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        達(dá)里諾爾湖表層沉積物中硅的形態(tài)分布特征

        2018-06-11 01:49:24劉文彥
        科學(xué)與財(cái)富 2018年12期
        關(guān)鍵詞:淺水區(qū)硅藻深水

        劉文彥

        摘 要: 本文以達(dá)里諾爾湖表層沉積物硅地球化學(xué)行為為研究對(duì)象,以沉積物硅的形態(tài)分布特征研究為主線,運(yùn)用環(huán)境地球化學(xué)、地質(zhì)學(xué)、土壤學(xué)和沉積學(xué)的理論和方法,通過環(huán)境中載體的關(guān)聯(lián)信息的綜合獲取和時(shí)空變化對(duì)比,開展了該湖表層沉積物中硅的地球化學(xué)特征研究,揭示了硅的形態(tài)分布差異性機(jī)制,研究發(fā)現(xiàn)表層沉積物中不同形態(tài)及組分硅的的含量序列為:IEF-Si

        關(guān)鍵詞: 形態(tài)硅;生物硅;有效硅;沉積物;地球化學(xué);達(dá)里諾爾

        1硅的形態(tài)關(guān)系

        按照Tessier連續(xù)提取法的操作步驟可依次定義出五種沉積硅的形態(tài):IEF-Si、CF-Si、IMOF-Si、OSF-Si與Residual。已有研究也表明,參照土壤學(xué)中有效硅的提取方法, IEF-Si和CF-Si之和可近似定義為生物可給態(tài)硅(即宋金明說(shuō)的可交換態(tài))即近似等于有效硅的量[1]。

        TSi(總硅)= IEF-Si+CF-Si+IMOF-Si+OSF-Si+Residual;Si(OH)4(有效硅)≈IEF-Si+CF-Si。

        2 表層沉積物硅的空間分布特征

        2.1達(dá)里諾爾湖表層沉積物中IEF-Si的空間分布特征

        表層沉積物中IEF-Si的空間分布具有南西部深水區(qū)及北東部河流入湖口區(qū)為高值區(qū)(圖 1),南東湖周及湖濱淺水區(qū)為低值區(qū)的特點(diǎn)。湖內(nèi)硅藻類浮游植物的繁盛和湖底生物的擾動(dòng)及外源輸入是導(dǎo)致IEF-Si沉積量多寡的主要原因。IEF-Si是活性最大的硅,很容易釋放出來(lái)被生物利用,這部分硅在自然狀態(tài)下是通過溶出、間隙水離子交換、絡(luò)合等形式釋放出來(lái),風(fēng)力攪動(dòng)作用、湖水溫度、pH的變化以及湖底生物的擾動(dòng)都會(huì)加快間隙水中的硅向上覆水?dāng)U散。此外,達(dá)里諾爾湖表層沉積物中IEF-Si的空間分布也可能反映了湖心或者深水區(qū)及河流入湖口區(qū)有利于硅藻類浮游植物的繁盛,沉積物中IEF-Si含量高,湖周淺水區(qū)因挺水或沉水植物等與硅藻類浮游植物競(jìng)爭(zhēng)生存空間而導(dǎo)致淺水區(qū)沉積物IEF-Si的累積量減少。

        2.2達(dá)里諾爾湖表層沉積物中CF-Si空間分布特征

        表層沉積物中CF-Si的空間分布具有南西向北東逐漸遞減的趨勢(shì)。湖內(nèi)沉積物類型的不同是導(dǎo)致CF-Si在湖底沉積多少的主要原因。此外,當(dāng)外界條件pH值發(fā)生變化時(shí),很容易從該結(jié)合態(tài)中釋放出來(lái)。達(dá)里諾爾湖沉積物粒度隨水深增加而變細(xì),沉積物平均粒徑呈環(huán)帶狀分布,湖濱區(qū)沉積物顆粒較粗,滲透性較好,有利于沉積物中CF-Si的溶解,因而湖濱淺水區(qū)為CF-Si低值區(qū)。

        2.3達(dá)里諾爾湖表層沉積物中IMOF-Si空間分布特征

        表層沉積物中IMOF-Si的空間分布具有南西部深水區(qū)為高值區(qū),湖濱淺水區(qū)為低值區(qū)的特點(diǎn)。湖內(nèi)硅藻類浮游生物的擾動(dòng)及其遺體的沉降是導(dǎo)致IMOF-Si在深水湖底大量累積的主要原因。已有研究也表明,沉積物顆粒越細(xì)IMOF-Si含量越高,即沉積物顆粒越細(xì)越有利于IMOF-Si的賦存與累積。達(dá)里諾爾湖沉積物粒度隨水深增加而變細(xì),沉積物平均粒徑呈環(huán)帶狀分布,湖濱區(qū)沉積物顆粒較粗,滲透性較好,有利于沉積物中IMOF-Si的溶解,因而湖周淺水區(qū)為IMOF-Si低值區(qū)。此外,達(dá)里諾爾湖表層沉積物中IMOF-Si的空間分布也可能反映了湖心深水區(qū)有利于硅藻類浮游植物的繁盛,沉積物中IMOF-Si含量高。

        2.4達(dá)里諾爾湖表層沉積物中OSF-Si空間分布特征

        表層沉積物中OSF-Si的空間分布具有湖濱淺水區(qū)為高值區(qū)湖心深水區(qū)入湖口區(qū)為低值區(qū)特點(diǎn)??赡苤饕鞘艹练e柱中不同時(shí)期沉積下來(lái)的沉積物類型和粒度影響。

        2.5表層沉積物中BSi的空間分布特征

        達(dá)里諾爾湖表層沉積物中BSi的空間分布具有南西向北東遞減的趨勢(shì)。湖內(nèi)硅藻類浮游植物的繁盛是導(dǎo)致BSi在深水區(qū)湖底大量累積的主要原因。已有研究也表明,沉積物顆粒越細(xì)BSi含量越高,即沉積物顆粒越細(xì)越有利于BSi的賦存與累積。達(dá)里諾爾湖沉積物粒度隨水深增加而變細(xì),沉積物平均粒徑呈環(huán)帶狀分布,湖濱區(qū)沉積物顆粒較粗,滲透性較好,有利于沉積物中BSi的溶解,因而湖周淺水區(qū)為BSi低值區(qū)。此外,達(dá)里諾爾湖表層沉積物中BSi的空間分布也可能反映了湖心深水區(qū)有利于硅藻類浮游植物的繁盛,沉積物中BSi含量高,湖周淺水區(qū)因挺水或沉水植物等與硅藻類浮游植物競(jìng)爭(zhēng)生存空間而導(dǎo)致淺水區(qū)沉積物BSi的累積量減少[2],[3]。

        2.6表層沉積物中有效硅(Si(OH)4)的空間分布

        達(dá)里諾爾湖表層沉積物中Si(OH)4的空間分布具有南西向北東逐漸遞減的趨勢(shì)(圖2),并且與深水等值線分布圖有很高的相似性。已有研究表明,沉積物顆粒越細(xì)Si(OH)4含量越高,即沉積物顆粒越細(xì)越有利于Si(OH)4的賦存與累積,達(dá)里諾爾湖沉積物粒度隨水深增加而變細(xì),沉積物水深呈階梯狀分布,因而有南西深水區(qū)為高值區(qū)北東淺水區(qū)為低值區(qū)的特點(diǎn)。

        3表層沉積物中硅的來(lái)源

        根據(jù)本文BSi和Bi(OH)4的空間分布特征揭示硅的主要來(lái)源于湖底微生物殘?bào)w的沉降積累,主要受湖水深度、沉積物顆粒性質(zhì)(礫型和粘土型)及湖底微生物活動(dòng)等影響。此外,沉積物粒度及挺水或沉水植物與硅藻類浮游植物間生存空間的競(jìng)爭(zhēng)也對(duì)硅的空間分布具有顯著影響。

        4小結(jié)

        達(dá)里諾爾湖泊表層沉積物硅的形態(tài)的分析得出,硅的形態(tài)含量順序是:IEF-Si

        硅的的轉(zhuǎn)化因素比較復(fù)雜。在達(dá)里諾爾沉積物中,湖水深度、沉積物顆粒類型、植被分布、微生物的分布、沉積物中無(wú)機(jī)膠體本身構(gòu)成、鹽分、水動(dòng)力條件和氣溫等可能是硅的形態(tài)形成和分布的主要影響因子。硅的形態(tài)分布和其決定性因素,基于硅的形態(tài)在達(dá)里諾爾湖分布和組成,認(rèn)為影響硅的形態(tài)分布影響因子是沉積物顆粒類型、湖區(qū)水深和底泥微生物的活動(dòng)。硅的的再轉(zhuǎn)化和礦化直接關(guān)系到湖泊的在生產(chǎn)能力和初級(jí)生產(chǎn)能力,其活性較大的是IEF-Si。

        根據(jù)達(dá)里諾爾湖基本概況和硅的形態(tài)分布和變化分析,硅的形態(tài)的分布看,活性較大的硅的形態(tài)與湖泊深淺、生物量分布和外源輸入性質(zhì)有關(guān)。淺水水域OSF-Si比例較高;深水區(qū)CF-Si、BSi 和Si(OH)4含量偏高;湖濱區(qū)IEF-Si含量相對(duì)較高。

        達(dá)里諾爾湖表層沉積物系統(tǒng)中BSi和Bi(OH)4的空間分布特征揭示生物硅的來(lái)源主要是內(nèi)源釋放,主要受沉積物顆粒粗細(xì)、湖水深度影響。此外,挺水或沉水植物與硅藻類浮游植物間生存空間的競(jìng)爭(zhēng)也對(duì)BSi的空間分布具有顯著影響。

        參考文獻(xiàn)

        [1] 秦亞超.珠江口沉積硅的生物地球化學(xué)研究[D].浙江大學(xué)博士學(xué)位論文,2006.

        [2] 呂昌偉.內(nèi)蒙古高原湖泊碳_氮_磷_硅_的地球化學(xué)特征[D].內(nèi)蒙古大學(xué)博士學(xué)位論文, 2008.

        [3] 呂昌偉,何江等.岱海硅藻類浮游植物初級(jí)生產(chǎn)力Si限制初探[J].環(huán)境科學(xué),2010,31(3):639-644.

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