操龍升，趙景峰

(西北大學(xué) 經(jīng)濟(jì)管理學(xué)院，陜西 西安 710127)

一、引言

構(gòu)建相對(duì)完備的專利制度，對(duì)于激發(fā)人類創(chuàng)造熱情，加快先進(jìn)技術(shù)的創(chuàng)新與引進(jìn)、消化與吸收具有至關(guān)重要的作用。技術(shù)創(chuàng)新作為專利保護(hù)的價(jià)值起點(diǎn)，毫無(wú)疑問的與專利保護(hù)制度之間存在著密切關(guān)系，即技術(shù)創(chuàng)新促成了新事物、新技術(shù)、新發(fā)明的衍生，推動(dòng)了專利技術(shù)和先進(jìn)知識(shí)的傳播利用；反過(guò)來(lái)，專利保護(hù)制度則通過(guò)規(guī)范技術(shù)市場(chǎng)、營(yíng)造良好市場(chǎng)環(huán)境，促進(jìn)了技術(shù)信息的匯集與交流，加速了技術(shù)創(chuàng)新成果的實(shí)際轉(zhuǎn)化并產(chǎn)生了巨大經(jīng)濟(jì)和社會(huì)效益。但這是否意味著專利制度越嚴(yán)格，將會(huì)更加有助于技術(shù)創(chuàng)新和區(qū)域經(jīng)濟(jì)增長(zhǎng)？對(duì)技術(shù)創(chuàng)新績(jī)效而言，專利制度的影響是否存在區(qū)域異質(zhì)性？是否需要再優(yōu)化？這些諸多問題受到我國(guó)社會(huì)各界眾多學(xué)者的廣泛關(guān)注。基于此，本文綜合運(yùn)用隨機(jī)前沿模型(Stochastic Frontier Analysis，SFA)和三次函數(shù)的庫(kù)茲涅茨曲線模型相結(jié)合的研究方法，借助1987-2013年相關(guān)統(tǒng)計(jì)數(shù)據(jù)經(jīng)驗(yàn)分析我國(guó)專利保護(hù)水平與各區(qū)域技術(shù)創(chuàng)新績(jī)效之間的關(guān)系，以期為我國(guó)區(qū)域科技發(fā)展提供參考。

二、文獻(xiàn)述評(píng)

學(xué)術(shù)界圍繞專利制度與區(qū)域技術(shù)創(chuàng)新的關(guān)系開展了深入的研究。從國(guó)外研究來(lái)看，關(guān)于二者之間關(guān)系的研究大致可分為三類：一是專利制度促進(jìn)技術(shù)創(chuàng)新。學(xué)者們從國(guó)家角度進(jìn)行分析之后，發(fā)現(xiàn)產(chǎn)權(quán)保護(hù)制度對(duì)于維持國(guó)家經(jīng)濟(jì)的增長(zhǎng)和非均衡發(fā)展具有重要的作用，如發(fā)達(dá)國(guó)家以法律形式來(lái)保護(hù)其產(chǎn)權(quán)利益，并將其強(qiáng)加給發(fā)展中國(guó)家。而發(fā)展中國(guó)家更易倡導(dǎo)比較寬松的專利制度，這樣有利于進(jìn)行模仿、復(fù)制和學(xué)習(xí)先進(jìn)科技，進(jìn)而利于發(fā)展該國(guó)國(guó)民經(jīng)濟(jì)[1-2]。從產(chǎn)業(yè)發(fā)展的角度來(lái)分析，認(rèn)為制定嚴(yán)格的知識(shí)產(chǎn)權(quán)保護(hù)制度將在一定程度上增加部門壟斷、可能阻礙經(jīng)濟(jì)持續(xù)增長(zhǎng)[3]。通過(guò)構(gòu)建演化模型，結(jié)果發(fā)現(xiàn)趨于溫和的專利制度將會(huì)帶來(lái)更快的技術(shù)進(jìn)步和更好的社會(huì)福利[4]；從基于實(shí)物期權(quán)投資理論研究了專利制度對(duì)企業(yè)技術(shù)創(chuàng)新的影響，實(shí)證發(fā)現(xiàn)專利制度對(duì)企業(yè)的投資決策具有顯著影響，它可以規(guī)避市場(chǎng)不確定性以刺激企業(yè)研發(fā)投入的增加[5]。有人以美國(guó)和德國(guó)多個(gè)行業(yè)的158家技術(shù)型公司為樣本探討了專利管理與企業(yè)績(jī)效之間的關(guān)系，研究發(fā)現(xiàn)專利管理對(duì)企業(yè)績(jī)效有顯著的促進(jìn)作用，專利管理可顯著提升企業(yè)銷售收入和專利許可收入[6]。又有人選取美國(guó)13個(gè)產(chǎn)業(yè)從行業(yè)層面實(shí)證分析了專利保護(hù)、研發(fā)投入對(duì)企業(yè)技術(shù)創(chuàng)新績(jī)效的影響，研究發(fā)現(xiàn)研發(fā)強(qiáng)度與企業(yè)新產(chǎn)品引入比率之間呈顯著的正相關(guān)關(guān)系[7]。二是專利制度阻礙技術(shù)創(chuàng)新。學(xué)者們首先探討了專利制度與基因技術(shù)之間的關(guān)系，發(fā)現(xiàn)專利保護(hù)制度會(huì)阻礙基因技術(shù)的持續(xù)發(fā)展[8]，其次基于1980-1999年行業(yè)面板數(shù)據(jù)研究了戰(zhàn)略性專利申請(qǐng)對(duì)計(jì)算機(jī)軟件行業(yè)的影響，實(shí)證發(fā)現(xiàn)戰(zhàn)略性專利將導(dǎo)致以累積創(chuàng)新為特征的行業(yè)創(chuàng)新成本的提高[9]。最后有研究認(rèn)為在市場(chǎng)競(jìng)爭(zhēng)機(jī)制作用下，專利保護(hù)制度對(duì)企業(yè)的后續(xù)創(chuàng)新不利，且在互補(bǔ)創(chuàng)新和累積創(chuàng)新環(huán)境中，專利保護(hù)會(huì)進(jìn)一步互相阻礙企業(yè)創(chuàng)新[10]。三是專利保護(hù)受具體制度的制約對(duì)技術(shù)創(chuàng)新呈非線性關(guān)系。有學(xué)者引入內(nèi)生增長(zhǎng)模型，對(duì)經(jīng)濟(jì)體在封閉環(huán)境下的產(chǎn)權(quán)保護(hù)和國(guó)家經(jīng)濟(jì)增長(zhǎng)進(jìn)行實(shí)證分析，認(rèn)為知識(shí)積累對(duì)經(jīng)濟(jì)生產(chǎn)效率將產(chǎn)生強(qiáng)烈影響，并有可能促使產(chǎn)權(quán)保護(hù)水平與創(chuàng)新呈現(xiàn)一種“倒U”型關(guān)系[11]。與此相同，有研究也發(fā)現(xiàn)二者之間存在顯著的非線性關(guān)系[12-13]。

從國(guó)內(nèi)研究來(lái)看，學(xué)者代表性研究，有以外商投資的技術(shù)外溢研究為切入點(diǎn)[14-15]，有圍繞企業(yè)規(guī)模對(duì)其創(chuàng)新激勵(lì)的作用進(jìn)行探討[16]，有從知識(shí)產(chǎn)權(quán)保護(hù)角度對(duì)不同行業(yè)出口技術(shù)進(jìn)步的影響進(jìn)行研究[17]，有從產(chǎn)權(quán)激勵(lì)角度對(duì)國(guó)家層面專利制度與技術(shù)創(chuàng)新績(jī)效的影響進(jìn)行了研究[18]。

綜合國(guó)內(nèi)外研究文獻(xiàn)，我們得出經(jīng)驗(yàn)假設(shè)：比較溫和的專利保護(hù)制度更容易對(duì)技術(shù)創(chuàng)新產(chǎn)生激勵(lì)作用、促進(jìn)創(chuàng)新的發(fā)展。然而從先行文獻(xiàn)來(lái)看，卻鮮有從專利保護(hù)角度對(duì)我國(guó)專利制度與區(qū)域技術(shù)創(chuàng)新績(jī)效關(guān)系的實(shí)證研究文獻(xiàn)。所以本文的著力點(diǎn)是：(1)在注重科學(xué)劃分專利保護(hù)制度標(biāo)準(zhǔn)的基礎(chǔ)上，從區(qū)域?qū)用鎸?duì)我國(guó)不同時(shí)間段專利保護(hù)與區(qū)域技術(shù)創(chuàng)新績(jī)效的影響進(jìn)行深入探討；(2)借助三次函數(shù)的庫(kù)茨涅茨曲線模型實(shí)證檢驗(yàn)專利保護(hù)水平對(duì)區(qū)域技術(shù)創(chuàng)新績(jī)效的影響。

三、理論模型的構(gòu)建

(一)理論模型

文章選用參數(shù)方法中隨機(jī)前沿分析方法(即SFA方法)對(duì)技術(shù)創(chuàng)新的績(jī)效進(jìn)行度量，同時(shí)采用Battese和Coelli(1995)提出單階段估算利潤(rùn)函數(shù)模型，即：

πit=f(Kit,Lit)+(vit-uit)

(1)

其中，i表示不同的區(qū)域；t表示時(shí)間，其取值為1到T，其中T表示所采用的時(shí)間段的數(shù)目，單位是年；πit表示i區(qū)域在第t年的產(chǎn)出利潤(rùn)，也可以為技術(shù)創(chuàng)新的績(jī)效；f表示所采用的函數(shù)形式；K表示所投入的資本矢量；L表示所投入的勞動(dòng)矢量；vit表示函數(shù)中的隨機(jī)誤差，用于表示能夠?qū)夹g(shù)創(chuàng)新績(jī)效產(chǎn)生影響的非可控因素，其值既可為正、亦可為負(fù)；uit表示非負(fù)的無(wú)效率項(xiàng)，一般都假設(shè)uit的分布為單邊正態(tài)分布。

所以，研究最終目標(biāo)可簡(jiǎn)要概括為：假設(shè)已知經(jīng)濟(jì)狀況和技術(shù)條件Xit，在投入和產(chǎn)出量變化的情況下，若能夠使無(wú)效率項(xiàng)uit的值達(dá)到最小，就可以使技術(shù)創(chuàng)新績(jī)效達(dá)到最大化。同時(shí)本文采用SFA模型中關(guān)于創(chuàng)新績(jī)效的概念EFFit，具體形式如式2所示：

(2)

其實(shí)質(zhì)表示實(shí)際產(chǎn)出量和最大潛在產(chǎn)出量的比例，通過(guò)對(duì)我國(guó)1987-2010年期間區(qū)域技術(shù)創(chuàng)新績(jī)效進(jìn)行計(jì)算，可以實(shí)現(xiàn)隨機(jī)誤差項(xiàng)的平均，并可以充分體現(xiàn)那些不可控的外界因素所產(chǎn)生的顯著效應(yīng)，其最大的比值為1。

(二)計(jì)量模型構(gòu)建

本文借鑒國(guó)內(nèi)學(xué)者常用三次函數(shù)擬合庫(kù)茨涅茨曲線模型來(lái)對(duì)區(qū)域創(chuàng)新績(jī)效、經(jīng)濟(jì)增長(zhǎng)與環(huán)境質(zhì)量等方面的研究經(jīng)驗(yàn)，將其模型框架引入專利保護(hù)程度與區(qū)域創(chuàng)新績(jī)效關(guān)系領(lǐng)域進(jìn)行研究，所采用的函數(shù)形式主要為：

(3)

其中，i表示區(qū)域，t表示時(shí)間，而yit則表示在i區(qū)域第t年的技術(shù)創(chuàng)新績(jī)效；xit表示i區(qū)域第t年的專利保護(hù)程度；Zit表示i區(qū)域第t年能夠?qū)夹g(shù)創(chuàng)新績(jī)效產(chǎn)生影響的控制變量；α1、α2、α3表示相應(yīng)變量的系數(shù)，εit表示隨機(jī)的誤差項(xiàng)。

利用式3的參數(shù)模型，根據(jù)先行研究，可以簡(jiǎn)要?dú)w納出專利保護(hù)程度和技術(shù)績(jī)效創(chuàng)新間存在關(guān)系表，詳見下表1：

表1 專利保護(hù)程度和技術(shù)績(jī)效創(chuàng)新之間關(guān)系匯總表

四、數(shù)據(jù)說(shuō)明與描述性統(tǒng)計(jì)分析

(一)指標(biāo)選取與數(shù)據(jù)來(lái)源

我們參考部分學(xué)者的研究成果，將技術(shù)創(chuàng)新投入(即R&D人員和R&D支出，單位分別是萬(wàn)人和億元)和產(chǎn)出的指標(biāo)(即專利申請(qǐng)量，單位是件)作為研究的投入指標(biāo)[19-20]。其中因發(fā)明專利的數(shù)量和質(zhì)量可以較好反映出一個(gè)國(guó)家和地區(qū)的創(chuàng)新能力，因此文章將發(fā)明專利申請(qǐng)量占所有專利的比例作為影響技術(shù)創(chuàng)新績(jī)效的其他控制變量來(lái)使用。通常一個(gè)國(guó)家的專利保護(hù)程度與研究開發(fā)投入強(qiáng)度有緊密的關(guān)系，所以用R&D的國(guó)內(nèi)總支出占GDP的比例來(lái)表示研究開發(fā)投入強(qiáng)度，進(jìn)而間接反映一國(guó)專利保護(hù)程度的強(qiáng)弱。

文章分析數(shù)據(jù)主要來(lái)自《中國(guó)統(tǒng)計(jì)年鑒》(1988-2014)、《中國(guó)知識(shí)產(chǎn)權(quán)年鑒》(2001-2014)以及《中國(guó)律師年鑒》(2000-2013)。這里需要說(shuō)明的是：(1)選擇研究時(shí)間及區(qū)域。盡管我國(guó)早在改革初期就制定了《中華人民共和國(guó)專利法》，然而出于本文變量數(shù)據(jù)的統(tǒng)一和可獲得性考慮，最終選擇1987～2013年我國(guó)三大區(qū)[注]這里全國(guó)區(qū)域指的是除港、澳、臺(tái)、海南、西藏和重慶之外的28個(gè)省市；其中東部地區(qū)包括遼寧、河北、北京、天津、山東、江蘇、浙江、上海、福建和廣東；中部地區(qū)包括黑龍江、吉林、山西、河南、湖北、江西、安徽和湖南；西部地區(qū)包括陜西、甘肅、青海、寧夏回族自治區(qū)、新疆維吾爾族自治區(qū)、四川、云南、貴州、廣西壯族自治區(qū)和內(nèi)蒙古自治區(qū)。相關(guān)原始數(shù)據(jù)；(2)選取創(chuàng)新產(chǎn)出指標(biāo)，采用專利申請(qǐng)量、而非專利授權(quán)量，其主要考慮它們之間存在非常強(qiáng)的線性關(guān)系、以及授權(quán)專利數(shù)量遠(yuǎn)遠(yuǎn)滯后于申請(qǐng)量時(shí)間等兩方面的原因。

(二)我國(guó)區(qū)域技術(shù)創(chuàng)新績(jī)效與專利保護(hù)的事實(shí)描述分析

我們采用Frontier4.1軟件重點(diǎn)對(duì)我國(guó)1987年到2013年間東部、中部、西部以及全國(guó)范圍內(nèi)的技術(shù)創(chuàng)新績(jī)效進(jìn)行評(píng)估，結(jié)果如圖1中所示?？梢钥闯?，在這個(gè)時(shí)間段，我國(guó)技術(shù)創(chuàng)新績(jī)效發(fā)展總體上處于上升趨勢(shì)，僅在個(gè)別年份出現(xiàn)小幅波動(dòng)。這種波動(dòng)明顯與我國(guó)對(duì)專利法的三次修改有著密切的關(guān)系；例如從區(qū)域?qū)用鎭?lái)看，東部地區(qū)技術(shù)創(chuàng)新績(jī)效波動(dòng)情況與全國(guó)保持高度的耦合性，中部和西部分別出現(xiàn)不同的時(shí)滯效應(yīng)，其原因可能在于中西部地區(qū)受區(qū)位、經(jīng)濟(jì)、文化等因素影響而導(dǎo)致的專利制度變革效果滯后。

圖1 1987-2013年我國(guó)區(qū)域技術(shù)創(chuàng)新績(jī)效數(shù)據(jù)來(lái)源：作者整理Frontier4.1軟件計(jì)算結(jié)果而得

正如圖2有關(guān)我國(guó)1987-2013年發(fā)明專利申請(qǐng)量占總專利申請(qǐng)量的比例折線圖所示，大體在1993和2000年出現(xiàn)兩次較大下降趨勢(shì)、以及2008年之后出現(xiàn)小幅回落的趨勢(shì)，究其原因，可能與我國(guó)1992年、 2000年以及2008年 對(duì)《專利法》進(jìn)行修改有關(guān)。有人將這一現(xiàn)象稱為“馬鞍”現(xiàn)象，他將其原因歸結(jié)為受專利保護(hù)時(shí)間的延長(zhǎng)而造成變相保護(hù)假冒潛力行業(yè)所致[21]。

與此同時(shí)，本文參考國(guó)內(nèi)學(xué)者對(duì)中國(guó)知識(shí)產(chǎn)權(quán)保護(hù)水平定量分析時(shí)所采用的方法[22]，根據(jù)前文數(shù)據(jù)采集對(duì)1987-2013年間統(tǒng)計(jì)數(shù)據(jù)為研究對(duì)象，來(lái)測(cè)算我國(guó)三大區(qū)域在這期間內(nèi)專利保護(hù)水平，具體結(jié)果如圖3所示。

圖2 1987-2010年發(fā)明專利 申請(qǐng)量占專利申請(qǐng)總量比例資料來(lái)源：發(fā)明專利占總專利比例是作者按發(fā)明專利申請(qǐng)量與總專利申請(qǐng)量比值計(jì)算整理而得，發(fā)明專利申請(qǐng)量和總專利申請(qǐng)量數(shù)據(jù)來(lái)源于《中國(guó)統(tǒng)計(jì)年鑒》(1988-2011)

圖3 1987-2013年我國(guó)專利保護(hù)水平圖

根據(jù)圖3所示，自1987-2007年間，我國(guó)三大區(qū)域?qū)＠Ｗo(hù)呈現(xiàn)出快速發(fā)展的增長(zhǎng)趨勢(shì)，之后專利保護(hù)開始步入平穩(wěn)期。從表2可以看出，我國(guó)在2001-2009年研發(fā)投入強(qiáng)度較其它國(guó)家發(fā)展迅猛。因此，我們將1987-2007年作為專利保護(hù)溫和期，2008-2013年為專利保護(hù)嚴(yán)格期。另外，為了更好地印證我國(guó)專利保護(hù)程度的劃分，我們采用國(guó)際上Ginarte—Park方法[注]Ginarte—Park方法：以知識(shí)產(chǎn)權(quán)范圍評(píng)估各國(guó)專利制度的差異和差距。(簡(jiǎn)稱GP方法)以衡量其他國(guó)家專利保護(hù)水平來(lái)作為比較[23]，如表3所示，我國(guó)專利保護(hù)水平在2008年后達(dá)到4以上的水平(圖3的數(shù)據(jù))，超越很多發(fā)達(dá)國(guó)家1995年的水平，且位居發(fā)展中國(guó)家首位。

表2 主要國(guó)家的研發(fā)投入強(qiáng)度

資料來(lái)源：主要數(shù)據(jù)根據(jù)OECD《主要科學(xué)技術(shù)指標(biāo)》、世界銀行WDI數(shù)據(jù)庫(kù)和中國(guó)科學(xué)技術(shù)部科技統(tǒng)計(jì)資料匯編整理

表3 歐美和亞洲部分國(guó)家的專利保護(hù)水平(G-P指數(shù))

資料來(lái)源：Ginarte J.C.,Park W.G.,Determinants of Patent rights:A cross-national study. Research Policy, 1997,26(3):283-301.

五、實(shí)證分析結(jié)果及解釋

本文運(yùn)用前文三次函數(shù)的庫(kù)茨涅茨曲線模型來(lái)分析我國(guó)1987-2013年間三大區(qū)域?qū)＠Ｗo(hù)水平對(duì)技術(shù)創(chuàng)新績(jī)效的影響，結(jié)果如表4所示。

根據(jù)表4中回歸(1)結(jié)果我們可以看出，在專利保護(hù)溫和期內(nèi)，在其他條件不變的情況下，專利保護(hù)程度每增加1%，技術(shù)創(chuàng)新績(jī)效增加0.865%；而在專利保護(hù)嚴(yán)格期內(nèi)則出現(xiàn)相反現(xiàn)象。從回歸(2)結(jié)果我們可以得到：通過(guò)相關(guān)系數(shù)的判斷，無(wú)論是東部地區(qū)、中部地區(qū)、西部地區(qū)還是從全國(guó)來(lái)講，雖然系數(shù)大小上有所差別，即圖形的陡峭度有所區(qū)別，但整體上專利保護(hù)水平和技術(shù)創(chuàng)新績(jī)效的關(guān)系都滿足α1>0，α2<0，α3=0的條件，即呈現(xiàn)出“倒U”型關(guān)系，假若對(duì)專利的保護(hù)超過(guò)一定的限度，會(huì)導(dǎo)致技術(shù)創(chuàng)新績(jī)效的降低。這一定程度上從實(shí)證角度上驗(yàn)證了之前的經(jīng)驗(yàn)假設(shè)。

表4 專利保護(hù)水平對(duì)區(qū)域技術(shù)創(chuàng)新 績(jī)效的影響效應(yīng)檢驗(yàn)結(jié)果

注:括號(hào)內(nèi)為t統(tǒng)計(jì)量，雙尾檢驗(yàn)的顯著水平。*表示在10%水平下顯著。表中回歸(1)采用東、中、西三個(gè)區(qū)域組成的面板數(shù)據(jù)的固定效應(yīng)模型，其中專利保護(hù)溫和期和嚴(yán)格期分別代表時(shí)間為1987-2007與2008-2013；回歸(2)采用1987-2013年各地區(qū)時(shí)間序列數(shù)據(jù)的OLS。

六、結(jié)論與建議

我國(guó)專利保護(hù)制度和區(qū)域技術(shù)創(chuàng)新績(jī)效在1987-2013年間呈現(xiàn)出“倒U”型的關(guān)系，特別是在1987-2007年間，專利制度處于相對(duì)溫和狀態(tài)下，其技術(shù)創(chuàng)新產(chǎn)生激勵(lì)作用尤為明顯，但之后隨著專利保護(hù)處于嚴(yán)格期反而有可能造成技術(shù)創(chuàng)新績(jī)效下降。具體而言，隨著我國(guó)專利保護(hù)制度的日趨完善，促使區(qū)域技術(shù)創(chuàng)新績(jī)效也在不斷提高，但創(chuàng)新能力以及創(chuàng)新激勵(lì)并不一定能隨之提升，而且呈現(xiàn)出明顯的區(qū)域差異性和發(fā)展不平衡性，例如東部地區(qū)整體技術(shù)創(chuàng)新績(jī)效明顯高于中西部地區(qū)，東部地區(qū)受專利制度變革影響也很顯著，而中西部都有一定的時(shí)滯效應(yīng)。

針對(duì)得到的結(jié)論，本文可形成以下重要性的政策建議：

(1)增強(qiáng)專利保護(hù)關(guān)注力度，深化專利保護(hù)制度建設(shè)。一方面，政府應(yīng)根據(jù)當(dāng)前經(jīng)濟(jì)社會(huì)發(fā)展的現(xiàn)實(shí)境況，審時(shí)度勢(shì)、加大專利保護(hù)的關(guān)注力度，及時(shí)改進(jìn)和完善知識(shí)產(chǎn)權(quán)保護(hù)政策設(shè)計(jì)，從而不斷提升技術(shù)創(chuàng)新績(jī)效水平，同時(shí)努力增進(jìn)公共資源服務(wù)均等化、以及提升專利保護(hù)服務(wù)水平的基礎(chǔ)上不斷增強(qiáng)專利保護(hù)的創(chuàng)新能力；另一方面，進(jìn)一步完善專利保護(hù)立法執(zhí)法工作，著力提升專利制度建設(shè)水平。首先從立法工作著手，健全專利保護(hù)相關(guān)法律法規(guī)的科學(xué)性、完備性，切實(shí)維護(hù)專利產(chǎn)權(quán)的公平性和有效性；其次從專利執(zhí)法效果入手，加強(qiáng)行政執(zhí)法和司法保護(hù)工作，完善知識(shí)產(chǎn)權(quán)交易中心等服務(wù)機(jī)構(gòu)建設(shè)，促進(jìn)專利產(chǎn)品實(shí)現(xiàn)跨區(qū)域高效配置，加快專利技術(shù)向?qū)嶋H生產(chǎn)力的轉(zhuǎn)化。

(2)正確把握技術(shù)創(chuàng)新績(jī)效的區(qū)域差異性，因地制宜的實(shí)行專利保護(hù)。對(duì)專利保護(hù)強(qiáng)度和技術(shù)創(chuàng)新績(jī)效水平較高的東部地區(qū)，應(yīng)憑借其豐富的專利知識(shí)和人才儲(chǔ)備，充分挖掘?qū)＠Ｗo(hù)的成功經(jīng)驗(yàn)，持續(xù)推進(jìn)專利制度建設(shè)，以市場(chǎng)需求為導(dǎo)向營(yíng)造良好的技術(shù)創(chuàng)新環(huán)境，強(qiáng)化高技術(shù)產(chǎn)業(yè)集聚發(fā)展，以提高研發(fā)成果的實(shí)際產(chǎn)出水平并形成全國(guó)范圍內(nèi)復(fù)制推廣的普遍經(jīng)驗(yàn)。對(duì)專利保護(hù)強(qiáng)度較低的東部欠發(fā)達(dá)地區(qū)，需要加強(qiáng)對(duì)已有專利技術(shù)和人才的保護(hù)與重視并進(jìn)一步完善專利知識(shí)產(chǎn)權(quán)、人才等相關(guān)法律建設(shè)，為專利研發(fā)提供完善的制度保障，使專利更好的發(fā)揮對(duì)技術(shù)創(chuàng)新的帶動(dòng)作用。對(duì)專利制度建設(shè)已達(dá)一定水平的中部地區(qū)，由于大部分地區(qū)經(jīng)濟(jì)增長(zhǎng)快速啟動(dòng)，未來(lái)重點(diǎn)是加強(qiáng)對(duì)區(qū)域技術(shù)創(chuàng)新活動(dòng)的資金扶持和政策支持，在進(jìn)一步完善專利制度建設(shè)的同時(shí)，著力整合社會(huì)資源，以市場(chǎng)化的專利保護(hù)機(jī)制為依托，搭建差異化的區(qū)域技術(shù)創(chuàng)新高低，提高創(chuàng)新產(chǎn)出。對(duì)專利保護(hù)強(qiáng)度和經(jīng)濟(jì)發(fā)展較為落后的西部地區(qū)，一方面要加快國(guó)內(nèi)外核心技術(shù)的引進(jìn)與吸收，通過(guò)技術(shù)外溢或?qū)W習(xí)效應(yīng)實(shí)現(xiàn)區(qū)域創(chuàng)新體系的便捷式發(fā)展，另一方面要加強(qiáng)專利制度建設(shè)，通過(guò)提供制度保障、環(huán)境保障、政策優(yōu)惠等促進(jìn)企業(yè)自主研發(fā)，實(shí)現(xiàn)以原始創(chuàng)新為主的區(qū)域創(chuàng)新體系轉(zhuǎn)型升級(jí)，并最終帶動(dòng)西部地區(qū)經(jīng)濟(jì)發(fā)展。

(3)實(shí)施動(dòng)態(tài)專利保護(hù)機(jī)制。縱觀《中華人民共和國(guó)專利法》制定歷程，不難發(fā)現(xiàn)在1992年、2000年及2008年國(guó)家先后對(duì)《中華人民共和國(guó)專利法》進(jìn)行了三次修訂，每次修訂都會(huì)造成我國(guó)發(fā)明專利申請(qǐng)量的回落，從而導(dǎo)致技術(shù)創(chuàng)新績(jī)效出現(xiàn)小幅波動(dòng)。所以，在經(jīng)濟(jì)發(fā)展新常態(tài)下，我國(guó)需要對(duì)專利保護(hù)實(shí)行動(dòng)態(tài)調(diào)整機(jī)制。根據(jù)經(jīng)濟(jì)發(fā)展的需求，適時(shí)、合理的調(diào)整《專利法》保護(hù)制度，激勵(lì)專利發(fā)明量的增長(zhǎng)，提升區(qū)域技術(shù)創(chuàng)新能力，充分服務(wù)經(jīng)濟(jì)發(fā)展的需求。

(4)科學(xué)制定專利保護(hù)標(biāo)準(zhǔn)。從研究結(jié)論看：專利保護(hù)水平和技術(shù)創(chuàng)新績(jī)效呈現(xiàn)出“倒U”型關(guān)系，對(duì)專利的保護(hù)超過(guò)一定的限度，會(huì)導(dǎo)致技術(shù)創(chuàng)新績(jī)效的降低。所以我國(guó)需要因時(shí)制定合理的專利保護(hù)標(biāo)準(zhǔn)。目前，我國(guó)專利保護(hù)水平達(dá)到GP4以上水平，超越很多歐美和亞洲部分國(guó)家專利保護(hù)水平，正處在專利保護(hù)嚴(yán)格期，影響了我國(guó)技術(shù)創(chuàng)新績(jī)效能力的創(chuàng)新。為此，政府需要做出充足的調(diào)研，及時(shí)調(diào)整專利保護(hù)水平，有效激勵(lì)技術(shù)創(chuàng)新績(jī)效能力的提升。