王俊昌

摘要：文章以面板數據為基礎，從理論和實證方面研究了知識產權保護對我國高技術產業(yè)技術創(chuàng)新的影響。理論上結合所學文獻分析了知識產權對企業(yè)技術創(chuàng)新的正向、負向影響。然后收集了2009～2014年間我國31個省份的知識產權指數和高技術產業(yè)的新產品增加值，R&D;經費等相關數據。運用面板數據的固定效應模型分析得出了知識產權指數對我國整體高技術產業(yè)的影響。得出就全國而言，知識產權對高技術產業(yè)的技術創(chuàng)新是有負向影響的。也就是說增加知識產權保護強度會降低我國高技術產業(yè)的技術創(chuàng)新能力。

關鍵詞：知識產權；高技術產業(yè)；固定效應模型；技術創(chuàng)新；

一、引言及文獻綜述

高技術產業(yè)的發(fā)展與一個國家實力息息相關，是一個知識與技術密集結合的新興產業(yè)。自改革開放以來，特別是20世紀80年代以來，中國依靠人口紅利、土地紅利、政策紅利以及較低環(huán)境規(guī)制成本，在經濟全球化的背景下，積極參與國際價值鏈體系分工，帶動了高技術產業(yè)的發(fā)展，創(chuàng)造了舉世矚目的經濟發(fā)展成就。然而，隨著傳統(tǒng)成本優(yōu)勢逐漸的喪失，怎么繼續(xù)發(fā)展高技術產業(yè)，是需要關注的問題。知識儲備作為發(fā)展高技術服務業(yè)的基石，可以想象其對于高技術產業(yè)創(chuàng)新的重要作用。在影響高技術產業(yè)技術創(chuàng)新的因素中，對于發(fā)明專利等知識產權的保護發(fā)揮著不容小覷的作用，一方面，知識產權可以保護創(chuàng)新者的權益，以防他人在不用付成本的情況下盜取、利用創(chuàng)新者的研究成果；但是另一方面，知識產權的過度保護又會產生技術壟斷，對于技術的發(fā)展創(chuàng)新有一定的抑制作用。那么知識產權保護對我國高技術產業(yè)的自主創(chuàng)新到底起到促進還是抑制或者是有更復雜的關系？李小林、馬春暉（2014），從理論和實證方面研究了知識產權保護對發(fā)展中國家的技術創(chuàng)新的影響，對1995～2010年54個發(fā)展中國家的6個子產業(yè)的產業(yè)面板數據進行了實證檢驗后，得到知識產權保護對于發(fā)展中國家的技術創(chuàng)新有重要的推動作用。張?zhí)痂?，基?011～2014年我國各地區(qū)大中型工業(yè)企業(yè)數據，以專利申請量度量各省的技術創(chuàng)新能力，發(fā)現加強知識產權保護能夠提升絕大多數地區(qū)工業(yè)企業(yè)的技術創(chuàng)新能力。而曹勇、胡歡歡，在辯證分析知識產權對技術創(chuàng)新的影響中用理論分析的方法闡述了知識產權對技術創(chuàng)新的積極與消極影響，對文獻進行綜述和理論評析，更多的看到知識產權對技術創(chuàng)新的消極影響的一面。

從上述文獻中不難發(fā)現，學者大多是對于知識產權保護對大中型工業(yè)企業(yè)的創(chuàng)新研究，而對于我國高技術產業(yè)的技術創(chuàng)新影響實證分析較少。本文基于2009～2014年我國31個省份高技術產業(yè)的面板數據，運用固定效應模型的方法，考察知識產權保護強度對我國高技術產業(yè)創(chuàng)新能力的影響與作用機制。響應我國雙創(chuàng)的戰(zhàn)略實施，為我國知識產權保護政策的制定獻上微薄之力。

二、知識產權對技術創(chuàng)新的作用機制

（一）正向作用機制

激勵作用：企業(yè)進行技術創(chuàng)新的目的無非是通過技術創(chuàng)新擁有比競爭對手更強的市場競爭力，從而獲得高額的收益。然而如果技術創(chuàng)新的成果被競爭對手盜取，那么這種技術優(yōu)勢就不存在了，勢必會影響技術創(chuàng)新者研發(fā)新技術新產品的動機。知識產權的出現正好解決了這一問題。例如專利保護，創(chuàng)新者可以通過申請專利，來使自己的發(fā)明創(chuàng)新得到法律意義上的保護。如果別人使用自己的發(fā)明成果就要向專利擁有者支付專利費用等。知識產權保護可以讓專利擁有者在相當長的時期內擁有技術壟斷的權利，那么創(chuàng)新者也就可以在這一時期內獲得自己想要的專利回報。這樣也就可以提高想要創(chuàng)新的企業(yè)的研發(fā)動機。另外，這種激勵作用還表現在可以吸引一些發(fā)達國家的投資（FDI），研究表明，知識產權能夠吸引高質量的FDI引入，因為越是擁有高技術的企業(yè)，就越會忌憚進入到其他國家之后自己的技術優(yōu)勢會被竊取、模仿。那么知識產權制度就很好的解決了這一顧慮，為外資提供了良好的技術環(huán)境支持，可以讓外商能夠較安心的在本國內投資建廠。而FDI的技術溢出效應可以提高我國的技術創(chuàng)新能力。

（二）負向作用機制

技術壟斷：張平（2004），認為由于專利保護制度賦予權利人在相當長的時間內的壟斷權利，勢必在很大程度上抑制了可供交易的創(chuàng)新成果的供應量，減弱了創(chuàng)新成果從潛在的生產力變?yōu)楝F實中可供使用、模仿、學習的創(chuàng)新成果的可能性，同時也就不可避免會阻礙科技成果更大范圍內的傳播，延長了創(chuàng)新與新產品的循環(huán)周期。專利保護期越長，對于社會來說，潛在的損失也就越嚴重。從全球整體范圍來看，知識產權的強保護對于發(fā)展中國家的技術創(chuàng)新來說是有很大的負面作用的。吳漢東，指出，高水平的知識產權保護并不有益于那些發(fā)展水平較薄弱的國家，因為在那種框架下，他們難以獲得發(fā)展所需要的科學技術。與此同時，一些發(fā)達國家為了達到自己經濟利益最大化的目的，充分利用自己在資本、技術等方面的優(yōu)勢，加上知識產權自身的專有性特點來壟斷發(fā)展中國家的技術和市場，再加上發(fā)展中國家技術，經濟的落后原因，以及對于發(fā)達國家投資的強烈渴望，不可避免的會在知識產權的立法保護方面向發(fā)達國家有一定的“照顧”。這樣就會對國內的技術創(chuàng)新帶來不公平的待遇，從而在一定程度上減少本國的創(chuàng)新績效。另外，由于科技快速的發(fā)展，會導致知識產權保護的范圍很難界定。

三、實證分析

（一）模型設定

本文依據新古典增長理論，產生產業(yè)增加值要有勞動和資本的投入，且模型一般形式為：

Y=AKαLβ（1）

由于本文側重研究知識產權對于高技術產業(yè)的創(chuàng)新影響情況，結合前人觀點，遂采用高技術產業(yè)新產品增加值作為被解釋變量，地方知識產權保護指數作為主要解釋變量。然后考慮影響創(chuàng)新的因素，很顯然要用高技術產業(yè)的R&D;人員和R&D;資本投入量作為控制變量?？紤]到高技術產業(yè)新產品的生產和專利申請量密切相關，所以將有效專利申請量也作為模型的控制變量，另外借鑒單婷婷、黃騰的觀點，將當地財政支出作為控制變量。顧可以將（1）式演變?yōu)椋?/p>

LNYit=β1LNIPRit+β2LNPFEit+β3LNPOPit

+β4LNPANTENTit+β5LNRD+εit（2）

其中Yit表示高技術產業(yè)新產品增加值，i=1，2，3，...，31表示全國31個省份，t=1，2，3，4，5，6表示數據年份2009～2014年，IPR為地區(qū)知識產權保護指數，數據來源于知識產權指數報告網站；PFE為政府對地方用于科技方面的財政支出；POP為從事研發(fā)的人員；PATENT為地區(qū)所授權的發(fā)明專利的數量；RD代表當地投入的R&D;經費。數據均來自于中國統(tǒng)計年鑒和中國科技年鑒。

（二）平穩(wěn)性檢驗

這里采取的是ADF方法檢驗數據序列的平穩(wěn)性，對LNY，LNIPR，LNPFE，LNPOP，LNPATENT，LNRD以及他們的一階差分變量分別進行平穩(wěn)性檢驗?？梢钥闯?，時間序列LNY，LNIPR，LNPFE，LNPOP，LNPATENT以及LNRD的ADF值均大于1%水平的臨界點，是非平穩(wěn)序列。而其一階差分變量DLNY，DLNIPR，DLNPFE，DLNPOP，DLNPATENT以及DLNRD的ADF值均在1%的水平下接受數據是平穩(wěn)的假設。所以DLNY，DLNIPR，DLNPFE，DLNPOP，DLNPATENT以及DLNRD是平穩(wěn)序列，并且都是一階單整序列。

隨機效應模型檢驗：在隨機效應模型中，從檢驗的結果可以看出，LNIPR變量在1%的水平不顯著。因此通過HAUSMAN檢驗來確定模型是隨機的還是固定的。

HAUSMAN檢驗：這里用HAUSMAN檢驗判斷時間是固定效應還是隨機效應。HAUSMAN檢驗結果顯示Chi-Sq. Statistic為11.817691，p值為0.0374，小于顯著性水平0.05，則拒絕原假設，則該模型支持固定效應模型。

固定效應模型檢驗：由HAUSMAN檢驗得知該模型適合固定效應模型。用Eviews7.2軟件運行后，結果如表1所示。

建立如下模型：

LNYit=-1.155LNIPRit+0.004LNPFEit+0.7LNPOPit+0.077LNRDit+0.303LNPA-TENTit-4.883+εit（3）

從回歸結果可以看出知識產權保護LNIPR的回歸系數是負的，那就表明知識產權對于我國整體高技術產業(yè)創(chuàng)新的影響為負向的，也就是說提高知識產權的保護強度會略微減弱我國高技術產業(yè)的技術創(chuàng)新。這可能是由于上面理論分析中所提到的高水平的知識產權保護并不有益于那些發(fā)展中國家，因為在那種框架下，他們難以獲得發(fā)展所需要的科學技術。另外，由于高技術產業(yè)的創(chuàng)新發(fā)明技術含量更高一些，高技術含量的發(fā)明創(chuàng)造僅僅依靠模仿學習是不足以進行消化吸收再創(chuàng)新的，需要更多的了解其中的作用機理?？梢钥闯鯬FE和RD的系數都比較小，也就是說相對于增加研發(fā)費用來說，增加研發(fā)人員對于高技術產業(yè)的創(chuàng)新能力的增強，更為明顯。這就說明了研發(fā)經費已達到幾乎飽和的狀態(tài)，并且需要更多的研發(fā)人員，畢竟人才是研發(fā)主體。另外本文也有一些不足的地方，比如沒有考慮知識產權和其他影響因素的協同作用等，以后會加以改正。

四、結論與對策建議

由結果可以得知知識產權對于我國高技術產業(yè)的技術創(chuàng)新來說是具有負向影響的，也就是說提高知識產權的保護強度會略微減弱我國高技術產業(yè)的技術創(chuàng)新，而且相對于增加研發(fā)經費來說，增加R&D;人員對于高技術產業(yè)的創(chuàng)新能力的增強，更為明顯。所以給出以下政策建議。

（一）建立完善的知識產權制度體系

知識產權的正向影響當然不能否定，完善的知識產權制度體系不是指加強知識產權保護制度，而是應該針對不同的產業(yè)，不同的地區(qū)，不同的國家等方面做出有針對性的知識產權制度，讓其發(fā)揮出最大化的作用，既能保護專利人的利益，又能實現創(chuàng)新產品的消化吸收再創(chuàng)新。這樣才能有利于我國企業(yè)的技術創(chuàng)新，才能將FDI的溢出效應得到充分利用。

（二）注重研發(fā)人員培養(yǎng)

企業(yè)進行研發(fā)創(chuàng)新，必須要有過硬的設備和較好的材料做為支撐，不然會事倍功半，這就體現了硬件設施的重要性，相反有時擁有了良好的設備可以事半功倍。但是在研發(fā)活動中起決定作用的還是研發(fā)人員的整體素質，因為起主導作用的還是研發(fā)人員，應該注重對研發(fā)人員的培養(yǎng)方面，可以多招攬國外優(yōu)秀的人員來我國企業(yè)進行專業(yè)知識，管理才能等方面的指導。使我國研發(fā)人員具備更專業(yè)的知識素養(yǎng)，增加我們的消化吸收能力，也就能夠較好的完成技術創(chuàng)新的任務。

（三）增加對國外的直接投資

為了得到先進的技術，就必須要更多的和國外的先進技術、知識、管理經驗相接觸。

這樣也就有機會進行模仿、學習、消化吸收再創(chuàng)新。除了多吸引外資，目前應該更多向國外延伸，因為國外廠商為了保住自己的利益，一般會將核心技術封鎖在國內，僅從國內的外商直接投資還是不夠的。所以應該主動的向具有高技術的國外企業(yè)靠攏，多投資一些國外技術密集的地區(qū)。

參考文獻：

[1]李小林，馬春暉.發(fā)展中國家知識產權保護對技術創(chuàng)新的影響[J].企業(yè)技術開發(fā)，2014（29）.

[2]張?zhí)痂?知識產權保護對我國工業(yè)企業(yè)技術創(chuàng)新能力的影響[J].經貿實踐，2016（23）.

[3]曹勇，胡歡歡.辨證分析知識產權對技術創(chuàng)新的影響：理論述評[J].科學學研究，2008（S2）.

[4]單婷婷，黃騰，張慧君.基于面板數據的知識產權保護對技術創(chuàng)新影響統(tǒng)計分析[J].湖南社會科學，2014（01）.

（作者單位：江蘇師范大學商學院）