段美華 殷 瑩
(1.天津職業(yè)技術(shù)師范大學(xué)理學(xué)院,中國(guó) 天津300222;2.天津職業(yè)技術(shù)師范大學(xué)機(jī)械工程學(xué)院,中國(guó) 天津300222)
20世紀(jì)二、三十年代,美國(guó)人休哈特博士首先提出過(guò)程控制的概念與實(shí)施過(guò)程監(jiān)控的方法,經(jīng)過(guò)幾十年的發(fā)展,現(xiàn)己形成統(tǒng)計(jì)過(guò)程控制理論,即SPC(Stat_istical Process Control)。它是應(yīng)用統(tǒng)計(jì)方法對(duì)過(guò)程中的各個(gè)階段進(jìn)行監(jiān)控,從而達(dá)到保證與改進(jìn)質(zhì)量的目的。統(tǒng)計(jì)中我們常假設(shè)觀察值為來(lái)自某總體的獨(dú)立同分布樣本,之后考慮總體某些特征的估計(jì),然而,在實(shí)際問(wèn)題中,觀察到的數(shù)據(jù)多與時(shí)間有關(guān)且可能是相關(guān)的。針對(duì)這些相關(guān)數(shù)據(jù)的建模及預(yù)測(cè)我們采用了時(shí)間序列。
1)μ1=c,其中c為一常數(shù)
2)E(X2t)<∞,即二階矩有限
3)γ(t,s)=γ(t-s,0)
在平穩(wěn)時(shí)間序列分析中,常見(jiàn)的三種模型為自回歸AR(p),移動(dòng)平均MA(q)和自回歸移動(dòng)平均序列ARMA(p,q)模型。這里我們只研究AR(p)模型。
特別地,當(dāng)P=1,即對(duì)于AR(1)序列,ψj=φ-1j,γ(h)=φ-1h
另外,對(duì)于AR(P)序列的自協(xié)方差函數(shù),我們還有如下迭代公式:
如在上式中取h=1,2,...,p,則有如下的Yule-Walker方程,其中
對(duì)于AR(p)序列而言,其最主要的特征是其偏相關(guān)函數(shù)具有截尾的特點(diǎn)。其偏相關(guān)的定義為:對(duì)于任一給定的k>0,我們記αk=(αk1,…,αkk),且αk=Γ-k1γk,則稱{αkk,k=0,1,2,…}為AR(p)序列的偏相關(guān)函數(shù),其中α00=1。
可以證明:零均值的平穩(wěn)序列{xi}為AR(p)序列的充要條件是αkk=0,?k>p。由此可見(jiàn),偏相關(guān)函數(shù)截尾性質(zhì)是用來(lái)判斷一組數(shù)據(jù)是否來(lái)自AR模型的有效方法。
某化學(xué)工廠需就其某種化工產(chǎn)品的溫度進(jìn)行測(cè)量,以便決定其是否合格。表1所示的數(shù)據(jù)為該工廠對(duì)該產(chǎn)品每2分鐘進(jìn)行一次溫度測(cè)量的結(jié)果(從左到右,共100次測(cè)量)。
表1 產(chǎn)品溫度測(cè)量記錄表
(1)由于數(shù)據(jù)的相關(guān)性對(duì)檢測(cè)的效果有極大影響,所以對(duì)于這些溫度測(cè)量結(jié)果,首先比較重要的是研究這些數(shù)據(jù)的相關(guān)性。因此,我們根據(jù)表1,通過(guò)minitab計(jì)算樣本自相關(guān)函數(shù)和偏自相關(guān)函數(shù),其中顯著性限制為0.05,結(jié)果如圖1所示。
圖1
自相關(guān)函數(shù)圖a的正弦慢衰減表明了測(cè)量數(shù)據(jù)符合自回歸過(guò)程,而偏自相關(guān)函數(shù)圖顯示自回歸過(guò)程的階數(shù)為1。
(2)基于上面的分析,對(duì)于這些測(cè)量數(shù)據(jù),我們構(gòu)造一階自回歸模型xt=ξ+φxt-1+εt,并就該模型建立一個(gè)基于殘差的單值控制圖,如圖2。
對(duì)圖2結(jié)果進(jìn)行分析可知,第94個(gè)溫度記錄值偏離中心線超過(guò)了3δ值,即第94個(gè)溫度記錄值為失控;第69、70、71這3個(gè)連續(xù)溫度記錄值中,有2溫度值(第69個(gè)和71個(gè))偏離中心線超過(guò)了2δ值。并可以看出,在最初的溫度記錄中,殘差不表現(xiàn)出周期性,且分布在控制限之內(nèi),即化學(xué)過(guò)程可控。
圖2 基于殘差的單值控制圖
(3)就上述模型,我們現(xiàn)在分別構(gòu)造基于殘差的CUSUM和EWMA控制圖,如圖3。其中CUSUM控制圖中k=0.5,h=5;EWMA控制圖中λ=0.1,L=2.7。
圖3
從CUSUM控制圖可以看出,沒(méi)有觀察值超過(guò)控制限,殘差可控,即過(guò)程可控。
這與殘差的單值控制圖所得到的結(jié)論是一致的。從EWMA控制圖也可以看出,沒(méi)有觀察值超過(guò)控制限,殘差可控,過(guò)程可控。這與殘差的單值控制圖和CUSUM控制圖所得到的結(jié)論一致。
從上面對(duì)化工產(chǎn)品溫度測(cè)量數(shù)據(jù)的分析知,為了避免測(cè)量數(shù)據(jù)有相關(guān)性,我們可以通過(guò)時(shí)間序列中的相關(guān)函數(shù)圖選擇更好的模型,以便在以后的檢測(cè)中減少錯(cuò)誤報(bào)警率,提高效率。而且該方法也適用于其他方面的測(cè)量數(shù)據(jù)的研究。
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