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        氟化鈣晶體生長工藝研究

        2015-10-10 13:50:30張志浩索忠源姜峰王鑫
        橡塑技術(shù)與裝備 2015年22期
        關(guān)鍵詞:氟化鈣晶體生長溫度梯度

        張志浩,索忠源,姜峰,王鑫

        (吉林化工學(xué)院,吉林 吉林 132022)

        氟化鈣晶體生長工藝研究

        張志浩,索忠源,姜峰,王鑫

        (吉林化工學(xué)院,吉林 吉林 132022)

        氟化鈣晶體是一種十分重要的材料,目前,隨著深紫外光刻技術(shù)的不斷發(fā)展,氟化鈣晶體逐漸朝著高透過率、寬透光范圍的方向發(fā)展,無論是在質(zhì)量上還是在尺寸上,都得到了很大的優(yōu)化。本文結(jié)合氟化鈣的基本性質(zhì),對其晶體的生長方式和生長工藝進行了研究。

        氟化鈣晶體;紫外光刻;生長工藝

        氟化鈣晶體是一種十分良好的化學(xué)材料,具有較高的化學(xué)穩(wěn)定性、機械性能、光學(xué)性能等。通常來說,其具有125~10 000 nm的透光范圍,在真空紫外波段到中紅外波段,被十分廣泛的用作光學(xué)介質(zhì)。而在可見波段和紫外波段,氟化鈣晶體能夠發(fā)揮出特殊的直射指數(shù)以及相對的色散值,因而在復(fù)消色差透鏡的應(yīng)用當(dāng)中,也是一種十分良好的光學(xué)材料。此外,如果在色心晶體中采用氟化鈣做基質(zhì),還能夠在Q開關(guān)和可調(diào)諧激光晶體中發(fā)揮作用。

        1 氟化鈣的基本性質(zhì)

        氟化鈣晶體屬于立方晶系結(jié)構(gòu),其中,鈣離子的結(jié)構(gòu)為面心立方,弗離子在八個小立方體的中心進行填充。鈣離子的配位數(shù)是8,弗離子的配位數(shù)是4,晶格常數(shù)是0.5462 nm。對于氟化鈣晶體的光學(xué)加工、生長等過程,其物理性質(zhì)都會產(chǎn)生很大的影響。由于氟化鈣具有較低的熱導(dǎo)率,因而在生長過程中,熱應(yīng)力通常較高。由于其具有較高的熱膨脹系數(shù),因此在加工的時候,為防止其整體斷裂和邊緣碎裂,需要不斷進行熱處理。此外,由于其硬度較差,很容易由于細小的溫差而發(fā)生形變,并且在拋光過程中也較為困難,很容易留下痕跡。

        在18 ℃的水中,氟化鈣具有0.0016 g的溶解度,在稀的無機酸中微溶,在濃的無機酸中溶解度能夠提高,同時會釋放氟化氫氣體。而在有機溶劑中,則不能溶解。在高溫條件下,氟化鈣能夠發(fā)生水解反應(yīng),生成氧化鈣。因此在氟化鈣晶體的生長過程中,應(yīng)當(dāng)與水隔離,并且為了去除其中的氧化物,還需要加入適量的氟化劑。氟化鈣晶體能夠透過125 ~10 000 nm波長的光。在這一范圍內(nèi),晶體能夠產(chǎn)生1.6921 到1.3002的折射率。其中,局部折射率、平均折射率都是較為恒定的。在3 390 nm左右的波長范圍內(nèi),隨著溫度的變化,折射率也會發(fā)生變化。

        2 氟化鈣晶體的生長方法

        在氟化鈣晶體生長過程中,生長工藝對晶體內(nèi)部缺陷的形成具有直接影響。晶體從熔體中生長,有溫度梯度提供驅(qū)動力,同時進而決定了其生長速率。由于晶體中很多都是熱活性缺陷,因此為了得到高質(zhì)量、大尺寸的氟化鈣晶體,應(yīng)考慮到其9.17 W·m-1·K-1低熱導(dǎo)率和18.9×10-6·K-1的高熱膨脹系數(shù)。在后續(xù)的退火工藝中,先在封閉容器中放置晶體,加入少量氟化硼,抽氣到真空狀態(tài),充入反應(yīng)性氣體或高純惰性氣體,將溫度提高到1 100 ~1 200 ℃。在這一過程中,應(yīng)當(dāng)將室溫控制在0.4 K/cm以上,將溫差控制在4 K/cm以內(nèi)。

        2.1 溫度梯度法

        與坩堝下降法相比,溫度梯度法能夠防止不規(guī)則的機械振動源的干擾,從而不會產(chǎn)生固液界面溫度波動,同時避免了熔體的復(fù)雜對流。所以,利用該方法生長的氟化鈣晶體,其單晶率、晶體質(zhì)量等都會更為優(yōu)秀。在晶體生長過程中應(yīng)用程序控溫儀,還能夠提高生長速率的可調(diào)范圍。不過,在晶體生長當(dāng)中,需要完全依靠擴散來運輸結(jié)晶,因此晶體的生長較為緩慢。在溫場和晶體之間,不存在相對移動,因而會對晶體高度造成影響。溫梯爐如圖1所示。為了防止晶體提前成核與組分過冷等現(xiàn)象,坩堝的軸向溫度梯度必須能夠匹配晶體的生長速率。在晶體生長的時候,具有和溫度梯度線相關(guān)的臨界生長速率。如果晶體的生長速率超過這一臨界速率,或是產(chǎn)生了較大的溫度波動,在晶體中就會產(chǎn)生多核結(jié)晶和泡。

        圖1 溫梯爐橫截面

        2.2 平板生長法

        在傳統(tǒng)的坩堝下降法晶體生長方法當(dāng)中,如果坩堝的尺寸較大,晶體生長難以有效散熱,對于大尺寸絕熱晶體材料的生長較為不利。而在平板生長法當(dāng)中,在外表面和平板中心之間,僅有60 mm的距離。而在圓形坩堝當(dāng)中,坩堝外壁與中心之間,通常具有200 mm左右的距離。因此,對于晶體的散熱來說,平板生長法顯然更為合適,不會在晶體生長中產(chǎn)生內(nèi)應(yīng)力。同時,由于坩堝中為曲面的生長界面,具有不均勻的雜質(zhì)分布,會降低晶體質(zhì)量的均勻性,提高晶體內(nèi)應(yīng)力。在平板法的生長界面上,由于是平面結(jié)構(gòu),因而可以解決這一問題。在氟化鈣晶體的生長中采用平板法,能夠?qū)⒊善仿侍嵘?0%以上,效果十分明顯。

        2.3 下降法

        在氟化鈣晶體的生長中,坩堝下降法的應(yīng)用十分廣泛??蓱?yīng)用半封閉或全封閉的坩堝,對于數(shù)量多、尺寸大的晶體生長十分適用。同時,具有較為簡便的操作工藝,并且能夠?qū)崿F(xiàn)良好的自動化和程序化。在建立適當(dāng)?shù)臏貓鲋?,對于晶體的質(zhì)量來說,坩堝的下降速率生長參數(shù)的變化,具有決定性的影響。利用計算機對晶體生長爐的溫度場進行模擬,從而進行優(yōu)化設(shè)計,使原料的純度得到提高。對于傳統(tǒng)的坩堝下降法,可利用可調(diào)穩(wěn)定加熱器進行改變。目前,我國利用該項技術(shù)已經(jīng)能夠生產(chǎn)200 mm直徑的氟化鈣晶體。

        3 紫外級氟化鈣光學(xué)晶體

        3.1 最優(yōu)化生長工藝

        在氟化鈣晶體的生長工藝中,能夠直接進行操作的具體的生長參數(shù),對晶體的性能有著決定性的作用。如圖2所示,氟化鈣晶體的生長環(huán)境,主要是由其生長參數(shù)所決定的,也就是生長過程模型。而在晶體生長過程中,各類缺陷的形成,則主要是由其生長環(huán)境決定的,也就是缺陷模型。按照固體的物理模型來看,晶體的性能,正是由其缺陷集合所決定的。所以,氟化鈣晶體的生長過程中,通常與圖2所示是一致的,基于晶體的生長參數(shù),形成相應(yīng)的生長環(huán)境,在生長結(jié)束之后,對其性能進行表征。

        3.2 氟化鈣晶體純度的提高

        圖2 晶體的生長參數(shù)、生長環(huán)境、缺陷、性能之間的關(guān)聯(lián)

        對于透鏡材料的純度,準(zhǔn)分子激光光刻具有極高的要求。如果存在微量雜質(zhì),將會對氟化鈣晶體的光學(xué)性能造成巨大的影響。因此,應(yīng)當(dāng)從原料、清除劑、生長氣氛等方面對晶體的純度進行提高。原料應(yīng)當(dāng)采用化學(xué)合成的高純度氟化鈣粉末,同時要對其進行除雜、氟化除氧、脫氣等操作。然后應(yīng)當(dāng)加入適量的清除劑,使其完全氟化,同時在生長過程中防止出現(xiàn)水解氧化。此外,還應(yīng)當(dāng)采用高真空、高純Ar氣或反應(yīng)氣體的生長氛圍,從而避免存在水分。

        3.3 合適溫度場的建立

        晶體在熔體中生長,需要溫度梯度來提供結(jié)晶驅(qū)動力。不過,由于熱活性帶來了諸多缺陷,同時溫度梯度又決定了晶體的生長速率,因此在晶體生長過程中,應(yīng)當(dāng)對溫度場進行定量的了解。例如,對晶體爐當(dāng)中的溫場,可以通過多個加熱器來進行準(zhǔn)確控制。同時,應(yīng)當(dāng)使水平面形成等溫面,從而盡量確保生長界面為平面結(jié)構(gòu)。在坩堝的內(nèi)部,應(yīng)當(dāng)進行合理溫度梯度的有效建立,從而在晶體生長過程中,防止產(chǎn)生氣泡和組分過冷的現(xiàn)象。

        3.4 退火處理

        晶體生長完畢,會逐漸冷卻到室溫狀態(tài)。在這一過程中,溫度梯度所產(chǎn)生的熱應(yīng)變,會在晶體中形成殘余應(yīng)力,進而對雙折射率產(chǎn)生影響。氟化鈣的硬度很低,如果將其加熱到接近熔點,通過其塑性流動,能夠釋放熱應(yīng)變。所以,可以利用退火處理,來緩解氟化鈣晶體的殘余應(yīng)力。在實際退火處理過程中,在密閉容器內(nèi)放置晶體,同時加入少量氟化硼,然后進行抽氣,形成高真空環(huán)境。最后將晶體加熱到趨近于熔點,保持一定時間,然后在進行降溫。

        3.5 晶體加工

        氟化鈣晶體具有紫外激光性能,晶體表面質(zhì)量的敏感性,與抗激光損傷閥值、透過率等都有著很大的聯(lián)系。根據(jù)氟化鈣晶體表面粗糙目標(biāo),PV值應(yīng)當(dāng)在5 nm/cm以下、RMS值應(yīng)當(dāng)在1 nm/cm以下。但是,由于氟化鈣晶體具有較高的膨脹系數(shù),同時對研磨劑具有選擇性、對機械性能方向具有依賴性,因而其表面加工難度較大。因而在實際加工當(dāng)中,在拋光、粗磨、切割等方面,都應(yīng)當(dāng)能夠進行有效的控制。

        4 結(jié)論

        氟化鈣晶體是當(dāng)前一種十分重要的晶體材料之一,在很多領(lǐng)域中都有著十分廣泛的應(yīng)用。因此,其生長情況和生長性能有著十分重要的意義。在實際生長過程中,應(yīng)當(dāng)充分認(rèn)識到其物理性質(zhì)、化學(xué)性質(zhì)和光學(xué)性質(zhì),從而采取最為合適的工藝來進行氟化鈣晶體的生長。

        [1] 馮建斌. 大尺寸氟化鈣晶體光學(xué)加工工藝研究[D]. 長春理工大學(xué),2012.

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        [4] 蘇良碧,徐軍,楊衛(wèi)橋,董永軍,周國清. 氟化鈣晶體的生長和應(yīng)用研究[J]. 硅酸鹽學(xué)報,2013,12:1202~1207.

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        (P-01)

        Growth process of calcium fl uoride crystals

        O782

        1009-797X(2015)22-0011-03

        A DOI:10.13520/j.cnki.rpte.2015.22.003

        張志浩(1987-),男,吉林化工學(xué)院助教,碩士,主要從事光電功能材料的方面的研究。

        2015-09-29

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