◎ 文/吳錦明
實(shí)證分析茂名R&D投入產(chǎn)出與稅收優(yōu)惠激勵效應(yīng)
◎ 文/吳錦明
R&D的投入產(chǎn)出是衡量一個(gè)城市創(chuàng)新程度大小的重要指標(biāo),主要包括一定時(shí)期內(nèi)社會R&D投入量、專利申請數(shù)量及高新技術(shù)產(chǎn)品總值?,F(xiàn)行鼓勵技術(shù)創(chuàng)新的稅收優(yōu)惠政策主要分為所得稅優(yōu)惠政策和流轉(zhuǎn)稅優(yōu)惠政策,本文對茂名2001-2013年相關(guān)數(shù)據(jù)的實(shí)證分析顯示,兩種稅收優(yōu)惠政策均能促進(jìn)茂名企業(yè)的技術(shù)創(chuàng)新,其中,所得稅優(yōu)惠對社會R&D投入具有顯著影響,而流轉(zhuǎn)稅優(yōu)惠對專利申請數(shù)量的影響較大,但兩種優(yōu)惠對高新技術(shù)產(chǎn)品產(chǎn)值均未能通過顯著性檢驗(yàn)。
R&D投入及產(chǎn)出;所得稅優(yōu)惠;流轉(zhuǎn)稅優(yōu)惠
研究與試驗(yàn)發(fā)展簡稱為R&D,是技術(shù)創(chuàng)新的核心部分,是企業(yè)形成自主知識產(chǎn)權(quán)的技術(shù)源,企業(yè)R&D投入大小反映了企業(yè)的技術(shù)創(chuàng)新規(guī)模,是企業(yè)科技實(shí)力的重要指標(biāo)。企業(yè)R&D的產(chǎn)出主要表現(xiàn)為企業(yè)專利技術(shù)的形成,以及轉(zhuǎn)化為最終新產(chǎn)品的投產(chǎn)。早在1999年國家就陸續(xù)出臺了一系列稅收優(yōu)惠政策以鼓勵企業(yè)技術(shù)創(chuàng)新,特別是2008年開始實(shí)施的新《企業(yè)所得稅法》以及一系列以特定產(chǎn)業(yè)為對象的優(yōu)惠政策,通過有條件的稅額減免,調(diào)動了企業(yè)技術(shù)創(chuàng)新的積極性,帶動了R&D的投入。根據(jù)《茂名統(tǒng)計(jì)年鑒》和《廣東省科技年鑒》數(shù)據(jù)披露茂名市社會R&D支出從2001年的12000萬元增長到2012年的89234.9萬元,增長幅度為643.6%,在此期間專利申請個(gè)數(shù)由2001年的75件增長至2013年的2530件,增長幅度為3273.3%,高新產(chǎn)品總值從由2001年的17.27億增長至2012年的70.42億,增長幅度為307.8%.激勵技術(shù)創(chuàng)新的稅收優(yōu)惠政策主要分為所得稅優(yōu)惠激勵和流轉(zhuǎn)稅優(yōu)惠激勵,然而兩者是否都對R&D的投入產(chǎn)出的所有指標(biāo)產(chǎn)生激勵效應(yīng)?本文擬以茂名市2001至2013年的社會R&D投入產(chǎn)出指標(biāo)為樣本,對以上問題進(jìn)行實(shí)證分析。
在稅收激勵對企業(yè)技術(shù)創(chuàng)新的影響效應(yīng)研究方面,吳秀波(2003)先詳細(xì)介紹國外對于稅收激勵研發(fā)效果的評價(jià)方法,在此基礎(chǔ)上采用實(shí)證分析了我國R&D支出稅收激勵效應(yīng),結(jié)果顯示我國當(dāng)前稅收激勵對于R&D支出影響十分有限。[1]方重、楊昌輝、梅玉華(2010)以2007年全國9000家企業(yè)為樣本,根據(jù)相關(guān)數(shù)據(jù),構(gòu)建了企業(yè)自主創(chuàng)新與稅收優(yōu)惠政策相關(guān)性的B-index模型,測算出我國企業(yè)自主創(chuàng)新研發(fā)投入的成本彈性約為0.4%-0.7%,即稅收優(yōu)惠政策每降低企業(yè)自主創(chuàng)新研發(fā)成本1%,終會促使企業(yè)自主創(chuàng)新投入增加0.4%-0.7%。即政府每減免企業(yè)一元錢并不能換來企業(yè)增加一元錢研發(fā)支出的結(jié)果,由此得出我國現(xiàn)行激勵企業(yè)自主創(chuàng)新的稅收優(yōu)惠政策的低效性。[2]李嘉明、喬天寶(2010)通過建立稅收對高新技術(shù)產(chǎn)業(yè)發(fā)展的短期和中長期效應(yīng)模型,通過實(shí)證分析不同稅種的優(yōu)惠對高新技術(shù)產(chǎn)業(yè)現(xiàn)時(shí)和未來發(fā)展的影響,所得結(jié)論認(rèn)為所得稅優(yōu)惠和增值稅優(yōu)惠都能促進(jìn)高新技術(shù)產(chǎn)業(yè)現(xiàn)時(shí)的發(fā)展,但對于高新技術(shù)產(chǎn)業(yè)未來的發(fā)展,所得稅優(yōu)惠則能更好地發(fā)揮其效應(yīng)。[3]周阿立(2010)以2007、2008、2009三年上市公司年報(bào)為對象,通過建立多元線性回國模型分析了新《企業(yè)所得稅》稅收優(yōu)惠變化對上市公司R&D投入的影響,其結(jié)果顯示所得稅稅負(fù)與R&D投入強(qiáng)度呈顯著負(fù)相關(guān),即降低所得稅稅負(fù)對R&D投入具有較強(qiáng)的促進(jìn)作用[4]。本文將沿用上述學(xué)者研究方法,建立多元線性回歸模型分析茂名市2001至2013年所得稅優(yōu)惠政策與流轉(zhuǎn)稅優(yōu)惠政策對社會R&D投入產(chǎn)出指標(biāo)的影響效應(yīng)。
(一)樣本選取
本研究樣本對象為2001-2013年茂名企業(yè)所得稅優(yōu)惠與流轉(zhuǎn)稅優(yōu)惠對社會R&D投入產(chǎn)出指標(biāo)影響,其中社會R&D投入指標(biāo)為茂名當(dāng)年R&D支出總額、產(chǎn)出指標(biāo)分別為當(dāng)年專利申請個(gè)數(shù)及當(dāng)年高新技術(shù)產(chǎn)品產(chǎn)值。數(shù)據(jù)來源于《茂名統(tǒng)計(jì)年鑒》、《廣東科技統(tǒng)計(jì)年鑒》、《廣東省財(cái)政年鑒》以及廣東科技廳網(wǎng)站,并進(jìn)行了相關(guān)的整理。
(二)研究假設(shè)
R&D是技術(shù)創(chuàng)新的核心,其投入大小反映了企業(yè)的技術(shù)創(chuàng)新規(guī)模。R&D投入的產(chǎn)出成果表現(xiàn)為企業(yè)專利技術(shù)的形成,而專利技術(shù)的產(chǎn)品化和市場化是企業(yè)R&D活動的最終目的,即R&D投入產(chǎn)出鏈條傳遞為:R&D投入——形成核心技術(shù)——新產(chǎn)品市場化。
首先,社會R&D投入尤其是企業(yè)R&D投入過程中,高風(fēng)險(xiǎn)與高成本相互并存。降低研發(fā)成本意味著降低研發(fā)風(fēng)險(xiǎn),研發(fā)成本來自于企業(yè)投入研發(fā)的各種資金成本、人力資源成本、運(yùn)營成本等,它們恰好是企業(yè)所得稅的核算,如果政府通過稅收優(yōu)惠政策,將企業(yè)所得稅的部分收益渡讓給企業(yè),如直接進(jìn)行稅基扣除,則有利于企業(yè)降低研發(fā)成本,R&D投入的意愿便會加強(qiáng)。現(xiàn)行所得稅優(yōu)惠政策中如研發(fā)費(fèi)用加計(jì)扣除、資產(chǎn)加速折舊、創(chuàng)投企業(yè)投資抵減、特定企業(yè)低稅率優(yōu)惠等,都為企業(yè)降低研發(fā)成本和風(fēng)險(xiǎn)提供了機(jī)會。由此提出第一個(gè)假設(shè):
H1:相較于流轉(zhuǎn)稅優(yōu)惠,所得稅優(yōu)惠更能激勵企業(yè)R&D投入。
其次,R&D投入最終成果具體表現(xiàn)為專利技術(shù)的形成。但促使專利技術(shù)形成的不但包括企業(yè)自身研發(fā)費(fèi)用的支出,還包括許多市場需求的拉動,如單位或個(gè)人的技術(shù)轉(zhuǎn)讓、咨詢,科技服務(wù)企業(yè)的培育等,這些由市場需求拉動的交易更多的涉及流轉(zhuǎn)稅中營業(yè)稅的征收。如果政府通過稅收優(yōu)惠政策,將營業(yè)稅的部分收益渡讓給技術(shù)項(xiàng)目的買賣雙方,則有利于降低專利技術(shù)的開發(fā)與交易成本,會促進(jìn)更多的專利項(xiàng)目形成。由此提出第二個(gè)假設(shè):
H2:相較于所得稅優(yōu)惠,流轉(zhuǎn)稅優(yōu)惠更能促使專利技術(shù)的形成。
最后,專利技術(shù)需要轉(zhuǎn)化為產(chǎn)品并通過市場化才能實(shí)現(xiàn)其核心技術(shù)價(jià)值。這一階段,新產(chǎn)品將面臨來自市場的各種產(chǎn)品競爭,其市場份額的大小、流通渠道的暢順將直接影響其銷售及產(chǎn)值。增值稅作為流通環(huán)節(jié)最大的稅種,稅收優(yōu)惠力度將直接影響著產(chǎn)品的流通。如果政府通過稅收優(yōu)惠政策,將增值稅的部分收益渡讓給新產(chǎn)品的流通,則新產(chǎn)品能憑借價(jià)格優(yōu)勢迅速市場化并提升總產(chǎn)值。由此提出第三個(gè)假設(shè):
H3:相較于所得稅優(yōu)惠,流轉(zhuǎn)稅優(yōu)惠更能促進(jìn)專利技術(shù)產(chǎn)品市場化。
表1 描述統(tǒng)計(jì)量
表2 模型(1)方差分析
表3 模型(1)參數(shù)估計(jì)
表4 模型(2)方差分析
表5 模型(2)參數(shù)估計(jì)
稅收優(yōu)惠政策激勵科技創(chuàng)新,不僅僅是促進(jìn)企業(yè)R&D投入,而是要對完整的R&D投入產(chǎn)出鏈條予以扶持,才能達(dá)到科技帶動經(jīng)濟(jì)的最終目標(biāo)。本項(xiàng)目正是以R&D投入產(chǎn)出鏈條相關(guān)指標(biāo)作為因變量,分別考察流轉(zhuǎn)稅優(yōu)惠政策和所得稅優(yōu)惠政策對鏈條指標(biāo)的影響程度。 對于因變量,考察R&D投入的指標(biāo)采用R&D投入強(qiáng)度(RDP)表示、考察專利技術(shù)形成的指標(biāo)采用專利申請數(shù)量(PA)表示、考察高新技術(shù)產(chǎn)品市場化的指標(biāo)采用高新技術(shù)產(chǎn)品產(chǎn)值比例(HTPV)表示。對于自變量,用于所得稅優(yōu)惠影響的指標(biāo)采用所得稅稅負(fù)(ITR)表示、用于流轉(zhuǎn)稅優(yōu)惠影響的指標(biāo)采用流轉(zhuǎn)稅稅負(fù)(TTB)表示。具體變量定義如下:
R&D投入強(qiáng)度(RDP):R&D費(fèi)用/ GDP
專利申請數(shù)量(PA):專利申請總數(shù)
高新技術(shù)產(chǎn)品產(chǎn)值比例(HTPVP):高新技術(shù)產(chǎn)品總產(chǎn)值/GDP
所得稅稅負(fù)(ITR):市級所得稅收入/GDP
流轉(zhuǎn)稅稅負(fù)(TTB):市級流轉(zhuǎn)稅收入/GDP
在模型構(gòu)建方面,針對以上三組假設(shè)對應(yīng)建立三組多元回歸線性模型(1)(2)(3):
(一)統(tǒng)計(jì)描述
(詳見表1)
統(tǒng)計(jì)描述顯示所得稅稅負(fù)(ITR)、流轉(zhuǎn)稅稅負(fù)(TTB)的均值分別為.00572909和.0003891,R&D投入強(qiáng)度(RDP)、專利申請數(shù)量(PA)、高新技術(shù)產(chǎn)品產(chǎn)值比例(HTPV)的均值分別為.0025357、.0521327和612.0769。
(二)實(shí)證結(jié)果和分析
根據(jù)篩選后的數(shù)據(jù)樣本,通過spss20軟件對實(shí)證模型(1)(2)(3)進(jìn)行方差分析及系數(shù)估計(jì),估計(jì)結(jié)果為表3-表7所示。
表2中的回歸方程P值為0.030小于0.05,說明模型(1)用于回歸分析具有統(tǒng)計(jì)學(xué)意義。表3中流轉(zhuǎn)稅稅負(fù)(TTR)P值為0.304大于0.05,即用TTR來預(yù)測因變量研發(fā)費(fèi)用強(qiáng)度(RDP)無統(tǒng)計(jì)學(xué)意義,所得稅稅負(fù)(ITR)P值為0.16小于0.05,說明有統(tǒng)計(jì)學(xué)意義,且系數(shù)為-18.572,ITR與RDP成反向關(guān)系,即ITR降低1個(gè)單位,RDP會增加18.572個(gè)單位,支持H1假設(shè)。
表4中的回歸方程P值為0.010小于0.05,說明模型(二)用于回歸分析具有統(tǒng)計(jì)學(xué)意義。表5中流轉(zhuǎn)稅稅負(fù)(TTR)P值為0.08小于0.05,具有統(tǒng)計(jì)學(xué)意義,且系數(shù)為-646043.399,與因變量專利申請數(shù)量(PA)成反向關(guān)系,即TTR降低1個(gè)單位,PA會增加646043.399個(gè)單位;此外,所得稅稅負(fù)(ITR)P值為0.025同樣小于0.05,具有統(tǒng)計(jì)學(xué)意義,且系數(shù)為-7174846,與PA成反向關(guān)系,即ITR降低1個(gè)單位,PA會增加7174846.079個(gè)單位,但表中標(biāo)準(zhǔn)化系數(shù)的結(jié)果正好相反,TTR和ITR標(biāo)準(zhǔn)化后的系數(shù)分別為-0.720和-0.566,由于標(biāo)準(zhǔn)化系數(shù)是在統(tǒng)一了自變量量綱后得到的系數(shù),更具有比較意義,因而按照標(biāo)準(zhǔn)系數(shù)結(jié)果對比,TTR對PA的影響要大于ITR,從而支持H2假設(shè)。
表6中的回歸方程P值為0.701大于0.05,說明模型(3)用于回歸分析不具有統(tǒng)計(jì)學(xué)意義。同時(shí),表7中流轉(zhuǎn)稅稅負(fù)(TTR)和所得稅稅負(fù)(ITR)P值分別為0.742和0.420均大于0.05,無統(tǒng)計(jì)學(xué)意義,即TTR與ITR的變動與因變量高新技術(shù)產(chǎn)品產(chǎn)值比例(HTPVP)無相關(guān)性,從而拒絕H3假設(shè)。
表6 模型(3)方差分析
表7 模型(3)參數(shù)估計(jì)
通過上述對茂名市相關(guān)指標(biāo)2001-2013年數(shù)據(jù)的實(shí)證分析可得,兩種稅收優(yōu)惠政策均能促進(jìn)茂名技術(shù)創(chuàng)新。其中,在激勵R&D投入方面,現(xiàn)行所得稅優(yōu)惠的激勵作用明顯,但流轉(zhuǎn)稅難以發(fā)揮其激勵作用;在激勵專利技術(shù)形成方面,所得稅和流轉(zhuǎn)稅優(yōu)惠都能起到激勵作用,其中流轉(zhuǎn)稅的激勵作用較大;在促進(jìn)技術(shù)產(chǎn)品市場化方面,所得稅和流轉(zhuǎn)稅優(yōu)惠都未能對本市的高新技術(shù)產(chǎn)品產(chǎn)值產(chǎn)生相關(guān)影響。
[1]吳秀波.稅收激勵對于研發(fā)投資的影響:實(shí)證分析與政策工具選拔[J].研究與發(fā)展管理,2003(2):36-41.
[2]方重,楊昌輝,梅玉華.論“創(chuàng)新所得稅收抵免”對中小企業(yè)的激勵效應(yīng)[J].稅務(wù)研究,2010(8):16-18.
[3]李嘉明,喬天寶.高新技術(shù)產(chǎn)業(yè)稅收優(yōu)惠政策的實(shí)證分析[J].財(cái)政與稅務(wù),2010(6):41-46.
[4]周阿立.新《企業(yè)所得稅法》與新無形資產(chǎn)準(zhǔn)則對上市公司研發(fā)投入的影響[J].稅務(wù)研究,2010(8):19-21.
[5]張同斌,高鐵梅.財(cái)稅政策激勵、高新技術(shù)產(chǎn)業(yè)發(fā)展與產(chǎn)業(yè)結(jié)構(gòu)調(diào)整[J].經(jīng)濟(jì)研究,2012(05):58-70.
[6] 李浩研,崔景華.稅收優(yōu)惠和直接補(bǔ)貼的協(xié)調(diào)模式對創(chuàng)新的驅(qū)動效應(yīng)[J].稅務(wù)研究,2014(03):85-89.
[7]王華,龔玨.支持企業(yè)技術(shù)創(chuàng)新稅收優(yōu)惠政策的實(shí)踐與思考——基于湖北省的調(diào)研[J].稅務(wù)研究,2013(03):3-9.
(作者單位:廣東石油化工學(xué)院經(jīng)濟(jì)管理學(xué)院)