò)展階段0°/0°,0°/45°,0°/90°分層界面構(gòu)成分層前緣節(jié)點(diǎn)上的能量釋放率GⅡ,以這些節(jié)點(diǎn)上GⅡ值的變異系數(shù)(coefficient of variation, CV)值作為分層擴(kuò)展不均的表征量,并以GⅡc,PC×(1-CV)對(duì)GⅡc,PC測(cè)試結(jié)果進(jìn)行修正。根據(jù)分層的數(shù)值模擬結(jié)果,0°/0°,0°/45°,0°/90°分層界面分層前緣節(jié)點(diǎn)的CV分別為14.5%,8.1%和0.3%,由此計(jì)算得到的0°/0°,0°/45°,0°/90°分層界面的GⅡc,PC修正值分別為444,584J/m2和438J/m2。可知0°/0°和0°/90°分層界面GⅡc,PC修正值近似相等,0°/45°分層界面的GⅡc,PC修正值最高。對(duì)實(shí)驗(yàn)件斷口進(jìn)行掃描電鏡觀測(cè),發(fā)現(xiàn)0°/0°和0°/90°分層界面的斷口無(wú)明顯基體塑性變形,而0°/45°界面的斷口具有明顯的塑性變形,且基體塑性變形呈現(xiàn)于45°鋪層一側(cè),如圖5所示。定義構(gòu)成分層界面的兩個(gè)鋪層的角度為θ1和θ2,提出如下不同分層界面GⅡc,PC修正值的理論公式:
圖4 Ⅱ型分層前緣形狀的數(shù)值模擬結(jié)果 (a)0°/0°;(b)45°/-45°;(c)90°/90°(d)0°/45°;(e)0°/90°Fig.4 Numerical simulation for the shape of the mode Ⅱ delamination front(a)0°/0°;(b)45°/-45°;(c)90°/90°(d)0°/45°;(e)0°/90°
GⅡc,PC,corret=GⅡ,0+GⅡ,m[f(θ1)+f(θ2)]
(5)
其中,
(6)
其中:GⅡ,0是無(wú)關(guān)分層界面角度的斷裂韌度;GⅡ,m是與分層界面角度相關(guān),由基體塑性變形消耗的斷裂功。GⅡ,0可由0°/90°分層界面的GⅡc,NPC修正值確定,GⅡ,m可由0°/45°分層界面的GⅡc, PC修正值與GⅡ,0之差確定。對(duì)本研究的復(fù)合材料T300/QY8911,式(5)中的GⅡ,0=438J/m2,GⅡ,m=146J/m2。
(1)Ⅱ型分層從預(yù)嵌薄膜末端擴(kuò)展的斷裂韌度GⅡc,NPC具有如下規(guī)律:0°/0°分層界面最高,0°/90°界面的最低,其他3種界面介于中間。具有45°/-45°和90°/90°分層界面的實(shí)驗(yàn)件在擴(kuò)展過(guò)程中裂紋分別遷移到臨近的0°/45°和0°/90°層間界面。
(2)Ⅱ型分層從預(yù)開(kāi)裂裂紋處擴(kuò)展測(cè)得的斷裂韌度GⅡc,NP具有如下規(guī)律: 0°/45°分層界面最高,0°/90°分層界面最低,0°/0°分層界面位于中間。
(3)對(duì)比所有的分層界面情形,Ⅱ型分層從預(yù)嵌薄膜末端處擴(kuò)展的GⅡc,NPC均比從預(yù)開(kāi)裂裂紋處擴(kuò)展的GⅡc,PC大。GⅡc,NPC由于樹脂富集,無(wú)法準(zhǔn)確反映層間性能,相比而言,GⅡc,NP數(shù)據(jù)與分層界面角度之間的相關(guān)性明顯,更能反映分層界面角度對(duì)Ⅱ型分層阻抗的影響。
(4)根據(jù)基于VCCT的Ⅱ型分層模擬結(jié)果可知,對(duì)θ°/θ°分層界面,分層擴(kuò)展過(guò)程中實(shí)驗(yàn)件寬度方向的GⅡ分布對(duì)稱,其中0°/0°和45°/-45°分層界面的Ⅱ型分層前緣呈槽形,兩側(cè)分層擴(kuò)展快于中部,90°/90°分層界面的GⅡ在實(shí)驗(yàn)件寬度方向分布均勻,寬度方向分層擴(kuò)展?fàn)顟B(tài)基本同步。0°/θ°分層界面的GⅡ在寬度方向的分布具有一側(cè)偏高、一側(cè)偏低的特征,分層擴(kuò)展?fàn)顟B(tài)一側(cè)較快,一側(cè)較慢。上述分層擴(kuò)展的模擬結(jié)果可為GⅡc,NPC測(cè)量值的修正提供依據(jù)。
圖5 不同角度分層界面Ⅱ型分層斷面的SEM圖像(a)0°/0°;(b)0°/45°;(c)0°/90°Fig.5 SEM pictures of mode Ⅱ delamination fracture at different delamination interfaces(a)0°/0°;(b)0°/45°;(c)0°/90°
(5)根據(jù)測(cè)試結(jié)果、分層模擬結(jié)果和對(duì)分層界面斷口的觀測(cè)結(jié)果,提出了一個(gè)GⅡc,PC修正值的理論公式。