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        摻雜光纖預制棒制造工藝的改進

        2018-10-29 08:03:20
        天津科技 2018年10期
        關鍵詞:工藝

        王 芹

        (中國電子科技集團公司第四十六研究所 天津300220)

        0 引 言

        很多高功率光纖激光器或放大器使用的光纖都是活性離子摻雜光纖。鐿離子(Yb3+)具有較寬的發(fā)射帶寬(一般為 975~1200nm)、激發(fā)壽命長并且可以在較高濃度的情況下和二氧化硅共存,使之成為制造摻雜光纖的首選[1]。

        由于摻雜光纖設計和制造技術的進步,實現(xiàn)了光纖激光器的高功率輸出。光纖結構,如大模場(LMA)光纖、大平坦模(LFM)光纖,以及具有幾何形狀纖芯的光纖[2-5],都有助于光纖激光器輸出功率的進一步增大。在這些方面優(yōu)化波導結構通常需要制造具有大芯徑和更加復雜的幾何結構,對于這兩個先決條件,制造過程中需要能夠以可控的方式將 10層左右的摻雜層沉積下來。

        使用改進的化學氣相沉積(MCVD)制備制作的光纖預制棒過程中[6],在室溫條件下,由于稀土離子的鹵化物本身蒸氣壓低,不可能將其(如Er3+和Yb3+)沉積在傳統(tǒng)的起泡系統(tǒng)中。為增加稀土離子在石英玻璃中的溶解度,我們加入了 Al,但仍會遇到類似問題[7]。為克服這些問題,我們使用溶液摻雜法[8-10]。在芯部沉積階段前,降低燃燒溫度將一個多孔氧化物層沉積層(疏松層)在石英管內部沉積;再將做好疏松層的石英管從車床上取出,并垂直浸泡在溶液中,溶液中含有溶解在溶劑中的稀土元素。經 1~2h后抽干溶液,剩下的溶劑蒸發(fā);然后在車床上重新組裝石英管,將摻雜有稀土元素的疏松層進行燒結,形成光纖預制棒。溶液摻雜技術,由于其工藝簡單、成本低,被廣泛用來制作摻雜光纖預制棒。

        然而,其缺點也是明顯的。在預制棒制造過程中需要沉積多個層,當石英管重新裝回到車床上時,必須重新熔接,這種重復的拆卸和組裝將減少預制棒可用的長度,無形中增加了單根預制棒的成本;此外,在設備間傳送石英管時,也有可能引入污染物和降低預制棒強度的灰塵等雜質,而且溶液浸泡疏松層過程非常耗時,只適合2~4層的沉積。

        在本文中,我們采用了一種改進的溶液摻雜技術,由于取消了從車床上拆卸和重新裝配石英管的過程,大幅減少了疏松層與溶液摻雜過程所需的時間,同時也提高了鐿離子的摻雜濃度。

        1 制作預制棒

        在 MCVD設備上制備光纖預制棒,取一根石英管作為沉積管。首先制作疏松層,二氧化硅以氣相沉積的方式沉積在石英管內壁上。為了保證疏松層良好的疏松度,火焰溫度應控制在 1550~1650℃之間。不像傳統(tǒng)的溶液摻雜法那樣,從車床上移除石英管,而是如圖 1所示,把一個直徑小一些的石英管放入沉積管的尾部,另一端管通過塑料軟管連接在泵上。在石英管的頂端使用特制的適配器固定,以避免觸碰疏松層。摻雜溶液通過輸送管以 5~15mL/min的速率緩慢輸送到疏松層。一旦這一層完全浸透達到預定長度,輸送管就會被取出,剩下的溶劑就會蒸發(fā)掉。在新的工藝中,石英管并沒有完全浸入到摻雜溶液中,疏松層上只有薄薄的一層溶液,更容易蒸發(fā)。然后充入惰性氣體進行干燥,時間約為 30min,完全干燥后,摻雜的氧化層就會被燒結,再通過常規(guī)方式進行縮棒。

        圖1 摻雜光纖預制棒制作示意圖Fig.1 Preparation of doped fiber preform

        2 對比采用不同工藝制備的預制棒

        我們通過改進工藝流程,優(yōu)化了疏松層、溶劑、浸漬、干燥等條件,使用新的工藝制作了幾根預制棒,證明此種方法是可行的。

        為了比較新工藝和常規(guī)溶液摻雜工藝的差別,利用完全相同的摻雜溶液分別制備一根預制棒。使用F300石英管(這種石英管一致性較高),火焰溫度控制在 1600℃左右,制作疏松層。預制棒 A采用新工藝制備,摻雜溶液以10~12mL/min的進料速率被送入石英管,直到疏松層浸透,之后充入氮氣干燥30min。整個過程中,石英管一直在車床上。預制棒B采用常規(guī)溶液摻雜法制備,1h垂直浸泡,1h垂直干燥。測試結果如圖 2。預制棒 A的芯 NA值約為0.17,而預制棒B的芯NA值為0.13;A和B的芯徑分別為0.99mm和0.86mm。每個預制棒折射率隨長度的變化小于 5×10-4。芯徑的微小差異是由于摻雜溶液在導入時石英管體積增加所致[11]。

        圖2 預制棒A和預制棒B的折射率分布圖Fig.2 Refractive index profile of Preform A and Preform B

        3 對比兩種工藝制備的摻鐿光纖

        為了進一步評估鐿的摻雜濃度,預制棒 A和預制棒 B都會制作成雙包層光纖(DCF),使用一般的光纖拉絲塔拉制,分別表示為光纖A和光纖B。光纖折射率采用Photon Kinetics S14測量,光纖A鐿摻雜濃度為 10500×10-6,光纖 B 鐿摻雜濃度為 4800×10-6。使用率光時域反射計(OTDR)在 1285nm 波長測量了兩根光纖的損耗,光纖長度為 100m,光纖 A和光纖B的本底損耗分別為38dB/km和21dB/km。光纖 A的值偏高是由于鐿離子濃度增加導致的散射損耗,其激光輸出功率特性如圖3所示。

        圖3 光纖A激光輸出功率和輸出譜Fig.3 Laser output power(linear fit)and output spectrum(inset)of fiber A

        為了補償測量過程中設備的微小不穩(wěn)定性,在數(shù)據(jù)點上已經包含了 5%的誤差,并應用了線性擬合。光纖 A的輸出功率達到 13.7W,斜率效率為 79%;光纖B最大輸出功率為13.6W,斜率效率為78%。

        4 結 語

        利用新的溶液摻雜工藝制備摻鐿光纖是可行的。該工藝與標準 MCVD設備兼容,與常規(guī)溶液摻雜工藝相比,新工藝可以顯著增加鐿離子的摻雜濃度,減少預制棒的制作時間,大幅降低制造成本,提高光纖斜率效率。研制的摻鐿光纖適用于高功率光纖激光器或光纖放大器等領域。

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