許積文,袁昌來,楊 玲,張小文,丘 偉,張艷麗,李震春,朱保華,楊 云,陳國華
(桂林電子科技大學(xué) a.材料科學(xué)與工程學(xué)院;b.廣西信息材料構(gòu)效關(guān)系重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室,廣西 桂林 541004)
理工類大學(xué)的學(xué)科中,有眾多的學(xué)科必須以物理學(xué)作為支撐,因此大學(xué)物理實(shí)驗(yàn)是理工類專業(yè)必修的一門重要基礎(chǔ)實(shí)驗(yàn)課[1-2]. 在大學(xué)本科教育中獨(dú)立開設(shè)大學(xué)物理實(shí)驗(yàn)課,不僅要傳授物理學(xué)知識(shí),而且要培養(yǎng)實(shí)踐能力及思維方法. 因此,若能在課程教學(xué)過程中加深對(duì)學(xué)生的科研思維的培養(yǎng),不僅有利于學(xué)生更好地學(xué)習(xí)后續(xù)課程,而且也能奠定良好的科研思維認(rèn)知,結(jié)合后續(xù)課程的多次訓(xùn)練,必將使學(xué)生具有良好的科技創(chuàng)新能力. 科技創(chuàng)新是一個(gè)特殊的過程,創(chuàng)新主體除了需要有知識(shí)、技能與經(jīng)驗(yàn)的深厚積累與底蘊(yùn)外,更重要的是應(yīng)具備創(chuàng)新能力和創(chuàng)新性思維方式,這種思維方式對(duì)創(chuàng)新起著指導(dǎo)性作用[3]. 世界范圍內(nèi)新一輪的科技革命和產(chǎn)業(yè)變革以及席卷全球的新經(jīng)濟(jì)的蓬勃發(fā)展對(duì)工程教育的改革和發(fā)展提出了新的挑戰(zhàn),新工科建設(shè)的提出正是對(duì)這一挑戰(zhàn)作出的積極回應(yīng). 2017年2月以來,從“復(fù)旦共識(shí)”、“天大行動(dòng)”到“北京指南”,標(biāo)志著以新工科建設(shè)為主題的高等工程教育改革進(jìn)入到新的階段[4-7]. 這使得人們?cè)絹碓秸J(rèn)識(shí)到對(duì)思維活動(dòng)和思維方式的認(rèn)識(shí)和掌握是非常重要的. 因此,高等教育中的課程需要及時(shí)有效地調(diào)整其教學(xué)方法,滿足科技創(chuàng)新素養(yǎng)培養(yǎng)要求.
現(xiàn)代的很多小型化、輕量化的器件,如集成電路、平板顯示器、觸摸屏、LED、OLED、光伏電池、LowE玻璃等[8],都用到了電學(xué)、光學(xué)等薄膜,薄膜材料在這些高新技術(shù)領(lǐng)域發(fā)揮著至關(guān)重要的作用. 大連理工大學(xué)結(jié)合三束材料改性教育部重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室,開展了磁控濺射鍍膜探索研究性實(shí)驗(yàn)課程的嘗試[9]. 近年來,地方高校也加大了本科實(shí)驗(yàn)室的投入,引入了真空鍍膜的實(shí)驗(yàn)設(shè)備和實(shí)驗(yàn)項(xiàng)目,但是由于受諸多客觀條件限制,相關(guān)的實(shí)驗(yàn)研究課程開設(shè)較少. 我校物理實(shí)驗(yàn)中引入了射頻磁控濺射鍍膜實(shí)驗(yàn),該實(shí)驗(yàn)涉及到真空、高電壓、電學(xué)、光學(xué)、機(jī)械、薄膜、工藝等許多方面的內(nèi)容. 本文結(jié)合我校大學(xué)物理實(shí)驗(yàn)中心在探索研究性實(shí)驗(yàn)方面積累的教學(xué)經(jīng)驗(yàn)與方法[10],以及教師在鐵電薄膜、透明導(dǎo)電薄膜、非晶合金薄膜、鐵電存儲(chǔ)器、阻變存儲(chǔ)器和OLED器件方面的科研工作[11-14],從真空獲得與測(cè)量、濺射電源與靶材適應(yīng)性、等離子體及約束運(yùn)動(dòng)、鍍膜材料的選擇、磁控濺射的工業(yè)應(yīng)用以及結(jié)合我??蒲谢A(chǔ)6方面工作,對(duì)現(xiàn)有的射頻磁控濺射鍍膜實(shí)驗(yàn)進(jìn)行教學(xué)設(shè)計(jì),使其具有較強(qiáng)的探究性,全面提升學(xué)生的動(dòng)手能力和科研思維.
射頻磁控濺射鍍膜可以用于實(shí)驗(yàn)設(shè)計(jì)的知識(shí)點(diǎn)如圖1所示,本文從6個(gè)方面出發(fā),將普通的鍍膜實(shí)驗(yàn)提升為具有較強(qiáng)探究過程的研究性實(shí)驗(yàn)項(xiàng)目,從理論、工程、應(yīng)用、學(xué)術(shù)前沿、數(shù)據(jù)分析等多角度培養(yǎng)學(xué)生的綜合能力.
圖1 射頻磁控濺射鍍膜實(shí)驗(yàn)設(shè)計(jì)的知識(shí)點(diǎn)
在真空系統(tǒng)中,真空獲得的設(shè)備和測(cè)量?jī)x器是必不可少的,真空獲得和測(cè)量是真空技術(shù)的2個(gè)重要方面. 以注射器為引例,獲取真空就是將密閉空間的氣體分子抽走的過程. 機(jī)械泵或羅茨泵的抽力有限,為了獲得更高級(jí)別的真空,常采用3種不同工作原理的精抽泵:油擴(kuò)散泵、渦輪分子泵和冷凝泵,為了讓這些精抽泵工作,前級(jí)必須有機(jī)械泵協(xié)助作粗抽[15]. 學(xué)生可以圍繞幾種泵的原理、精抽為什么要級(jí)聯(lián)粗抽進(jìn)行自行學(xué)習(xí). 冷凝泵是利用低溫表面冷凝氣體進(jìn)行抽氣的真空泵,而且是抽氣速率最大、極限壓力最低的清潔真空泵. 這可以很好地與氣壓知識(shí)關(guān)聯(lián),從分子運(yùn)動(dòng)理論可知,氣體的壓強(qiáng)是大量分子頻繁地碰撞容器壁產(chǎn)生的,氣體分子被凍結(jié)了,也就不產(chǎn)生壓力了.
本設(shè)備的極限真空只有約0.5Pa,采用電阻規(guī)測(cè)量真空. 但是,學(xué)生可以對(duì)真空的測(cè)量方式進(jìn)行全面的學(xué)習(xí),真空規(guī)有熱偶規(guī)、皮拉尼規(guī)、電離規(guī)和薄膜規(guī),每種真空規(guī)都有其特定的測(cè)量原理,可以在理論課中找到相應(yīng)的理論依據(jù),而且測(cè)量真空度有其各自的優(yōu)劣[16]. 隨著自動(dòng)控制的發(fā)展,各種真空規(guī)與計(jì)算機(jī)相結(jié)合,具有壓力的自動(dòng)監(jiān)控、測(cè)量和調(diào)節(jié),以及實(shí)現(xiàn)抽真空與破真空的全自動(dòng)完成.
電源是等離子體轟擊靶材的持續(xù)能量供給源,電源需要從沉積效率、薄膜質(zhì)量、抑制電弧形成和防止靶材表面中毒(產(chǎn)生節(jié)瘤)等方面考慮. 不同材質(zhì)的靶材,對(duì)電源的要求不同,最簡(jiǎn)單是導(dǎo)電性. 直流電源是常用的具有較高濺射速率的電源,只適合導(dǎo)電靶材. 對(duì)絕緣靶材來說,直流電源不能解決電荷累積問題,電介質(zhì)靶材必須采用交流電源. 交流電源有中頻電源和射頻電源,不僅可以消除電荷累積,適合電介質(zhì)靶材,而且可以抑制電弧. 直流電源根據(jù)消除電荷、提高效率等需要,又衍生出脈沖直流電源、高功率脈沖直流電源等多種形式. 因此,電源與材料和鍍膜工藝具有緊密的聯(lián)系,可以培養(yǎng)學(xué)生對(duì)事物間關(guān)聯(lián)規(guī)律的認(rèn)知.
磁控濺射中非常重要的轟擊靶材的子彈為等離子體,是由部分電子被剝奪后的原子及原子團(tuán)被電離后產(chǎn)生的正負(fù)離子組成的離子化氣體狀物質(zhì),其運(yùn)動(dòng)主要受電磁力支配,并表現(xiàn)出顯著的集體行為[17]. 等離子體是從氣體放電開始研究的,理解氣體放電過程非常重要. 氣體放電是非常重要的物理現(xiàn)象,學(xué)生可以對(duì)氣體放電進(jìn)行課外學(xué)習(xí),充分認(rèn)知Townsend放電、正常和反常輝光放電、弧光放電. 等離子體的產(chǎn)生可以依靠電場(chǎng)來形成,利用外加電場(chǎng)或高頻感應(yīng)電場(chǎng)使氣體放電,這就與電源息息相關(guān)了. 在肉眼觀察磁控濺射的等離子體過程中,等離子體有可能會(huì)表現(xiàn)出略不相同的顏色,這與靶材材質(zhì)、氣體類型、氣氛溫度、電源功率等都有密切關(guān)系. 部分內(nèi)容需要學(xué)生課外自學(xué).
磁控濺射是在低氣壓下進(jìn)行高速濺射,必須有效提高氣體的離化率. 通過在靶陰極表面引入磁場(chǎng),利用磁場(chǎng)對(duì)帶電粒子的約束來提高等離子體密度以增加濺射率. 磁場(chǎng)使荷電粒子產(chǎn)生洛倫茲力,限制粒子在特定區(qū)域運(yùn)動(dòng),使碰撞概率增大,從而提高了等離子體密度,使得轟擊效率提高. 學(xué)生可以沿著這條主線進(jìn)行自主學(xué)習(xí),將大學(xué)物理課中學(xué)到的理論用于解釋等離子體的約束運(yùn)動(dòng). 平面靶材在固定磁場(chǎng)中,靶材的利用率低(約20%),為了提高利用率(約40%),設(shè)計(jì)了移動(dòng)磁場(chǎng);為了進(jìn)一步提高利用率(約80%),設(shè)計(jì)了柱狀磁場(chǎng),使用管狀的旋轉(zhuǎn)靶材. 因此,學(xué)生可以沿著靶材利用率路線,思考磁場(chǎng)如何設(shè)計(jì)可以提高靶材的利用率,充分促使學(xué)生把理論與應(yīng)用問題結(jié)合進(jìn)行思考.
為了調(diào)動(dòng)學(xué)生的學(xué)習(xí)興趣和積極性,以及考慮到我校以電子信息為特色的學(xué)科特色,在鍍膜材料上選擇與光電有關(guān)的材料. 例如,在半導(dǎo)體行業(yè)中,需要進(jìn)行Cu互連或Al互連,因此可以考慮金屬Cu和Al鍍膜材料. 實(shí)驗(yàn)指導(dǎo)教師從事透明導(dǎo)電薄膜方面的科研工作,該薄膜在可見光范圍內(nèi)具有優(yōu)異的透光率,而且具有類金屬的導(dǎo)電性,解決了玻璃不導(dǎo)電、金屬不透明的矛盾問題,是平板顯示器的重要材料,非常適合作為鍍膜材料的選擇對(duì)象. 液態(tài)金屬(非晶合金)是目前比較熱門的材料,具有高硬度、耐磨、耐腐蝕等一系列優(yōu)異特性,可以讓學(xué)生開展非晶合金薄膜的制備和探索.
磁控濺射具有低溫、高速的特點(diǎn),幾乎所有金屬、合金以及陶瓷材料都可以制備成靶材. 制備的靶材具有膜層致密、與基片附著性好、可大面積制備、可連續(xù)化生產(chǎn)等優(yōu)點(diǎn),因此具有如圖2所示的廣泛的應(yīng)用領(lǐng)域. 學(xué)生可以圍繞圖2所示的應(yīng)用領(lǐng)域自行進(jìn)行課外學(xué)習(xí),課堂上教師再提供各個(gè)行業(yè)的照片進(jìn)行案例介紹. 在工業(yè)化生產(chǎn)上,磁控濺射設(shè)備與學(xué)習(xí)型或科研型設(shè)備的主要差異是尺寸,因其要符合大面積、批量化生產(chǎn)的要求. 因此,學(xué)生可以針對(duì)工業(yè)應(yīng)用開展立式、線式和卷繞式鍍膜機(jī)進(jìn)行自學(xué),并結(jié)合教師的指導(dǎo)獲得全面的認(rèn)知.
圖2 磁控濺射的工業(yè)應(yīng)用
廣西信息材料構(gòu)效關(guān)系重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室的研究領(lǐng)域也包括鐵電薄膜、透明導(dǎo)電薄膜、非晶合金薄膜、鐵電存儲(chǔ)器、阻變存儲(chǔ)器和OLED器件方面. 因此,在授課中會(huì)將每個(gè)研究方向濃縮為1張幻燈片,主要介紹指導(dǎo)教師、研究方向、實(shí)驗(yàn)條件、學(xué)術(shù)前沿等內(nèi)容,同時(shí)也會(huì)把完整版的資料發(fā)給學(xué)生課后學(xué)習(xí). 以此來吸引感興趣的本科生加入科研團(tuán)隊(duì)開展相關(guān)的研究,提升其科研能力,為研究生階段打基礎(chǔ). 例如,結(jié)合第一作者的科研工作,課堂上從納米粉體、高密度靶材、高電導(dǎo)率及透光率薄膜之間的關(guān)聯(lián)性,向?qū)W生闡明其影響關(guān)系,并且指出其關(guān)鍵問題,讓學(xué)生明白know-why和know-how.
磁控濺射鍍膜實(shí)驗(yàn)涉及到電源、磁場(chǎng)、真空、等離子體、塊體材料及薄膜材料等一系列的知識(shí),而且還有對(duì)應(yīng)的硬件. 因此,該探索研究性實(shí)驗(yàn)的開設(shè),可以讓學(xué)生進(jìn)行較廣范圍內(nèi)的知識(shí)學(xué)習(xí),具有較強(qiáng)的擴(kuò)展性,有利于培養(yǎng)學(xué)生的獨(dú)立實(shí)踐和科研思維,可以為后續(xù)學(xué)習(xí)和工作奠定扎實(shí)的基礎(chǔ).
圖3是射頻磁控濺射鍍膜的實(shí)驗(yàn)設(shè)備. 從圖3可知,教學(xué)型鍍膜機(jī)幾乎具有生產(chǎn)型鍍膜機(jī)的關(guān)鍵部件,掌握了教學(xué)型鍍膜機(jī)的結(jié)構(gòu)和工藝,也就基本上掌握了磁控濺射鍍膜的一系列相關(guān)知識(shí)點(diǎn). 該設(shè)備的真空鍍膜室采用玻璃外罩,方便學(xué)生在實(shí)驗(yàn)過程中直觀地觀察等離子的產(chǎn)生、形狀、顏色等信息,有利于學(xué)生理解物理現(xiàn)象和實(shí)驗(yàn)過程. 同時(shí),真空鍍膜室方便拆解及更換靶材,給學(xué)生提供了動(dòng)手實(shí)踐機(jī)會(huì),而不局限于機(jī)械地操作幾個(gè)按鈕和旋鈕.
圖3 射頻磁控濺射鍍膜設(shè)備
鍍制不同材質(zhì)的薄膜需要選取相應(yīng)材質(zhì)的靶材作為原材料(圖4),除了設(shè)備自帶的Cu靶材、Al靶材和不銹鋼靶材外,實(shí)驗(yàn)指導(dǎo)教師還提供了AZO(Al摻雜ZnO)靶材、ITO靶材(Sn摻雜In2O3)和Zr基合金靶材等. 學(xué)生在分批開展實(shí)驗(yàn)的過程中,可以根據(jù)自己的學(xué)習(xí)興趣選擇靶材進(jìn)行鍍膜實(shí)驗(yàn),并且對(duì)相應(yīng)的薄膜進(jìn)行性能表征. 例如,采用AZO和ITO靶材,可以在玻璃基片上制備出透明導(dǎo)電薄膜,可以表征薄膜的透光率和電阻率(或電阻);采用Cu和Al靶材可以制備出具有優(yōu)異導(dǎo)電性能的金屬薄膜,可以表征薄膜的電阻率;采用Zr基非晶合金靶材可以在多種材質(zhì)表面制備出具有高反射率、耐腐蝕和耐摩擦的非晶薄膜,可以表征耐腐蝕、耐磨等性能. 因此,學(xué)生在實(shí)驗(yàn)時(shí)有多種選擇,自由度比較大,可設(shè)計(jì)性和拓展性比較強(qiáng).
(a) AZO (b)ITO (c)Cu 圖4 靶材
另外,靶材材質(zhì)和微觀結(jié)構(gòu)對(duì)鍍膜過程有較大影響,可以引導(dǎo)學(xué)生進(jìn)行深層次的思考和探索,例如:
1)不同材質(zhì)的靶材其濺射速率是不同的,即濺射系數(shù)不同,這是因?yàn)椴煌氐拈撝的芰渴遣煌模?/p>
2)氧化物靶材表面在濺射過程中容易形成節(jié)瘤(中毒),常與靶材的密度偏低有關(guān);
3)靶材的晶粒尺寸及分布,會(huì)影響靶材的強(qiáng)度、濺射速率以及薄膜的均勻性,需控制靶材制造工藝獲得均勻分布的細(xì)晶粒.
在常規(guī)的基礎(chǔ)物理實(shí)驗(yàn)中,學(xué)生在實(shí)驗(yàn)結(jié)果(數(shù)據(jù))的分析上,更多的是在不確定度上下功夫,在培養(yǎng)學(xué)生科學(xué)素養(yǎng)、數(shù)據(jù)分析能力上顯得不足. 本實(shí)驗(yàn)的結(jié)果可以用圖形的方式進(jìn)行展現(xiàn),對(duì)數(shù)據(jù)變化規(guī)律的分析則是重點(diǎn),類似于研究生做探索工作,弱化了對(duì)誤差的分析. 圖5~7是學(xué)生制備的部分樣品的實(shí)驗(yàn)結(jié)果.
從圖5(a)和(b)的ITO和AZO薄膜透光率曲線,學(xué)生可以分析ITO和AZO薄膜在380~780nm可見光范圍內(nèi)的透光性能,以及在不同波長(zhǎng)時(shí)透光性的差異. 同時(shí),還可以對(duì)小于380nm波段的透光進(jìn)行分析,探究在380nm以下的短波段,薄膜不透光卻呈現(xiàn)吸收特性的原因.
(a)ITO
(b)AZO圖5 薄膜的透光率
從圖6中4種薄膜的電阻變化曲線,學(xué)生可以分析在幾乎相同的鍍膜條件下,4種材料的電阻具有明顯的差異的原因.
圖7是實(shí)驗(yàn)中制備的合金薄膜和銀薄膜樣品的實(shí)物圖.
圖6 薄膜的電阻
(a)合金 (b) 銀圖7 薄膜樣品實(shí)物
在對(duì)實(shí)驗(yàn)結(jié)果(數(shù)據(jù))分析的過程中,學(xué)生沒有學(xué)過相關(guān)知識(shí),遇到了困難. 但是,作為探究性實(shí)驗(yàn),需要培養(yǎng)在未知的條件下嘗試探明新知識(shí). 在實(shí)驗(yàn)中,教師通過分析思路提示,學(xué)生通過數(shù)據(jù)庫、網(wǎng)絡(luò)進(jìn)行信息查詢,經(jīng)過相關(guān)的自主探索歷練,學(xué)生從不同方面獲得了能力的鍛煉和提升.
基于桂林電子科技大學(xué)的電子信息類學(xué)科特色以及大學(xué)物理實(shí)驗(yàn)中心在探索研究性實(shí)驗(yàn)方面積累的教學(xué)經(jīng)驗(yàn)與方法,結(jié)合廣西信息材料構(gòu)效關(guān)系重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室在光電薄膜與器件方面的科研工作,總結(jié)了射頻磁控濺射鍍膜實(shí)驗(yàn)提升為探究性實(shí)驗(yàn)的設(shè)計(jì)思路,探索了開展此探索研究性實(shí)驗(yàn)的可行性. 該實(shí)驗(yàn)涉及較多的物理學(xué)知識(shí),以及多種機(jī)械零部件,同時(shí),磁控濺射鍍膜工藝具有很多的工業(yè)應(yīng)用領(lǐng)域,其產(chǎn)品主要為光電器件. 初步探索性地開展此課程,結(jié)果表明:電子類地方高校將磁控濺射鍍膜實(shí)驗(yàn)用于大學(xué)探索研究性實(shí)驗(yàn)具有可行性,且可與學(xué)校的學(xué)科特色緊密結(jié)合.
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