李國華,楊威,佟明興,鄭翔
(1浙江工業(yè)大學(xué)化學(xué)工程學(xué)院,浙江 杭州 310014;2綠色化學(xué)合成技術(shù)國家重點實驗室培育基地,浙江 杭州 310014)
碳化鎢(WC)是一種具有高硬度、良好導(dǎo)電性、耐高溫、耐酸性的功能材料;在催化作用過程中,碳化鎢具有類鉑催化性能[1-2],還具有較強的抗CO及 H2S中毒能力[3],但其催化活性遠低于鉑等貴金屬催化劑[4-5]。因此,提高碳化鎢的催化活性是其走向?qū)嶋H應(yīng)用的關(guān)鍵。
研究表明,選擇適當?shù)妮d體組成納米復(fù)合材料是提高碳化鎢催化性能的有效技術(shù)手段?;钚蕴縖6]、碳納米管[7-9]、石墨烯[10]、Al2O3[11]、TiO2[12]、SBA-16[13]等均可作為碳化鎢催化劑的載體,并可較好地提高其電催化性能。但以這些材料為載體的復(fù)合材料存在一些不足之處。如Al2O3[11]和TiO2[12]本身易團聚,導(dǎo)致碳化鎢催化劑顆粒較大;SBA-16[13]在高溫還原碳化過程中其結(jié)構(gòu)容易破壞而影響催化劑的性能;納米碳管[7-9]和石墨烯[10]在使用前分別要進行純化和剝離氧化,且在高溫還原碳化過程中其結(jié)構(gòu)也會遭到破壞。因此,尋找新的碳化鎢復(fù)合材料載體是進一步提高其催化性能的關(guān)鍵問題之一。
蒙脫石(MMT)是一種具有2:1型層狀結(jié)構(gòu)的天然硅酸鹽黏土礦物,其具有表面電負性強、比表面積大、吸附性強及陽離子交換性能好等特點[14]。研究表明,將 Pt[15]、Au[16]、Pd[17]、Ru[18]、Fe[19]等金屬及CdS[20]、ZnO[21]等納米粒子負載于蒙脫石層間和表面,可使納米粒子的穩(wěn)定性增強,均勻性更好,尺寸更小,并可明顯提高其催化性能。
本文以剝離后的蒙脫石為載體,采用浸漬法將W6+離子基團負載到蒙脫石表面,再利用原位還原碳化技術(shù)將其還原成碳化鎢,得到了碳化鎢與蒙脫石的納米復(fù)合材料,并考察了其對對硝基苯酚的電催化還原性能。
實驗所用六氯化鎢及結(jié)晶氯化鋰購自阿拉丁試劑(上海)有限公司,堿性鈉基蒙脫石為浙江三鼎有限公司生產(chǎn),對硝基苯酚的生產(chǎn)廠家為華東師范大學(xué)化工廠,制備電極所用Nafion溶液為上海河森電氣有限公司出品的杜邦D520型5% Nafion膜溶液。實驗所用其他試劑均為分析純,去離子水為自制。
實驗所用管式電阻爐為上海實驗電爐廠生產(chǎn)的SK-2-2-10型管式電阻爐;樣品的晶體結(jié)構(gòu)采用荷蘭PANalytical公司生產(chǎn)的X’PertPRO型X射線衍射儀進行分析,實驗采用 CuKα靶(λ=0.154056 nm)管流40 mA,管壓45 kV,步長0.04°,2θ的掃描速度為 2.4(°)·min-1,掃描范圍為 5°~80°;樣品的形貌特征和顯微結(jié)構(gòu)采用配備有X射線能量散射譜儀(EDS)的HitachiS-4700Ⅱ型場發(fā)射掃描電鏡和荷蘭Philips-FEI公司的300 kV高分辨透射電子顯微鏡(Tecnai G2 F30 S-Twin)進行觀察。
1.3.1 蒙脫石的剝離 將一定量干燥后的蒙脫石(MMT)加入70 ml 8 mol·L-1LiCl溶液中,超聲分散后移至100 ml水熱反應(yīng)釜中,在140℃下水熱反應(yīng)24 h,然后用50%的乙醇對樣品進行洗滌,干燥后即得剝離后的蒙脫石(E-MMT)樣品。
1.3.2 WO3/MMT前驅(qū)體的制備 稱取 1.6023 g WCl6溶于50 ml無水乙醇中,稱取1.000 g E-MMT加入上述溶液中,超聲分散10 min后移至30℃恒溫水浴中攪拌24 h,然后將樣品洗滌、干燥、研磨,即得WO3/MMT前驅(qū)體。
1.3.3 WC/MMT納米復(fù)合材料的制備 將一定量的WO3/MMT前驅(qū)體放入石英舟內(nèi),將石英舟放入管式電阻爐中指定位置,在 800℃條件下、CH4/H2氣氛中還原碳化5 h,氮氣保護下自然冷卻后得到碳化鎢與蒙脫石納米復(fù)合材料。
樣品的電催化性能測試采用CHI660e型電化學(xué)工作站(上海辰華儀器公司),測試在298 K下采用循環(huán)伏安法和三電極體系進行。工作電極為玻碳電極,輔助電極為1 cm2的99.99% Pt片,參比電極為飽和甘汞電極(SCE),工作電極與輔助電極之間用多孔陶瓷隔膜隔開。
工作電極的制備:準確稱取 10 mg WC/MMT樣品置于小號樣品管中,用移液槍依次加入 10 μl 5%的Nafion溶液和40 μl異丙醇,超聲分散30 min;用移液槍移取2 μl上述溶液至玻碳電極表面,自然晾干后得到工作電極。
圖1 剝離前后蒙脫石的XRD譜圖Fig.1 XRD patterns of montmorillonite samples
圖2 剝離前后蒙脫石的SEM圖Fig.2 SEM images of montmorillonite samples MMT and E-MMT
2.1.1 剝離前后的蒙脫石 圖1為剝離前后蒙脫石的XRD譜圖。其中,曲線a為剝離前的蒙脫石,曲線b為剝離后的蒙脫石。從圖1可以看出,剝離前后蒙脫石的衍射峰沒有明顯的變化,僅(001)晶面的特征衍射峰強度增大,且其2θ由7.153°向左偏移到5.965°。這說明(001)晶面間距有所擴大。根據(jù) Bragg方程 2dsinθ=nλ(λ=0.154 nm,n=1)計算,蒙脫石(001)的晶面間距d001從1.23 nm增加到 1.50 nm。這是由于氯化鋰中的鋰離子經(jīng)水熱反應(yīng)后插層到蒙脫石的層間,使蒙脫石的片層受到剝離,層狀結(jié)構(gòu)變薄,層間距擴大所致。
剝離前后蒙脫石結(jié)構(gòu)特征如圖2所示。其中,圖2(a)為剝離前的蒙脫石,圖2(b)為剝離后的蒙脫石。對比圖2(a)與圖2(b)可發(fā)現(xiàn),未剝離的蒙脫石為塊狀結(jié)構(gòu),片層結(jié)構(gòu)比較完整;剝離后的蒙脫石的片層分開,可明顯觀察到片層處于剝離狀態(tài),片層厚度約為10 nm。這種片層結(jié)構(gòu)更加有利于鎢離子基團的負載。
2.1.2 WO3/MMT 負載鎢后的WO3/MMT前驅(qū)體的形貌和化學(xué)組成如圖3所示。從圖3可看出,蒙脫石表面不再光滑,而是分布著許多小顆粒。結(jié)合EDX譜圖可知,前驅(qū)體中除了蒙脫石的主要化學(xué)組成O、Si、Al、Fe和Mg外,還有一定量的W元素。這說明W離子基團已經(jīng)負載到了蒙脫石上。
圖3 WO3/MMT的SEM照片及EDX譜圖Fig.3 SEM image and EDX pattern of WO3/MMT
2.1.3 WC/MMT 圖 4為 WC/MMT樣品的 XRD譜圖。從圖4中可看出,樣品主要由WC(PDF:51-0939)、W2C(PDF:35-0776)和MMT組成。
圖4 WC/MMT樣品的XRD譜圖Fig.4 XRD pattern of WC/MMT
WC/MMT樣品的形貌和微結(jié)構(gòu)特征如圖5所示。圖5(a)中,淺色薄片為蒙脫石,其片狀結(jié)構(gòu)明顯,厚度在30 nm以下;黑色顆粒為碳化鎢,均勻地分散于蒙脫石表面。圖5(b)為圖5(a)的局部放大圖,經(jīng)Digital Micrograph軟件測量,黑色顆粒的晶面間距約為0.2455 nm。這與WC(100)的晶面間距0.2517接近。結(jié)合XRD分析結(jié)果,可進一步證實上述黑色顆粒為WC晶粒。
圖5 WC/MMT樣品的TEM圖Fig.5 TEM images of WC/MMT
圖6是WC/MMT樣品分別在0.5 mol·L-1硫酸(H2SO4)(曲線a)和0.1 mol·L-1對硝基苯酚(PNP)及0.5 mol·L-1H2SO4(曲線b)溶液中循環(huán)伏安圖。掃描速度為 100 mV·s-1,掃描方向為-0.8~0~-0.8 V。從圖6曲線a中可看出,在H2SO4溶液中,電位在-0.8~0 V的范圍內(nèi),樣品的循環(huán)伏安曲線沒有出現(xiàn)明顯的氧化還原峰;從圖6曲線b中可看出,在酸性PNP溶液中,當電位為-0.568 V時,樣品的循環(huán)伏安曲線中出現(xiàn)了一個明顯的還原峰,其峰電流密度達到了2.310 mA·cm-2。對比圖6中的曲線a和b說明,在酸性溶液中,樣品對PNP具有明顯的還原作用,且有較好的導(dǎo)電性。
圖6 WC/MMT的循環(huán)伏安曲線Fig.6 Cyclic voltammograms of WC/MMT
圖7 不同掃描速度下WC/MMT樣品的循環(huán)伏安圖Fig.7 Cyclic voltammograms of WC/MMT at different scan rate (0.1 mol·L-1PNP+0.5 mol·L-1H2SO4)
為了進一步研究PNP在WC/MMT上的電化學(xué)行為,測試了WC/MMT樣品在不同掃描速度和不同掃描圈數(shù)情況下對PNP的電催化性能,結(jié)果如圖7所示。從圖中可看出,PNP的電催化還原峰電位及峰電流隨著掃描速度的增加呈現(xiàn)出規(guī)律性的變化。即隨著掃描速度的增加,還原峰的峰電流逐漸增加,還原峰的電位逐漸向負方向移動。這說明PNP在電極上的催化還原過程為一不可逆過程。
為探討還原峰電流與掃描速度的關(guān)系,選取了掃描速度分別為20、50、100和120 mV·s-1的峰電流為研究對象,并以峰電流(Ip)為縱坐標,掃描速度的1/2次方(v1/2)為橫坐標作圖(圖8)。峰電流值對掃描速度的 1/2次方具有良好的線性關(guān)系。其線性方程為
由此可以說明,在20~120 mV·s-1的掃速范圍內(nèi),PNP在WC/MMT電極上的電還原過程是線性擴散,電極過程受擴散控制。
圖8 不同掃速下峰電流的變化曲線Fig.8 Curve of current and scan rates
圖9 WC/MMT樣品不同掃描圈數(shù)的循環(huán)伏安曲線(0.1 mol·L-1PNP-0.5 mol·L-1H2SO4)Fig.9 Cyclic voltammograms of WC/MMT under different scan cycles (0.1 mol·L-1PNP-0.5 mol·L-1H2SO4)
為了研究WC/MMT納米復(fù)合材料的穩(wěn)定性,將電極置于0.1 mol·L-1PNP+0.5 mol·L-1H2SO4溶液中,以100 mV·s-1的掃描速度在電極電勢為-0.7~0 V的范圍內(nèi)連續(xù)掃描50圈,結(jié)果如圖9所示。從圖9中可看出,PNP的電還原過程在第1循環(huán)圈中出現(xiàn)的還原峰電流比其他循環(huán)圈的高出許多;從第2循環(huán)圈開始,還原峰電流明顯下降,與第1循環(huán)圈相比,其還原峰電流密度衰減了17.18%;經(jīng)20圈循環(huán)后,電流基本穩(wěn)定,其電流密度與第1循環(huán)圈相比衰減了 27.97%,為 0.922 mA·cm-2;第50循環(huán)圈的電流密度與第20循環(huán)圈的接近,衰減僅為0.6%。
導(dǎo)致上述現(xiàn)象的原因是多方面的。一方面,蒙脫石具有孔隙結(jié)構(gòu),可明顯增加電極的催化面積,提高了催化反應(yīng)的效率,會使還原峰電流變大;另一方面,由于蒙脫石具有較好的吸附性能。當其置于溶液中達到吸附平衡后,吸附于WC/MMT電極表面的PNP濃度會明顯高于其在溶液中的濃度,即復(fù)合材料電極的吸附性能能夠使 PNP初步富集于電極表面,致使電催化還原過程的反應(yīng)區(qū)間——電極表面的反應(yīng)物濃度增大,導(dǎo)致第1循環(huán)圈的還原峰電流明顯大于其他循環(huán)圈的還原峰電流。隨著循環(huán)的進行,電極表面初步富集的PNP不斷被催化還原,并逐步被消耗。此時,在電極表面被電催化還原的PNP來自兩個方面,一是電極表面因吸附而初步富集的,二是從電解液中經(jīng)擴散至電極表面的。由于電極表面預(yù)先富集的 PNP濃度隨著反應(yīng)的進行而逐步下降,PNP的電催化還原速度逐漸降低,還原峰電流穩(wěn)步變小。這一過程相當于電催化還原的第1循環(huán)圈到第20循環(huán)圈。當電極表面初步富集的PNP基本被還原后,在電極表面被電催化還原的PNP均為從電解液中擴散至電極表面時,PNP被電催化還原的速度與其從電解液中的擴散速度相當,電催化還原反應(yīng)基本穩(wěn)定,還原峰電流沒有明顯變化,且隨著溶液中PNP濃度的降低而變小。這相當于電催化還原的第20循環(huán)圈到第50循環(huán)圈。這充分說明WC/MMT材料對PNP的電還原具有較好的化學(xué)穩(wěn)定性。
(1)以LiCl剝離后的蒙脫石為載體,以WCl6為鎢源,將浸漬法和原位還原技術(shù)相結(jié)合制備了WC/MMT納米復(fù)合材料。復(fù)合材料的物相以碳化鎢和蒙脫石為主,蒙脫石的片層結(jié)構(gòu)保留完好,碳化鎢以納米微晶的形式均勻地分布于蒙脫石外表面。
(2)WC/MMT納米復(fù)合材料對對硝基苯酚具有良好的電催化還原作用,并有很好的化學(xué)穩(wěn)定性。
(3)蒙脫石是碳化鎢催化劑的良好載體,其特殊的片層結(jié)構(gòu)和天然的表面電負性,有助于碳化鎢納米粒子在其表面分散;其良好的吸附性能有助于被催化對象的初步富集;其獨特的孔隙結(jié)構(gòu)不僅可增加電極的表面積,還可增大催化劑與反應(yīng)物的接觸概率,有利于催化反應(yīng)的進行。蒙脫石的這些獨特性質(zhì)不僅可應(yīng)用于碳化鎢基復(fù)合催化劑的制備中,也可應(yīng)用于其他復(fù)合催化材料的制備過程中。
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