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        半導體行業(yè)含氨-雙氧水廢水中雙氧水的去除研究

        2017-12-14 05:46:43黃攀峰應曉芳王春冬
        數(shù)碼設計 2017年6期

        黃攀峰*,應曉芳,王春冬

        (中芯國際集成電路制造(上海)有限公司,上海,200120)

        半導體行業(yè)含氨-雙氧水廢水中雙氧水的去除研究

        黃攀峰*,應曉芳,王春冬

        (中芯國際集成電路制造(上海)有限公司,上海,200120)

        采用錳砂對半導體行業(yè)含氨-雙氧水廢水進行雙氧水去除的試驗研究。結果表明:雙氧水對COD測值有強烈影響,且當控制pH在10~11左右,反應時間在3min以上時,雙氧水的去除率可達到99%左右。錳砂試驗過程中,催化效率穩(wěn)定,抗沖擊能力強,去除率始終保持在98%以上;且錳離子流失率極低,小于1mg/L;運行成本極低,遠小于0.07元/噸廢水。

        含氨-雙氧水廢水;降低COD;錳砂;去除雙氧水

        引言

        近幾年,隨著半導體技術、制程的不斷改進、變化,其工藝廢水中的H2O2濃度越來越高,傳統(tǒng)條件下,由于H2O2易分解,濃度不高,無需對其進行去除處理。然而,隨著工廠產能的不斷提高,H2O2濃度亦不斷提高,雖然 H2O2無排放標準,卻能強烈影響廢水中COD的測值,使其明顯偏高,有超出國家排放標準的可能。

        傳統(tǒng)工業(yè)條件下,新建一套雙氧水處理系統(tǒng),利用酵素為催化劑,催化去除廢水中的雙氧水,但運行成本極高,約6人民幣/噸廢水。

        因而,對H2O2的去除成為一項刻不容緩的工作。

        1 概況

        雙氧水(H2O2)具有熱不穩(wěn)定性、酸性和氧化還原性。雙氧水的氧化性較強,還原性較弱。在酸性或堿性溶液中,只是在遇到比它強的氧化劑時才表現(xiàn)出還原性。重鉻酸鉀(Cr2O72-)是一種強氧化劑,雙氧水在強酸性溶液中被重鉻酸鉀氧化表現(xiàn)出還原性[1],其反應式:

        在強酸性溶液中,重鉻酸鉀將廢水中的還原性物質氧化,根據(jù)所消耗的重鉻酸鉀量來計算水樣中的化學需氧量(COD)[2]。在測定水樣中的COD時,水樣中的雙氧水會部分消耗重鉻酸鉀,因而會對COD測值產生影響。

        半導體工業(yè)中,常采用標準清洗(SC1)工藝去除晶圓表面的聚合物,一些特定的金屬粒子(Au、 Ag、 Cu、 Ni、Zn、Cd…)等。SC1 主要成分為:NH4OH(氨水): H2O2:H2O=1:2:50,其廢液排入氨氮處理系統(tǒng)進行氨氮的去除處理。

        2 試驗材料及方法

        2.1 試驗材料

        選用上海某大型半導體制造公司車間排放液,水質狀況見表1。

        表1 水貨狀況Table.1 waste water status

        選用錳砂(主要成分為二氧化錳(MnO2))材料參數(shù)如表2。

        表2 錳砂參數(shù)Table.2 manganese sand data

        2.2 試驗方法

        將含氨-雙氧水廢水調節(jié)pH后,控制流速,以下進上出的方式經過錳砂罐,之后排放。其中錳砂罐規(guī)格為 200*450mm,填充錳砂約15kg。如圖1。

        圖1 試驗方法Fig.1 experiment method

        分析方法[2]見表3。

        表3 分析方法Table.3 analysis method

        3 試驗結果與討論

        3.1 H2O2-錳砂催化反應機理[3]

        其原理如下,H2O2受MnO2的催化作用,發(fā)生氧化還原反應,生成H2O和O2。

        3.2 含雙氧水廢水中H2O2與COD的對應關系

        由于不確定H2O2對COD測值的具體影響,故而確認兩者的對應關系是試驗進行的有效前提。為了考察含雙氧水廢水中H2O2與COD的對應關系,取含氨-雙氧水廢水加錳砂催化分解,去除廢水中的雙氧水。且在反應過程中依次取樣,分別測量 H2O2與COD濃度,得出其對應關系。

        圖2 H2O2與COD濃度的密應關系Fig.2 H2O2 and COD’s linear relationship

        由圖2可知,在含氨-雙氧水廢水中H2O2與COD濃度幾乎成1:1的關系,隨雙氧水濃度的降低,COD測值成比例降低。

        3.3 不同反應時間條件下對H2O2去除率的影響

        為了考察反應時間對 H2O2去除率的影響,取含氨-雙氧水廢水,測得H2O2濃度為2940mg/L,調節(jié)pH至10.2,進行處理,調節(jié)錳砂罐進水流量,依次取樣,測定出水 H2O2濃度。錳砂罐反應時間為0.5 min、0.7min、1.0 min、1.7 min、3.1min,試驗結果見圖3。

        圖3 反應時間密H2O2去除率的影響Fig.3 the relationship between reaction time and H2O2 removal ratio

        由圖3可知,隨著反應時間的增加,H2O2的去除率相應提高,且反應時間在3min以上時,錳砂對雙氧水的去除率達到最高值。

        實際應用中,考慮到水流對錳砂的沖刷作用,為防止錳砂流失,流速不宜過快。

        3.4 不同pH條件下對H2O2去除率的影響

        pH是影響H2O2去除率的主要因素[4]。取含氨-雙氧水廢水,測得H2O2濃度為1756mg/L,調節(jié)pH,

        循環(huán)3min后,測定廢水中H2O2濃度。將pH分別設定為3、7、9、10、11,試驗結果見圖4。由圖4可知,隨著pH的提高,H2O2的去除率相應提高,且pH在10~11左右時,錳砂對雙氧水的去除效率達到最高值。

        圖4 pH密H2O2去除效果的影響Fig.4 the relationship between pH and H2O2 removal ratio

        3.5 錳砂試驗過程中Mn離子的溶出率

        為了確認反應過程中是否會有Mn離子的損失,調節(jié)pH在10~11之間,控制進水流速在3min左右,以下進上出的方式經過錳砂罐,之后排放。持續(xù)跟蹤測量廢水中的Mn濃度。結果如圖5。

        圖5 錳離子溶出率Fig.5 Mn lost ratio

        由圖5可知,試驗裝置持續(xù)運行123天,Mn濃度有微量損失,但損失率極小,小于1mg/L,故錳砂可長時間有效處理含氨-雙氧水廢水。[3]

        值得留意的是,因 H2O2的分解放熱,會造成水溫的升高,試驗裝置在運行中水溫由 26.2℃升至 28℃。因而,工程應用中應特別注意。

        3.6 錳砂試驗過程處理效果跟蹤

        為了確認試驗過程中,錳砂是否具有穩(wěn)定的去除H2O2的能力,調節(jié)pH在10~11之間,控制進水流速在3min左右,以下進上出的方式經過錳砂罐,之后排放。持續(xù)跟蹤測量錳砂處理后的含雙氧水廢水中的H2O2濃度。結果如圖6。

        圖6 出水H2O2濃度及去除率Fig.6 disposal water’s H2O2 concentration and removal ratio

        由圖6可知:

        試驗裝置持續(xù)運行 123天,隨進水 H2O2濃度的波動(1500~3500mg/L),出水H2O2濃度表現(xiàn)穩(wěn)定,去除率始終保持在98%以上,H2O2濃度小于100mg/L。

        以運行123天錳砂完全失效計算,試驗期間錳砂罐持續(xù)處理廢水225t,運行成本小于0.07元/噸。

        考慮到含氨-雙氧水廢水中會含有雜質,其附著在錳砂表面,會使錳砂與廢水的接觸面積大大縮小,致使出水H2O2濃度上升。此時,可以以反洗的方式沖洗錳砂,使其恢復催化能力。

        4 結束語

        (1)半導體行業(yè)排放的含雙氧水-氨廢水中,雙氧水對COD測值有巨大影響,幾乎為1:1的關系。

        (2) pH、濾過時間對半導體行業(yè)排放的含雙氧水廢水中雙氧水的去除有明顯的影響,且當pH在10~11左右,濾過時間為3min以上時,雙氧水的去除率可達到99% 左右。

        (3)在處理半導體含氨-雙氧水廢水時,錳砂中Mn流失率極低,小于1mg/L。

        (4)運行成本極低,以運行123天錳砂完全失效計算,運行成本小于0.07元/噸。

        [1]姜科軍,唐嘯天. 雙氧水對廢水化學需氧量測定的影響[J]. 石油化工環(huán)境保護,2003,26(1): 36-37.

        [2]國家環(huán)保局《水和廢水監(jiān)測分析方法》編委會編. 水和廢水監(jiān)測分析方法(第三版)[M]. 北京: 中國環(huán)境科學出版社,1989. (5): 354-356.

        [3]K.M. Parida,S.S. Dash,S. Mallik,J. Das. Effect of heat treatment on the physico-chemical properties and catalytic activity of manganese nodules leached residue towards decomposition of hydrogen peroxide[J]. Journal of Colloid and Interface Science,2005,(290): 436-436.

        [4]張清,應超燕,余可娜,等. 雙氧水分解速率和穩(wěn)定性研究. 嘉興學院學報[N]. 2010,22(3): 52-53.

        [5]程婭先,馮素敏,王鳳平,等. 脫氮菌在含氨廢水處理中的試驗研究[J]. 煤炭雨與化工,2015,(08): 32-34.

        A Kind of Containing Hydrogen Peroxide Waste Water Treatment Process in Semiconductor Industry

        HUANG Panfeng*,YING Xiaofang,WANG Chundong
        (Semiconductor Manufacturing International Corporation,shanghai,200120)

        Using manganese sand to remove hydrogen peroxide waste water’s hydrogen peroxide. The results show that: H2O2has a strong impact on COD data,and when control pH at 10~11,reaction time at 3 min,H2O2’s removal rata can reach 99%. During the experiment,manganese sand’s effective was stable,H2O2’s removal rata always above 98%; and Mn lost rata was lower than 1mg/L; and running cost was lower than 0.07 RMB/t.

        hydrogen peroxide waste water; reduce COD; manganese sand; remove hydrogen peroxide

        TP123

        A

        1672-9129(2017)06-0112-03

        10.19551/j.cnki.issn1672-9129.2017.06.038

        黃攀峰,應曉芳,王春冬. 半導體行業(yè)含氨-雙氧水廢水中雙氧水的去除研究[J]. 數(shù)碼設計,2017,6(6): 112-113.

        Cite:HUANG Panfeng,YING Xiaofang,WANG Chundong. A Kind of Containing Hydrogen Peroxide Waste Water Treatment Process in Semiconductor Industry[J]. Peak Data Science,2017,6(6): 112-113.

        2017-02-05;

        2017-03-07。

        黃攀峰,(1990-),上海,中芯國際集成電路制造(上海)有限公司助理工程師,研究方向:工業(yè)水處理技術研究。

        Email:huang1990829@qq.com

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