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        高能電子轟擊金屬靶產(chǎn)生正電子的模擬研究

        2018-12-03 00:19:00張登紅袁肖肖于得洋蔡曉紅
        關(guān)鍵詞:產(chǎn)額正電子電子束

        張登紅,袁肖肖,王 偉,于得洋,蔡曉紅

        (1.西北師范大學(xué)物理與電子工程學(xué)院,甘肅蘭州 730070; 2.中國(guó)科學(xué)院近代物理研究所,甘肅蘭州 730000)

        自從1936年Anderson[1]發(fā)現(xiàn)正電子以來(lái),正電子在很多領(lǐng)域已經(jīng)得到很大的應(yīng)用.獲取符合能量需求和束流強(qiáng)度的正電子源,并將其在加速器上實(shí)現(xiàn)變得非常重要.自從Stanford[2]在Stanford Mark Ⅲ直線(xiàn)加速器上產(chǎn)生正電子束之后,利用高能電子轟擊金屬靶,在電子-伽馬簇射的基礎(chǔ)上產(chǎn)生正電子的研究一直受到人們的廣泛關(guān)注,但是這樣級(jí)聯(lián)簇射產(chǎn)生的正電子有著很寬的能譜和橫問(wèn)動(dòng)量分布.因此模擬和測(cè)量高能正電子的角分布和能譜就很有必要.在北京正負(fù)電子對(duì)撞機(jī)(BEPC)的正電子源的設(shè)計(jì)中[3-4],由于需要收集產(chǎn)生的正電子,很難被后面的加速系統(tǒng)直接俘獲,所以更需要良好的正電子源,對(duì)于正電子的角分布和能譜的測(cè)量就很必要.另外,正電子譜學(xué)的發(fā)展在探查微觀物質(zhì)的結(jié)構(gòu)等方面有很重要的應(yīng)用[5].在原子結(jié)構(gòu)的基礎(chǔ)研究方面[6],利用高能電子束轟擊原子,通過(guò)產(chǎn)物來(lái)驗(yàn)證理論模型的正確性也是一個(gè)重要的研究方向.因此,為了產(chǎn)生較為理想的正電子,需要對(duì)影響正電子產(chǎn)額的因素進(jìn)行細(xì)致的研究,諸如靶材料,電子能量,次級(jí)粒子的類(lèi)型,以及正電子的能譜和角分布等.本文采用Geant4模擬產(chǎn)生正電子過(guò)程,給出了靶材和靶厚對(duì)正電子產(chǎn)額的影響,并且給出了正電子的角分布和能譜,擬合給出了不同的電子能量對(duì)正電子產(chǎn)額的影響.

        1 Geant4 物理模型的建立

        Geant 4模擬計(jì)算高能電子束與金屬靶作用的物理模型如圖1所示.

        圖1 高能電子與金屬靶作用Geant 4模型

        靶的形狀為圓柱體直徑Φ=1 cm,厚度可調(diào).在靶前端為外半徑為80 cm,內(nèi)半徑為70 cm的半球形探測(cè)器.可收集束流方向0~2π范圍立體角內(nèi)的正電子.入射電子的能量可調(diào),高能電子束束流寬度為2 mm.跟蹤電子數(shù)目為3×105個(gè),靶材料分別為鋁、鈦、鐵、銅、鉭、金、鉛和銀.

        為了得到出射正電子的角分布,需要在上述模型的基礎(chǔ)上進(jìn)行改進(jìn),在本實(shí)驗(yàn)中,在距靶中心30 cm的圓周上0°~90°范圍等角度間隔設(shè)置了7個(gè)相同規(guī)格的模擬靈敏探測(cè)器,其主要用途是記錄打到探測(cè)器上正電子的個(gè)數(shù)以及沉積能量.0°角探測(cè)器的表面中心與束流、靶在同一條直線(xiàn)上,且與束流的方向垂直(圖2).

        圖2 正電子角分布Geant4模型

        2 高能電子束與金屬靶作用的物理過(guò)程

        考慮到上述過(guò)程的復(fù)雜性,本實(shí)驗(yàn)采用Geant4物理庫(kù)QGSP_BERT[7],該物理庫(kù)中包含了所有所需的物理過(guò)程.考慮的主要物理過(guò)程有軔致輻射、電子對(duì)效應(yīng)和正負(fù)電子湮滅.主要物理過(guò)程的截面都是由該過(guò)程發(fā)生的雙微分截面(Difference cross section,簡(jiǎn)稱(chēng) DCS)來(lái)確定.

        高能電子在原子核的庫(kù)倫場(chǎng)中發(fā)生軔致輻射,動(dòng)能為T(mén)的電子穿過(guò)單位厚度dx的介質(zhì),產(chǎn)生光子能量為E,其截面為[8]488

        其中,α為精細(xì)結(jié)構(gòu)常數(shù);re為經(jīng)典電子半徑;Na為阿伏伽德羅常數(shù);F(E,v)為介質(zhì)中原子核電荷外層電子而引起的屏蔽作用.由(1)式可以看出,產(chǎn)生光子的幾率與Z和質(zhì)量數(shù)A以及原子序數(shù)均有關(guān)系.原子序數(shù)越高,電子的能量越大,發(fā)生軔致輻射的幾率越高.

        正負(fù)電子湮滅過(guò)程是影響正電子產(chǎn)額的主要因素之一,該截面為[9]37

        其中,γ為正電子的洛倫茲因子.可以看出,正負(fù)電子湮滅過(guò)程與靶材料以及正電子的入射能量有關(guān).

        對(duì)于高能光子與核的作用,能量為E的穿過(guò)介質(zhì)厚度為dx產(chǎn)生正電子的截面為[8]488

        其中,v為正電子能量所占光子總能量的份額;G為影響核電場(chǎng)屏蔽的因子.由(2)式可以看出,光子轉(zhuǎn)換為正負(fù)電子對(duì)與靶材料和光子的能量有關(guān),光子能量越高,反應(yīng)截面越小.

        在模擬過(guò)程中,先對(duì)電子采樣,發(fā)生韌致輻射之后,高能電子的能量轉(zhuǎn)換為正負(fù)電子對(duì),正負(fù)電子對(duì)在庫(kù)倫場(chǎng)中,正電子與電子湮滅.由以上截面公式可知,截面大小與靶材料,入射電子能量以及產(chǎn)生的高能光子湮滅等相關(guān).

        3 Geant 4模擬結(jié)果

        3.1 靶材料對(duì)正電子產(chǎn)額的影響

        在此次實(shí)驗(yàn)中,設(shè)定高能電子束的能量為500 MeV,追蹤初級(jí)電子個(gè)數(shù)為3×105個(gè),靶的厚度為2 cm.采用上述Geant 4幾何模型和物理模型對(duì)鋁、鈦、鐵、錫、鉭、銅、金和鉛等8種靶材料在2π立體角內(nèi)發(fā)射的電子總產(chǎn)額進(jìn)行模擬,結(jié)果如圖3所示.正電子產(chǎn)額歸一化到單位入射電子.通過(guò)模擬可以發(fā)現(xiàn),正電子的產(chǎn)額與原子序數(shù)不是單純的線(xiàn)性關(guān)系,金靶為正電子相對(duì)產(chǎn)額最高的靶材料.

        高能電子與金屬靶作用產(chǎn)生正電子的過(guò)程(Bethe0Heitler,簡(jiǎn)稱(chēng)BH)主要可以近似為兩步過(guò)過(guò)程,第一為高能電子在靠近靶核時(shí),電子減速,多余的能量以光子的形式放出,即電子發(fā)生韌致輻射放出X射線(xiàn),其中電離激發(fā)退激發(fā)也會(huì)產(chǎn)生特征X射線(xiàn);第二步為以上過(guò)程放出的高能光子與靶核作用,發(fā)生電子對(duì)效應(yīng),一個(gè)光子變?yōu)橐粚?duì)正負(fù)電子.通過(guò)以前的研究已經(jīng)確定[10],高能電子與厚靶作用時(shí)占主導(dǎo)作用的是BH過(guò)程.

        孕期普拉提訓(xùn)練整個(gè)過(guò)程均采用普拉提式側(cè)腔呼吸[14],這種鼻吸口呼的方法可以使身體深層肌肉獲得鍛煉,有助于加強(qiáng)腹肌和骨盆底部肌肉收縮功能。同時(shí),對(duì)肺活量進(jìn)行鍛煉,也有利于產(chǎn)婦分娩時(shí)呼吸均勻平穩(wěn),提高潮氣量,增加血氧含量,防止發(fā)生胎兒窘迫[15],降低新生兒窒息危險(xiǎn)性。孕期普拉提訓(xùn)練是一種通過(guò)呼吸技巧強(qiáng)健身體、端正姿勢(shì)、緊實(shí)線(xiàn)條,幫助復(fù)健的運(yùn)動(dòng),它通過(guò)強(qiáng)化腰椎、骨盆核心肌肉群、穩(wěn)定肩帶肌肉群來(lái)幫助改善筋骨柔韌度,增強(qiáng)肌肉耐力,改善孕期腰痛,排除孕期不適,促進(jìn)產(chǎn)婦產(chǎn)后體態(tài)與體力輕松恢復(fù)[16],并有利于降低產(chǎn)后出血發(fā)生率。

        圖3 不同靶材料的正電子產(chǎn)額

        由于產(chǎn)生正電子為韌致輻射占主導(dǎo),則高能電子與靶作用發(fā)生軔致輻射放出光子的產(chǎn)額Y(e)與電子發(fā)生韌致輻射的截面和靶的原子密度N的乘積成正比,即[10]488

        Y(e)∝(Z2Ni)2=(Z2ρNA/A)2,

        其中,Z為靶核原子序數(shù);N為靶核的數(shù)密度;NA為阿伏伽德羅常數(shù);ρ為靶材料密度;A為靶原子質(zhì)量數(shù).通過(guò)以上的分析不難看出,金靶的正電子產(chǎn)額值最大.

        3.2 靶厚對(duì)正電子產(chǎn)額的影響

        對(duì)于電子與靶的作用,靶越厚,原子核密度越大,高能電子與靶的作用過(guò)程中,受到靶原子庫(kù)侖場(chǎng)的影響就會(huì)越大,韌致輻射的截面也會(huì)越大,高能光子與靶原子核作用產(chǎn)生的正電子也越多.但由Henderson[22]等的模擬結(jié)果發(fā)現(xiàn),在正電子與靶物質(zhì)作用的過(guò)程中,如果靶過(guò)厚,使正電子與電子湮滅而不能逃出靶外,會(huì)有一個(gè)最佳靶厚度.因此,在靶材料為金的情況下,分別模擬了不同電子束能量下靶的厚度對(duì)正電子產(chǎn)額的影響(圖4).

        從圖4中可以看出隨著能量的增加,正電子的相對(duì)產(chǎn)額也隨之增加.隨著靶厚的增加,正電子的產(chǎn)額有一個(gè)明顯的峰值,最佳靶厚為1 cm.而隨著靶厚的繼續(xù)增加,正電子的產(chǎn)額有逐漸降低的趨勢(shì),這是由于靶厚增加,電子密度增加,正電子與靶電子湮滅,而此時(shí)湮滅的光子能量相對(duì)較低,產(chǎn)生正電子的幾率減小.

        圖4 不同電子束能量下正電子產(chǎn)額與靶厚的關(guān)系

        為了得出電子束能量與正電子產(chǎn)額的關(guān)系,在金靶厚度為1 cm時(shí),模擬給出了電子束能量與正電子產(chǎn)額的關(guān)系曲線(xiàn).并對(duì)該曲線(xiàn)進(jìn)行二次多項(xiàng)式擬合,擬合方程為y=0.45956x2+0.30017x+0.00188.正電子最高產(chǎn)額約為2.98×107個(gè)(圖5).

        圖5 正電子產(chǎn)額與電子束能量的關(guān)系

        3.3 正電子及主要次級(jí)粒子的角分布及其能譜

        電子束與厚靶材料作用的過(guò)程中,BH過(guò)程占主導(dǎo).為得到該過(guò)程中產(chǎn)生正電子的角分布,在Geant 4中建立了圖2所示的模型,由于在空間上的對(duì)稱(chēng)性,追蹤了0°~90°范圍內(nèi)的正電子產(chǎn)額,七個(gè)探測(cè)器可以同時(shí)工作,追蹤同一次事件中正電子在不同角度到達(dá)探測(cè)器的數(shù)額.模擬跟蹤電子數(shù)為3×105個(gè).得到的正電子角分布如圖6所示.

        可以看出,正電子的角分布呈現(xiàn)明顯前傾的趨勢(shì),隨著能量的增加,前傾的趨勢(shì)趨于穩(wěn)定.由此可以得出,正電子的角分布具有前傾趨性,且這種前趨性不會(huì)隨著電子的能量而有太大的變化.

        圖7給出了電子束能量為1.5 GeV時(shí),正電子在探測(cè)器0°,45°,90°這3個(gè)方向上的沉積能量譜模擬結(jié)果.從圖中可以看出,3個(gè)能量都呈現(xiàn)類(lèi)麥克斯韋分布.0°方向的能譜最高.

        圖6 正電子的角分布

        圖7 不同出射方向的正電子能譜

        3 結(jié)束語(yǔ)

        利用蒙特卡羅程序Geant4對(duì)高能電子束轟擊固體靶中的輸運(yùn)規(guī)律進(jìn)行了模擬.利用該模型研究了能量在100 MeV~1.5 GeV的電子束與固體靶的作用過(guò)程.研究發(fā)現(xiàn),金靶為最佳靶材料;在電子束能量確定的條件下,靶厚對(duì)正電子的產(chǎn)生也有影響,1 cm為最佳的靶厚;同時(shí)對(duì)1 cm靶厚下電子束能量與正電子產(chǎn)額關(guān)系進(jìn)行結(jié)果擬合,擬合表明提高正電子產(chǎn)額的方法之一是提高電子束能量.正電子的產(chǎn)生具有明顯能量前傾的特點(diǎn),而且能量越高前傾越明顯.產(chǎn)生正電子能量為類(lèi)麥克斯韋分布.

        (責(zé)任編輯 孫對(duì)兄)

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