張繼軍,劉照遠(yuǎn)
(天辰化工有限公司,新疆 石河子 832000)
膜法除硝生產(chǎn)運(yùn)行管理及經(jīng)驗(yàn)介紹
張繼軍,劉照遠(yuǎn)
(天辰化工有限公司,新疆 石河子 832000)
闡述了膜法除硝的工作原理,簡(jiǎn)要總結(jié)了膜法除硝裝置的運(yùn)行情況。
膜法除硝;SO2-4;管理
新疆天業(yè)(集團(tuán))天辰化工有限公司采用高電流密度零極距自然循環(huán)離子膜電解槽,對(duì)鹽水的質(zhì)量要求十分嚴(yán)格。鹽水中的硫酸根來源主要有2個(gè),一是原鹽本身含有一定量的硫酸根,二是電解過程中會(huì)產(chǎn)生游離氯,為了消除游離氯對(duì)系統(tǒng)的影響,保持系統(tǒng)平衡,需要加入一定量的亞硫酸鈉溶液,亞硫酸鈉經(jīng)過反應(yīng)后產(chǎn)生硫酸根離子。由于鹽水系統(tǒng)為閉路循環(huán)系統(tǒng),硫酸根含量會(huì)緩慢累積,當(dāng)這些積累在鹽水系統(tǒng)中的硫酸根的濃度超過一定值后,電解過程中會(huì)在陽(yáng)極放電,消耗了電能的同時(shí)也會(huì)產(chǎn)生游離態(tài)的氧并對(duì)陽(yáng)極產(chǎn)生較為嚴(yán)重的破壞[1]。因此,為了維持系統(tǒng)平衡,確保電解工序生產(chǎn)穩(wěn)定以及提高產(chǎn)品質(zhì)量,必須對(duì)鹽水系統(tǒng)中的硫酸根含量嚴(yán)格控制。
離子膜輸送來的脫氯淡鹽水pH值一般控制在9~11,亞硫酸鈉殘留量為0~20×10-6,經(jīng)過冷凍單元兩級(jí)冷卻后,進(jìn)料鹽水溫度由75℃降到35~50℃,加入8%的鹽酸調(diào)節(jié)活性碳塔過濾器出口pH值為3.5~7.0,游離氯控制在200 mV以下。經(jīng)過預(yù)處理的脫氯淡鹽水經(jīng)過高壓泵輸送至除硝膜內(nèi),經(jīng)過3級(jí)(4-2-1)過濾,過濾后的濃縮液送至冷凍單元經(jīng)降溫至10~20℃,部分送入沉降器,結(jié)晶析出帶結(jié)晶水的硫酸鈉,然后,帶有大量結(jié)晶體的漿料經(jīng)過離心機(jī)離心處理,帶結(jié)晶水的硫酸鈉送往元明粉生產(chǎn)車間進(jìn)行后續(xù)處理。
天辰化工廠的一次鹽水除硝膜采用天津威德膜法除硝工藝,共有2套,設(shè)計(jì)壽命2年,實(shí)際使用壽命已超過4年,目前處理能力完全滿足生產(chǎn)要求。主要任務(wù)是將原鹽中帶入的硫酸根離子采用膜法 (物理方法)去除,將鹽水系統(tǒng)中的硫酸根控制在5 g/L以下,保證離子膜電解槽穩(wěn)定運(yùn)行。
(1)指標(biāo)控制
活性碳塔塔底ORP的控制。當(dāng)鹽水中的ORP大于200 mV時(shí)立刻關(guān)閉活性過濾器入口閥門,開啟鹽水循環(huán)閥門,使鹽水返回配水系統(tǒng)。在活性碳塔入口處取樣分析,游離氯如果合格,說明有效活性碳量不足,停車裝填;如不合格聯(lián)系脫氯工序檢查。
(2)pH值的控制
活性炭主要是與HClO反應(yīng),而Cl2與水生成的HClO,在酸性環(huán)境中保持[H+]狀態(tài),即HClO;在堿性環(huán)境下,則被OH-奪取H+,而成為ClO-。所以,為保證絕大部分游離氯(Cl2)能轉(zhuǎn)化成HClO,必須維持溶液(脫氯淡鹽水)為酸性狀態(tài)。另外,為防止鹽水中金屬離子水解生成不溶性的氫氧化物,堵塞MRO膜,進(jìn)膜過濾器的鹽水也要維持一定的酸度。本工序在鹽水預(yù)處理系統(tǒng)的兩級(jí)冷卻與活性炭吸收塔之前,向鹽水中加Na2SO4,并用pH計(jì)控制亞硫酸鈉加入量,鹽水中殘留的亞硫酸鈉與氯酸鹽再度反應(yīng)生成新的游離氯,與鹽水中本來就含有的游離氯,到活性炭塔內(nèi)一并除去,要求鹽水pH值控制在3.5~7.0。
(3)溫度影響及控制要求
溫度越高,活性炭與Cl2反應(yīng)速率越快,提高透過膜的低硝鹽水量。但不能過度升溫,因?yàn)殡S著溫度的提高,低硝鹽水中的硫酸根也隨之提高,同時(shí)將導(dǎo)致膜結(jié)構(gòu)的改變,對(duì)膜性能將產(chǎn)生較大的影響。因?yàn)閷?duì)分離膜而言,其分離效率是由膜透過率來衡量,而膜透過率是分子擴(kuò)散系數(shù)與溶解度系數(shù)之積。當(dāng)溫度上升時(shí),擴(kuò)散系數(shù)增大,但溶解度系數(shù)降低,因此,在膜設(shè)計(jì)制造時(shí),綜合考慮兩者影響而設(shè)定一個(gè)合理的溫度范圍,以求達(dá)到較高的膜分離效率。另外,過度升溫會(huì)消耗大量熱能,生產(chǎn)成本增大。本工序要求從活性炭過濾器入口開始,控制進(jìn)料鹽水溫度為30~50℃。
(4)壓力影響
對(duì)分離膜而言,壓力越高,膜透過量越高,但膜過濾室內(nèi)壓力不能過高。因?yàn)閴毫υ礁?,?huì)消耗過多動(dòng)力,而且過高壓力對(duì)設(shè)備容器的要求也會(huì)變高。從經(jīng)濟(jì)角度考慮不合算;另一方面,壓力升高,會(huì)有更多的硫酸根透過MRO膜,使低滲透液中的硫酸根含量升高;而且,鹽水流速變快,鹽水中許多溶質(zhì)分子可能還未來得及滲透過MRO膜,就被流體帶出膜過濾室,造成處理量下降,MRO系統(tǒng)要求操作壓力不高于2.5 MPa。
(5)亞硫酸鈉殘留量及控制要求
氯酸鈉在酸性條件下易與亞硫酸鈉反應(yīng),生成游離氯。游離氯對(duì)膜有相當(dāng)大的傷害,并且是不可恢復(fù)的損壞[2]。如待處理鹽水中殘留有過量亞硫酸鈉,在鹽酸調(diào)節(jié)pH值到酸性范圍后,游離氯大量生成,會(huì)造成活性炭塔負(fù)荷過重,導(dǎo)致活性炭破碎,進(jìn)入膜單元,造成膜壓升高。此外,未來得及反應(yīng)的亞硫酸鈉和氯酸納在MRO膜內(nèi)部發(fā)生反應(yīng),生成的游離氯會(huì)破壞MRO膜結(jié)構(gòu),孔徑增大,縮減膜的使用期限。因此,在脫氯工序即可控制亞硫酸鈉加入量,使脫氯淡鹽水中Na2SO3殘留量不超過氯酸鈉的濃度,一般要求進(jìn)活性炭塔的鹽水中,亞硫酸鈉含量在50×10-6以下
(1)膜單元出現(xiàn)滲透液出口硫酸根含量高的原因及處理措施。原因:膜發(fā)生損壞;密封橡膠圈不嚴(yán);O型圈不嚴(yán)。處理措施:更換濾膜、重新安裝橡膠圈或O型圈。
(2)影響滲透液流量偏低的原因分析及處理方法。原因:膜面有沉積物、破碎活性炭,將膜單元停車進(jìn)行沖洗;鹽水濃度高會(huì)增加膜的過濾阻力,造成膜壓力提高過濾效率下降,需向鹽水中加入一定量的純水使鹽水濃度控制在190 g/L以下;
進(jìn)料鹽水壓力下降也會(huì)導(dǎo)致滲透液流量偏低,則檢查加壓泵運(yùn)行情況,若泵出異常聯(lián)系相關(guān)部門處理。
(3)滲透液中硫酸根離子含量高的原因及處理。原因:pH值不在規(guī)定范圍內(nèi),需校正MRO。
進(jìn)料鹽水pH,并聯(lián)系相關(guān)部門取樣分析,判斷是否是儀表故障;膜接近使用壽命、物理?yè)p壞導(dǎo)致膜泄漏、內(nèi)部機(jī)械泄漏會(huì)造成滲透液中硫酸根離子含量高,檢查滲透液中高硫酸鹽,確定泄漏點(diǎn),更換元件。
對(duì)膜處理單元來說,如果長(zhǎng)時(shí)間停車(超過2 h)必須對(duì)膜殼內(nèi)的鹽水進(jìn)行置換處理,用大量純水進(jìn)行沖洗,直到出水中的氯化鈉含量為零。在停車期間內(nèi),每天對(duì)膜進(jìn)行濕膜保護(hù)一次,并且膜殼內(nèi)始終充滿水,防止干膜。該公司嚴(yán)格規(guī)定每天定時(shí)對(duì)停止運(yùn)行的膜進(jìn)行濕膜保護(hù),防止因干膜而對(duì)除硝膜產(chǎn)生損壞。
從實(shí)際管理過程中可以總結(jié)得出,在日常生產(chǎn)中要嚴(yán)格要求工藝指標(biāo)的控制,指標(biāo)超出規(guī)定范圍內(nèi)應(yīng)采取有效的處理措施,必要時(shí)為保證膜不被破壞必須停車,將鹽水切至配水系統(tǒng)。在停車狀態(tài)下要注意對(duì)膜的維保養(yǎng),保證膜始終處在濕潤(rùn)狀態(tài)下可以提高膜的使用壽命。
[1]李金枝,徐 明.膜法除硝裝置運(yùn)行總結(jié).內(nèi)蒙古石油化工,2013(12):8.
[2]周延紅,朱建強(qiáng),膜法脫除硫酸根裝置運(yùn)行總結(jié).氯堿工業(yè),2008(12):10.
Production operation management and experience introduction of sulfate removal by membrane method
ZHANG Ji-jun,LIU Zhao-yuan
(Tianchen Chemical Co.,Ltd.,Shihezi 832000,China)
The working principle and operation of sulfate removal by membrane method device were introduced.
sulfate removal by membrane method;sulfate radical;manage
TQ114.26+1
B
1009-1785(2017)03-0008-02
2016-12-29