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        電化學(xué)法去除水中溴酸鹽的研究進(jìn)展

        2018-10-21 21:16:57劉佳
        中國房地產(chǎn)業(yè)·中旬 2018年11期
        關(guān)鍵詞:溴酸鹽電化學(xué)

        摘要:含溴離子水源水在臭氧消毒過程中產(chǎn)生的溴酸鹽具有一定的DNA和染色體水平的遺傳毒性,被國際癌癥研究機(jī)構(gòu)列為潛在致癌物質(zhì)。本文綜述了國內(nèi)外采用不同電極電催化去除溴酸鹽的研究成果。

        關(guān)鍵詞:溴離子;溴酸鹽;電化學(xué);去除

        一、地表水源中的溴離子

        地球上大部分的溴元素以Br-的形態(tài)存在于咸水湖和海水中,自然水體中的Br-濃度通常為0.015~0.2mg/L。溴離子本身無毒性,《生活飲用水衛(wèi)生標(biāo)準(zhǔn)GB5749-2006》中也未規(guī)定其限值標(biāo)準(zhǔn)。但其作為溴酸鹽等消毒副產(chǎn)物的前體物,含量決定著后續(xù)水處理工藝中溴酸鹽的可能產(chǎn)生量。一般認(rèn)為當(dāng)原水中溴離子濃度在50-100μg/L之間時,經(jīng)過臭氧高級氧化工藝有可能形成溴酸鹽,若原水中溴離子濃度超過100μg/L,嚴(yán)重時溴酸鹽將超過飲用水標(biāo)準(zhǔn)中規(guī)定的最大容許濃度(100μg/L)。

        二、飲用水中溴酸鹽的產(chǎn)生途徑

        溴酸鹽由于能夠致DNA損傷、致癌及致畸而受到廣泛關(guān)注,被世界衛(wèi)生組織(WHO)定為2B級潛在致癌物。

        目前對BrO3-生成機(jī)制研究較多的是臭氧消毒工藝。臭氧消毒工藝中溴酸鹽的生成途徑通常分為三種:一是O3直接氧化途徑,二是直接一間接氧化途徑(先O3氧化后·OH氧化),三是間接一直接氧化途徑(先·OH氧化后O3氧化)。除此之外,黃鑫等人使用UV/C12聯(lián)合工藝處理長江原水時發(fā)現(xiàn)部分溴離子被氧化生成溴酸根離子。

        三、電化學(xué)去除溴酸鹽

        國內(nèi)外針對溴酸鹽的去除技術(shù)開展了大量的研究工作,主要包括活性炭吸附法、離子交換法、光降解法、化學(xué)還原法及電化學(xué)法。其中電化學(xué)法利用特制的電極,在不添加化學(xué)試劑的情況下通過電解達(dá)到降解污染物目的,以其環(huán)境友好、工藝形式靈活、設(shè)備簡單、易于實現(xiàn)工業(yè)化等優(yōu)勢廣泛應(yīng)用于飲用水的消毒及污染物去除。

        電化學(xué)去除溴酸鹽主要是通過溴酸鹽溶液在電極上發(fā)生還原反應(yīng)達(dá)到去除目的,主要通過兩個途徑:直接還原和間接還原。直接還原是指溴酸鹽直接在陰極上得到電子發(fā)生還原反應(yīng);間接還原是指利用電化學(xué)反應(yīng)過程中H+或H2O電解產(chǎn)生的強(qiáng)還原性氫原子H+作為催化劑還原溴酸鹽的方法。

        Naoyuki Kishimoto和Nobuaki Matsuda研究了溴酸鹽在活性炭氈電極反應(yīng)器中的去除情況,考察了pH、電壓等因素對還原效果的影響。結(jié)果表明電壓為7V時,接觸反應(yīng)9.2s后達(dá)到最優(yōu)去除率為52%。

        Liang Ding等人通過原位化學(xué)氧化法合成聚苯胺/多壁碳納米管修飾玻碳電極還原溴酸鹽。反應(yīng)60min后,初始濃度為10mg/L的溶液去除率最高,為48.9%。而用聚苯胺改性玻碳電極后還原溴酸鹽,pH為7時反應(yīng)25min后去除率可達(dá)99%。實驗中溴酸鹽的還原產(chǎn)物Br-會持續(xù)摻雜到聚苯胺鏈中,致使聚苯胺改性電極的電催化性能隨著電還原反應(yīng)的進(jìn)行而降低。

        K.Matziaris等人對錫電極進(jìn)行了電化學(xué)性能測試,結(jié)果表明錫電極對溴酸鹽有很好的催化還原性能,反應(yīng)150min后能去除75.6%的溴酸鹽。

        Naoyuki Kishimoto等人研究了分層銅網(wǎng)做陰極快速去除水中溴酸鹽的可行性,實驗表明在中性pH附近,經(jīng)過3.6min的反應(yīng)可將初始濃度為30μg/L的溴酸鹽溶液降解至10μg/L。

        李昂臻等人比較了石墨電極、碳紙電極、泡沫鎳電極及泡沫銅電極對溴酸鹽的去除效果,在反應(yīng)時間10min內(nèi),泡沫銅電極去除率最高,泡沫鎳電極次之。反應(yīng)60min后泡沫銅電極去除率可達(dá)到97.7%,且隨著陰極電勢的降低,去除率先升高后降低。

        黃鑫、劉佳等人通過一步化學(xué)沉積法在Ni foam基底上負(fù)載Pd顆粒,極大增加了其比表面積和活性位點(diǎn),過渡金屬Pd易于將水解產(chǎn)生的H*儲存在其晶格中,形成表面化合物Pd-H*,增強(qiáng)了整個電極對BrO3-的催化去除能力。在pH為7時反應(yīng)3h后對溴酸鹽的去除率可達(dá)到90.7%,還原產(chǎn)物主要為Br-

        四、結(jié)語

        電化學(xué)法具有一定的去除溴酸鹽的效果,不同電極的催化還原溴酸鹽性能差異較大,電極是實現(xiàn)電化學(xué)反應(yīng)的關(guān)鍵因素,決定著處理過程中的反應(yīng)速度和電流效率等,性能優(yōu)良的催化電極是取得滿意去除效果的前提。

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