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        三種含硫穩(wěn)定劑對化學(xué)鍍鎳的影響

        2015-01-29 02:14:40董艷艷劉定富劉建成
        電鍍與環(huán)保 2015年3期
        關(guān)鍵詞:硫代硫酸鈉質(zhì)量

        董艷艷, 劉定富, 劉建成

        (貴州大學(xué),貴州 貴陽550025)

        0 前言

        化學(xué)鍍鎳液是一個熱力學(xué)不穩(wěn)定體系。鍍液中常有膠粒和固體微粒存在。這些細(xì)小微粒具有巨大的活性表面,導(dǎo)致鎳離子被大量地消耗。當(dāng)微粒很多時,局部反應(yīng)過快,甚至引起鍍液自發(fā)分解。因此,需要向鍍液中加入穩(wěn)定劑。加入穩(wěn)定劑后,它們優(yōu)先與微粒吸附并掩蔽,抑制鎳-磷共沉積反應(yīng)在微粒上發(fā)生,而使其只發(fā)生在具有催化活性的被鍍基體表面,不僅提高了鍍液的穩(wěn)定性,還提高了鍍液中鎳離子的利用率[1-3]。

        Pb2+常被用作化學(xué)鍍鎳的穩(wěn)定劑[4]。但由于Pb2+的質(zhì)量濃度范圍窄且污染環(huán)境,人們又開發(fā)和研究了硫脲及其衍生物類、含氧化合物類等其他類型的穩(wěn)定劑,以取代Pb2+。

        本實(shí)驗(yàn)分析了三種含硫物質(zhì)——硫脲、硫代硫酸鈉和DL-半胱氨酸分別作為穩(wěn)定劑時,對鍍速、鍍層中磷的質(zhì)量分?jǐn)?shù)及穩(wěn)定常數(shù)的影響,并將它們作比較,選出一種較好的穩(wěn)定劑。

        1 實(shí)驗(yàn)

        1.1 實(shí)驗(yàn)材料

        采用尺寸為55mm×50mm×1mm 的45#碳鋼作為鍍件。

        實(shí)驗(yàn)藥品:NiSO4·6H2O,NaH2PO2·H2O,NaAc·3H2O,硝酸(密度為1.40g/cm3),氨水(密度為0.89g/cm3),一水檸檬酸,乳酸(質(zhì)量分?jǐn)?shù)為88%),潤濕劑,硫脲,DL-半胱氨酸,硫代硫酸鈉,添加液A,添加液C。

        1.2 實(shí)驗(yàn)設(shè)備

        DF-101S型集熱式恒溫加熱磁力攪拌器,DK-98-11A 型恒溫水浴鍋,F(xiàn)A-1004 型電子天平,PH100防水型筆式pH 計(jì),722可見光分光光度計(jì)。

        1.3 工藝流程

        1.4 鍍液成分及工藝條件

        鍍液組成:NiSO4·6H2O 25g/L,NaH2PO2·H2O 30g/L,NaAc·3H2O 12g/L,一水檸檬酸16g/L,乳酸10 mL/L,潤濕劑5 mg/L,添加液A 220g/L,添加液C 330g/L,pH值4.80,88℃,2h。每半小時添加A 液、C 液和氨水。其中A 液、C 液每次均添加3.6mL,氨水則根據(jù)鍍液的pH值酌情添加。

        1.5 測試方法

        (1)鍍速

        采用稱重法測定鍍速,公式為:

        式中:v為鍍速,μm/h;m1為試樣施鍍前的質(zhì)量,g;m2為試樣施鍍后的質(zhì)量,g;A為試樣的表面積,cm2;ρ為鍍層的密度,g/cm3;t為施鍍時間,h。

        (2)穩(wěn)定常數(shù)

        穩(wěn)定常數(shù)是沉積到鍍件上的鎳的質(zhì)量與鍍液中消耗的鎳的質(zhì)量的比值[5]。

        (3)鍍層中磷的質(zhì)量分?jǐn)?shù)

        采用磷鉬釩黃分光光度法測定鍍層中磷的質(zhì)量分?jǐn)?shù)[6]。

        2 結(jié)果與討論

        2.1 硫脲的影響

        在0.5~3.0mg/L范圍內(nèi),硫脲對化學(xué)鍍鎳液起穩(wěn)定作用,并在3.0 mg/L 時出現(xiàn)毒化反應(yīng)的現(xiàn)象。硫脲和硫都具有吸附作用,它們可以吸附在鎳膠粒、雜質(zhì)和鍍件表面,阻止局部反應(yīng)過快進(jìn)行,維持鍍液穩(wěn)定。

        圖1為硫脲的質(zhì)量濃度對鍍速和鍍層中磷的質(zhì)量分?jǐn)?shù)的影響。由圖1可知:隨著硫脲的質(zhì)量濃度的增加,鍍速先增大后減小,鍍層中磷的質(zhì)量分?jǐn)?shù)先降低后升高。向鍍液中加入硫脲后,會降低反應(yīng)活化能,加快次磷酸根的氧化,降低進(jìn)行析磷反應(yīng)的次磷酸根的質(zhì)量濃度,從而加快鍍速,降低鍍層中磷的質(zhì)量分?jǐn)?shù)。當(dāng)硫脲的質(zhì)量濃度較高時,硫脲吸附在鍍件表面掩蔽活性位,減少了催化活性位數(shù)目,抑制反應(yīng)的進(jìn)行,以致較多的次磷酸根進(jìn)行析磷反應(yīng),鍍速降低,鍍層中磷的質(zhì)量分?jǐn)?shù)增大[7]。

        圖2為硫脲的質(zhì)量濃度對穩(wěn)定常數(shù)的影響。由圖2可知:隨著硫脲的質(zhì)量濃度的增加,穩(wěn)定常數(shù)逐漸增大。硫脲的加入掩蔽了其他活性點(diǎn),使鎳離子的還原反應(yīng)主要發(fā)生在提供的催化活性位上,提高鍍液中鎳離子的利用率,增加穩(wěn)定常數(shù)。但硫脲的質(zhì)量濃度較高時,會吸附在鍍件表面,減少鍍件上的催化活性位數(shù)目,減弱反應(yīng)的進(jìn)行,使得穩(wěn)定常數(shù)的增加趨勢減緩。

        圖1 硫脲對鍍速和鍍層中磷的質(zhì)量分?jǐn)?shù)的影響

        圖2 硫脲對穩(wěn)定常數(shù)的影響

        2.2 硫代硫酸鈉的影響

        在3~7mg/L范圍內(nèi),硫代硫酸鈉對化學(xué)鍍鎳液起穩(wěn)定作用。向鍍液中加入硫代硫酸鈉時,可能被鍍液中的膠?;蛭⒘N?,但也有可能吸附在鍍件表面。由于膠粒和微粒細(xì)小、數(shù)量多、彌散分布,因此,會優(yōu)先吸附在膠粒和微粒表面,阻止與Ni2+的還原反應(yīng),這樣就起到穩(wěn)定鍍液的作用。硫代硫酸鈉穩(wěn)定鍍液的機(jī)制符合吸附理論[8]。

        圖3為硫代硫酸鈉的質(zhì)量濃度對鍍速和鍍層中磷的質(zhì)量分?jǐn)?shù)的影響。由圖3可知:隨著硫代硫酸鈉的質(zhì)量濃度的增加,鍍速先增大后減小,鍍層中磷的質(zhì)量分?jǐn)?shù)先降低后升高。會吸附在鍍件表面,減少催化活性位,抑制鎳、磷在鍍件表面共沉積,使鍍速降低;同時,進(jìn)行析磷反應(yīng)的次磷酸根增多,使鍍層中磷的質(zhì)量分?jǐn)?shù)增大[9]。

        圖3 硫代硫酸鈉對鍍速和鍍層中磷的質(zhì)量分?jǐn)?shù)的影響

        圖4為硫代硫酸鈉的質(zhì)量濃度對穩(wěn)定常數(shù)的影響。由圖4可知:隨著硫代硫酸鈉的質(zhì)量濃度的增加,穩(wěn)定常數(shù)逐漸增加,鍍液的穩(wěn)定性提高。鍍液中增多,掩蔽其他活性點(diǎn),使鎳離子在鍍件表面進(jìn)行反應(yīng),并得到有效利用,穩(wěn)定常數(shù)增加;直到過多時,影響鍍件表面的催化活性位,使穩(wěn)定常數(shù)的增加趨勢減緩。

        圖4 硫代硫酸鈉對穩(wěn)定常數(shù)的影響

        2.3 DL-半胱氨酸的影響

        在1~5mg/L 范圍內(nèi),DL-半胱氨酸對鍍液起穩(wěn)定作用。根據(jù)硬軟酸堿理論[10],零價的鎳原子被視為軟路易斯酸,對應(yīng)一個仲胺配體,它與DL-半胱氨酸有加強(qiáng)的吸附作用。因此,DL-半胱氨酸可以掩蔽鍍液中鍍件以外的反應(yīng)活化點(diǎn),這些活化點(diǎn)包括基體表面脫落的鐵屑等物質(zhì),以此維持鍍液穩(wěn)定。

        圖5為DL-半胱氨酸的質(zhì)量濃度對鍍速和鍍層中磷的質(zhì)量分?jǐn)?shù)的影響。由圖5可知:隨著DL-半胱氨酸的質(zhì)量濃度的增加,鍍速先增大后減小,鍍層中磷的質(zhì)量分?jǐn)?shù)先降低后升高。DL-半胱氨酸在鍍液中與次磷酸根相互作用,加快次磷酸根的氧化,減弱次磷酸根析磷反應(yīng)的進(jìn)行,使鍍速提高,鍍層中磷的質(zhì)量分?jǐn)?shù)降低;當(dāng)DL-半胱氨酸的質(zhì)量濃度較高時,它會與次磷酸根競爭占據(jù)鍍件表面的催化活性位,抑制次磷酸根的氧化,同時增加進(jìn)行析磷反應(yīng)的次磷酸根的質(zhì)量濃度,因此鍍速降低,鍍層中磷的質(zhì)量分?jǐn)?shù)增大。

        圖5 DL-半胱氨酸對鍍速和鍍層中磷的質(zhì)量分?jǐn)?shù)的影響

        圖6為DL-半胱氨酸的質(zhì)量濃度對穩(wěn)定常數(shù)的影響。由圖6 可知:DL-半胱氨酸的加入使反應(yīng)主要發(fā)生在鍍件表面;過量時,也會減少鍍件表面催化活性位的數(shù)目,影響鎳離子的利用率。

        圖6 DL-半胱氨酸對穩(wěn)定常數(shù)的影響

        3 結(jié)論

        (1)在0.5~3.0mg/L 范圍內(nèi),隨著硫脲的質(zhì)量濃度的增加,鍍速先增大后減?。诲儗又辛椎馁|(zhì)量分?jǐn)?shù)先降低后升高;穩(wěn)定常數(shù)逐漸增加,最大為90%。

        (2)在3~7mg/L 范圍內(nèi),隨著硫代硫酸鈉的質(zhì)量濃度的增加,鍍速先增大后減??;鍍層中磷的質(zhì)量濃度先降低后升高;穩(wěn)定常數(shù)逐漸增加,且均在90%以上。與硫脲相比,鍍液中鎳離子的利用率高。

        (3)在1~5mg/L 范圍內(nèi),隨著DL-半胱氨酸的質(zhì)量濃度的增加,鍍速先增大后減??;鍍層中磷的質(zhì)量分?jǐn)?shù)先降低后升高,與硫代硫酸鈉相比多2%左右;穩(wěn)定常數(shù)逐漸增加。與硫脲相比,鍍液中鎳離子的利用率高。

        (4)獲取的最佳穩(wěn)定劑為DL-半胱氨酸。當(dāng)其質(zhì)量濃度為3 mg/L 時,鍍速為10.67μm/h,穩(wěn)定常數(shù)為95.51%,可獲得磷的質(zhì)量分?jǐn)?shù)為10.00%的非晶態(tài)鍍層。

        [1]李寧,袁國偉,黎德育.化學(xué)鍍鎳基合金理論與技術(shù)[M].哈爾濱:哈爾濱工業(yè)大學(xué)出版社,2000.

        [2]李寧.化學(xué)鍍實(shí)用技術(shù)[M].哈爾濱:哈爾濱工業(yè)大學(xué)出版社,2012.

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