劉歡,郭宇,吳紅梅,高巖雪,李佳勵,李琳,李駿騁
(遼寧工業(yè)大學化學與環(huán)境工程學院,遼寧錦州 121001)
純硅沸石分子篩膜(silicalite-1)具有較高的化學穩(wěn)定性、物理穩(wěn)定性和很強的疏水特性,被廣泛應用于水溶液中有機物的分離和脫除[1~3],得到國內外研究者的廣泛關注。特別是,將沸石膜組裝成為膜反應器可以將化學反應和分離過程集成應用,從而提高反應的轉化率和產物的選擇性[4,5]。因此,沸石膜反應器的應用已成為目前研究的熱點。為實現silicalite-1沸石膜的優(yōu)良特性,其關鍵在于獲得高質量的沸石膜。
本文利用二次晶種生長法在多孔管式氧化鋁載體表面生長出連續(xù)、完整的silicalite-1沸石膜,主要研究了silicalite-1沸石膜形貌、結構及氣體滲透性能。
正硅酸乙酯(TEOS,天津科密歐化學試劑有限公司),四丙基氫氧化銨(TPAOH,自制)和去離子水(自制)。管式多孔α-Al2O3載體(廣東佛山陶瓷研究所)。
將TEOS、TPAOH、去離子水,按照配比TEOS∶TPAOH∶H2O=40∶10∶2700配制silicalite-1沸石晶種母液。在室溫下攪拌24 h,然后將晶種母液裝入帶有聚四氟乙烯內襯的高壓晶化釜內,于373 K下合成16 h,得到沸石晶種溶液,備用。
將上述獲得的silicalite-1沸石晶種溶液配制成質量分數為2%的晶種懸浮液。將管式多孔氧化鋁載體兩端用聚四氟乙烯帽封閉,以避免沸石晶種液進入到氧化鋁載體管內部,將密封好的載體管垂直浸漬到晶種懸浮液中,靜置60 s后緩慢取出,在室溫下干燥過夜,最后將其放到馬弗爐內,于823 K焙燒6 h。
將 TEO、TPAOH 和 H2O,按 照 SiO2∶TPAOH∶H2O=100∶25∶50000 配制合成液,將以涂覆 sili?calite-1沸石晶種的載體放入合成釜中,并倒入合成液,于448K下晶化48h后,洗滌、干燥。最后將其在823K下的馬弗爐中焙燒6 h,從而獲得silic?aite-1沸石膜。
采用KYKY-2000B型掃描電子顯微鏡(SEM)分析Silicalite-1沸石膜表面和截面形貌,觀察沸石膜厚度。采用(Rigaku)D/max-2400型X射線衍射儀確定所合成的沸石膜的種類和晶體結構。在室溫下采用H2、N2和SF6滲透測試分析silicalite-1沸石膜的滲透性。
圖1是管式多孔陶瓷管載體涂覆silicalite-1沸石晶種的表面SEM照片。由圖1(a)可以看出,該陶瓷管載體表面主要由大小不一的Al2O3顆粒燒結而成,表面較為粗糙,且孔徑分布極不均勻。圖1(b)是預涂silicalite-1沸石晶種層后的載體表面SEM照片。從圖中可以看出,通過將管式多孔載體在sili?calite-1沸石晶種液浸涂,可以將沸石晶種有效地涂覆在載體表面上,晶種粒子排列緊密,不僅為后期沉積silicalite-1沸石膜提供成核中心,而且使得載體表面形貌得到明顯改善。
圖1 涂覆silicalite-1沸石晶種載體的SEM照片
圖2是silicalite-1沸石膜的XRD譜圖。由圖2可以看出,在2θ為7.9°、8.8°、23.2°、23.8°、24.3°等處,均出現了silicalite-1沸石結構的特征衍射峰,說明在載體表面成功制備了silicalite-1沸石膜。另外,XRD譜圖中其它衍射峰是氧化鋁載體的特征峰,無其他雜質峰的存在。
圖2 Silicalite-1沸石膜的XRD譜圖
圖3是silicalite-1沸石膜表面和截面SEM照片。從圖3(a)可以看出載體表面沉積了一層sili?calite-1沸石顆粒,且沸石顆粒緊密排列、交互生長,未發(fā)現特別明顯的裂紋等缺陷。由圖3(b)可見,所制備的沸石膜主要由致密的silicalite-1沸石層和多孔氧化鋁載體組成。Silicalite-1沸石膜層厚度均一,清晰可見,沸石膜層與載體結合緊密,沸石膜厚度約15 μm。
圖3 合成的silicalite-1沸石膜SEM表面圖(a)和截面圖(b)
圖4是合成的silicalite-1沸石膜在室溫下的氣體滲透性能。由圖4(a)可見,隨著滲透壓力的升高,silicalite-1沸石膜的H2滲透速率逐漸上升。然而,N2滲透速率變化不大。單組份H2/N2理想分離因子是H2滲透速率與N2滲透速率的比值。因此,隨著滲透壓力的升高,單組份H2/N2理想分離因子不斷增加。當溫度為298K,滲透壓力為0.1MPa時,H2滲透速率為 7.15×10-7mol·m-2·s-1·Pa-1,N2滲透速率為1.87×10-7mol·m-2·s-1·Pa-1,其H2/N2理想分離因子達到3.82,大于其Knudsen擴散比值3.74,說明所合成的silicalite-1沸石膜較為致密,具備了一定的分離能力。另外,由于SF6動力學直徑為0.55 nm,大于silicalite-1沸石晶體孔道的直徑(0.51~0.55 nm),因此,通過觀察SF6在silicalite-1沸石膜中的滲透行為,更加能夠反映所合成的沸石膜的完整性。由圖4(b)可以看出,隨著滲透壓力的升高,SF6在silicalite-1沸石膜中H2滲透速率變化不大,與N2在該沸石膜中的滲透行為一致,其H2/SF6理想分離因子達到22.46,大于其 Knudsen 擴散比值 8.54,說明 sili?calite-1沸石膜沒有明顯缺陷或裂縫。
圖4 silicalite-1沸石膜的氣體滲透性能圖
采用二次晶種生長法在管式多孔陶瓷載體上成功制備出了連續(xù)、完整的silicalite-1沸石膜,其厚度為15 μm。在293K時,H2滲透速率為7.15×10-7mol·m-2·s-1·Pa-1,單組份H2/N2理想分離因子達到3.82,單組份H2/SF6理想分離因子達到22.46,說明所合成的silicalite-1沸石膜具備一定的分離功能。
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