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        聚偏氟乙烯膜本體改性方法的專利分析

        2017-11-20 13:52:05馬玉郝振興趙嬌嬌劉群韓素珍羅志昕
        卷宗 2017年30期

        馬玉+郝振興+趙嬌嬌+劉群+韓素珍+羅志昕

        摘 要:本文針對聚偏氟乙烯膜本體改性方法的中外專利技術進行分析,剖析了國內(nèi)外聚偏氟乙烯膜本體改性技術的整體發(fā)展狀況,并梳理了聚偏氟乙烯膜本體改性方法的發(fā)展脈絡,希望為我國相關研究機構(gòu)和企業(yè)的技術研發(fā)和專利布局提供參考。

        關鍵詞:聚偏氟乙烯膜;PVDF;本體改性

        1 前言

        膜分離技術作為一種新型、高效的流體分離技術,尤其在水資源利用和環(huán)境保護方面更是舉足輕重。膜分離技術可選用的膜材料較多,其中聚偏氟乙烯以其優(yōu)良性能廣泛用于分離膜,但仍然存在一些不足,主要問題表現(xiàn)在表面能低,膜的潤濕性很差,強疏水性導致純水通量通常很低。因而限制了PVDF膜的應用[1]。因此,通過各種改性方法提高膜的親水性從而延長使用壽命、降低使用成本勢在必行。其中,膜本體改性方法簡單,易實現(xiàn)大規(guī)模操作,是目前研究的熱點,根據(jù)改性材料的不同膜本體改性分為膜本體物理改性和化學改性[2]。

        2.1 膜本體的物理改性

        膜本體的物理改性是指膜原料本身不和改性材料發(fā)生反應,而是按一定比例進行物理共混,各種添加劑的加入以及一些兩性共聚物的存在,可以彌補膜材料本身的各種不足,而且還會賦予膜材料本身所不具備的新的優(yōu)越性能[3] 。目前與PVDF 膜材料共混的改性物質(zhì)大致可分為三類,一類是高分子材料,第二類是小分子無機粒子,第三類是高分子材料與無機粒子的復合改性。

        2.1.1高分子材料共混改性

        在高分子共混膜中,聚合物間的相容性對改性膜的相分離孔的形成及結(jié)構(gòu)有直接影響,所以,為提高改性膜的分離性能、滲透性能、孔徑率、通量等性能,可以通過控制聚合物的相容性來實現(xiàn)改變共混膜的表層與斷層結(jié)構(gòu)的目的。常用的高分子改性材料有聚丙烯酸類、酸酐等。GB8907740中添加丙烯酸和乙基己基甲基丙烯酸鹽;EP01983289中添加聚合物酸酐如聚(烷基乙烯基醚/馬來酸酐);為增加改性材料與PVDF的牢固性,CN200510060748中添加纏繞在聚合物基體中的樹狀支化聚合物;US201114126670中添加含有與膜材料相容性好的疏水段的親水性共聚物;CN201210068471中添加親水單體、引發(fā)劑等,通過原位聚合對PVDF膜改性;CN201410081610中兩親性嵌段聚醚改性有機硅材料,可以精確控制其在膜絲徑向截面的梯度分布;CN201510505066直接添加交聯(lián)型凝膠聚合物;CN2015109066297中添加PSxMAAy-g-fPEGz,嵌段物中PS鏈段與PVDF相容性好,MAAy鏈段富集在膜表面。經(jīng)過分析看出,高分子材料共混改性PVDF主要研究的是高分子材料的選擇、以及如何使高分子材料與PVDF基膜作用更加緊密。

        2.1.2無機粒子共混改性

        對于PVDF膜,近年來對其無機共混改性的研究不斷增加。通過加入各類無機材料,有機與無機材料優(yōu)勢互補,來提高改性膜的純水通量、孔隙率、抗污染性能等。如US20040994063中添加分子篩等無機多孔顆粒;CN200510009822中添加納米氧化鋁;CN200710072641中添加納米二氧化鈦、納米三氧化二鋁、納米四氧化三鐵、納米二氧化硅、納米二氧化鋯或納米碳酸鈣等納米材料;CN201010612590中添加單壁或多壁碳納米管;為解決無機離子團聚的問題,CN201110392142在制膜液中添加納米材料的前驅(qū)物的氧化物材料,原位生成納米材料;CN201210512476將碳納米管經(jīng)過氧化處理、高壓等離子處理后分散于有機溶劑,再加入制膜液中;CN201210162145添加氧化石墨烯;CN201310345495中將氧化石墨進行硅烷功能化改性,再加入制膜液中;CN201410468056中添加負載核殼結(jié)構(gòu)的TiO2的氧化石墨烯;CN201510147356在在Cu2O納米線、TiO2納米線、ZnO納米線、MnO2納米線、Co3O4納米棒或埃洛石納米管上接枝左旋多巴胺后,再加入制膜液中。經(jīng)分析看以看出,無機粒子共混改性PVDF主要體現(xiàn)在無機粒子的選擇、如何使無機離子分散均勻以及對無機粒子的改性上。

        2.1.3高分子材料與無機粒子復合改性

        伴隨著高分子共混改性和無機粒子共混改性技術的發(fā)展,為了同時賦予PVDF膜改性高分子和無機粒子的優(yōu)異性能,高分子與無機粒子復合改性的專利申請不斷增多,CN200710110891中同時添加兩親性共聚物和二氧化硅;CN20091001183中同時添加無機納米顆粒為如Al2O3、SiO2、TiO2、Fe3O4、ZrO2和聚甲基丙烯酸甲酯、聚砜和/或聚酰胺;CN201010216984同時添加二氧化硅、二氧化鈦、三氧化二鋁、等納米添加劑與親水性高聚物;CN201010266317中同時添加聚甲基丙烯酸甲酯PMMA、熱塑性橡膠TPU以及納米無機氧化物;CN201210044045制備包覆硅烷偶聯(lián)劑的納米材料如二氧化硅、二氧化鈦、酸化碳納米管或粘土,后加入引發(fā)劑;CN201310135238中添加離子液體氯代1-烯丙基-3-甲基咪唑和納米二氧化鈦;CN201310314739中添加鄰苯二酚類衍生物和納米材料;CN201410025347先將低聚合度的聚乙二醇分子鏈接枝到多壁碳納米管,再將其加入制膜液;CN201510398692利用聚醚改性有機硅親水改性劑與SiO2顆粒前驅(qū)體、偶聯(lián)劑混合共同進行水解和縮聚,進而調(diào)控無機顆粒前驅(qū)體之間的自水解和自縮聚反應,使無機顆粒達到納米級;CN201510856941添加聚乙烯醇和羧基化多壁碳納米管,可以控制所成膜的正面及斷面形貌。經(jīng)分析可以看出,高分子材料和無機粒子共混改性主要體現(xiàn)為使膜具有特殊的性能對高分子材料與無機粒子的選擇。

        2.2 膜本體的化學改性

        膜本體的化學改性,即通過化學方法賦予膜本體特定功能基團以達到提高 PVDF 膜親水性等目的,常見的對膜材料的改性方式有共聚、接枝等。WO2003GB02682通過輻射方法在膜材料單體上接枝單不飽和羧酸、磺酸或膦酸、酯或酰胺;CN200710056880用偏氟乙烯-六氟丙烯共聚物為成膜;CN200710122897中將PVDF分子部分脫氟化氫形成雙鍵后接枝苯乙烯接枝得到PVDF-PS(聚苯乙烯)共聚物;CN200880019571在自由基引發(fā)劑存在下,將親水性(甲基)丙烯酸單體與偏二氟乙烯單體聚合;CN200910228659將堿處理后的PVDF粉末與溫敏單體NIPAAm進行共聚;CN201110453156在聚偏氟乙烯中投加單性親水基團,混合均勻后,進行輻照接枝單性親水基團;CN201410750066利用臭氧在制膜液中引入過氧基團后,熱引發(fā)接枝聚合親水性聚乙二醇甲基丙烯酸酯;CN201510542923中先對納米Al2O3進行分子接枝改性,后對PVDF堿性接枝改性,再通過過氧化苯甲酰的引發(fā)作用使無機物Al2O3與有機物PVDF以化學鍵結(jié)合;CN201510584844在聚偏氟乙烯粉末中加入丙烯酸單體,再加入光引發(fā)劑二苯甲酮,在紫外光照射下進行接枝反應。

        3 結(jié)語與展望

        PVDF膜本體物理改性工藝簡單、易于工業(yè)化,且改性后的膜抗污染能力強、穩(wěn)定性高及再生能力強受到廣泛使用,是目前的研究熱點,尤其是高分子材料與無機粒子混合改性,不但能改善膜的穩(wěn)定性和機械性能,還能更好的綜合有機膜、無機膜的優(yōu)點,但其改性技術目前不算特別完善,如無機粒子的易團聚、與PVDF膜相容性差等問題依然沒有很好的解決,成膜過程的動力學等機理及改性粒子對膜孔結(jié)構(gòu)的影響需要更加深入的探索;PVDF膜本體化學改性對膜整體材料均有影響,其可以從根本上改變膜的性質(zhì),但其過程難以控制從而容易損壞膜本身具有優(yōu)良性質(zhì),如機械性能、穩(wěn)定性能等,因此,PVDF膜本體化學改性的方向依然是需找合適的改性物質(zhì),在提高膜整體性能的同時降低對膜優(yōu)良性能的影響。

        參考文獻

        [1]劉春濤.PVDF超濾膜相轉(zhuǎn)化制備方法及其改性的研究進展[J].化學與黏合,2009,31(6):54-57.

        [2]李紅賓.聚偏氟乙烯膜親水化改性的研究進展[J].高分子通報,2014(7):24-28.

        [3]紀芹.再生全氟磺酸及羥基磷灰石晶須改性PVDF中空纖維膜的制備及表征[D].上海師范大學,2012.

        作者簡介

        馬玉(1976-),女,碩士,副研究員,國家知識產(chǎn)權局專利局專利審查協(xié)作河南中心材料工程發(fā)明審查部,主要從事材料、化工領域發(fā)明專利審查及專利技術分析預警等研究工作。endprint

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