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        一種低溫現(xiàn)場(chǎng)紅外光譜電化學(xué)池的制作和表征

        2014-12-05 04:09:46張海峰章學(xué)華金葆康
        關(guān)鍵詞:電解池薄層電化學(xué)

        龔 岳,范 慧,張海峰,章學(xué)華,金葆康*

        (1.安徽大學(xué)化學(xué)化工學(xué)院,安徽合肥 230039;2.安徽萬(wàn)瑞冷電科技有限公司,安徽合肥 230088)

        在現(xiàn)場(chǎng)紅外光譜電化學(xué)技術(shù)中,光譜電化學(xué)池作為電化學(xué)和紅外光譜儀連接端口,其設(shè)計(jì)和制作尤為重要.近年來(lái)各種紅外光譜電化學(xué)池不斷面世,大大拓寬了紅外光譜電化學(xué)的研究范圍.如適合激光光源的紅外光譜電解池[1]、適合氣體研究的紅外光譜電化學(xué)池[2]以及變溫實(shí)驗(yàn)的紅外光譜電化學(xué)池[3-4]等.然而在變溫實(shí)驗(yàn)研究領(lǐng)域,尤其是有關(guān)低溫現(xiàn)場(chǎng)紅外光譜電化學(xué)池的相關(guān)研究和報(bào)道較少.在溫度較低的條件下,反應(yīng)中間體可以更加穩(wěn)定地存在,就可能檢測(cè)到在常溫下無(wú)法檢測(cè)到的中間體信號(hào),這對(duì)于跟蹤電化學(xué)反應(yīng)過(guò)程中物種變化、探究物質(zhì)氧化還原反應(yīng)歷程和反應(yīng)機(jī)制,具有十分重要的意義.作者設(shè)計(jì)了一種控溫精確、操作方便、應(yīng)用范圍較廣的低溫現(xiàn)場(chǎng)紅外光譜電化學(xué)池.電化學(xué)和紅外光譜電化學(xué)實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明,該電化學(xué)池具有較低的阻抗效應(yīng)和邊緣效應(yīng),紅外光譜光通量大,信噪比高,可方便地用于低溫電化學(xué)和光譜電化學(xué)研究.

        1 實(shí)驗(yàn)部分

        1.1 試劑和儀器

        氯化鉀、亞鐵氰化鉀、對(duì)苯醌均為分析純?cè)噭?,乙腈為色譜純?cè)噭?支持電解質(zhì)高氯酸四丁基銨(TBAP)按文獻(xiàn)[5]方法制備和處理,水為去離子水.

        電化學(xué)實(shí)驗(yàn)在CHI-630E電化學(xué)工作站上完成.使用三電極體系,以Au盤電極(直徑4 mm)為工作電極,參比電極、對(duì)電極分別為Ag/AgCl和Pt電極.Au圓盤電極在使用前需用三氧化二鋁在拋光布上進(jìn)行拋光處理.

        實(shí)驗(yàn)使用的紅外光譜儀為 Nicolet Nexus 870,配以反射配件(SMART-iTR)和HgCdTe/A(MCT/A)檢測(cè)器,利用CaF2晶片為紅外光窗.現(xiàn)場(chǎng)光譜電化學(xué)采用快速掃描模式錄譜,波長(zhǎng)分辨率為16 cm-1,于每一波數(shù)下疊加30~40張干涉圖,采樣間隔是0.9~1.8 s.現(xiàn)場(chǎng)紅外光譜圖采用Grans/3D software軟件進(jìn)行數(shù)據(jù)處理.

        1.2 紅外薄層電化學(xué)池的設(shè)計(jì)與結(jié)構(gòu)

        紅外薄層電化學(xué)池如圖1所示.圖2為反射平臺(tái)局部放大光路圖.

        圖1 紅外薄層電化學(xué)池剖視圖Fig.1 Cutaway view of low temperature in-situ infrared reflected absorbance spectroelectrochemical cell

        圖2 反射平臺(tái)光路圖Fig.2 Optical path diagram of reflection platform

        該池整體結(jié)構(gòu)主要由以下部分組成:中空冷卻主裝置(含儲(chǔ)液槽)、換熱器、加熱器、底部反射裝置.其中主裝置上有兩個(gè)低溫氮?dú)膺M(jìn)出管道,供低溫實(shí)驗(yàn)氮?dú)鈸Q熱降溫.頂部的抽空閥門用于保持內(nèi)部真空度.電解池內(nèi)的光窗與電解池腔體之間用低溫膠密封.電解池采用控溫儀可準(zhǔn)確測(cè)量和控制電解池內(nèi)的溫度,實(shí)現(xiàn)室溫至233 K溫度區(qū)間內(nèi)的變溫控制,精度可達(dá)0.1 K.實(shí)驗(yàn)時(shí)電極放置位置如圖1所示.由圖2所示的反射平臺(tái)局部放大光路圖可看出,從紅外光源發(fā)出的紅外信號(hào)經(jīng)過(guò)反射到達(dá)工作電極表面,再返回檢測(cè)器,即可在電化學(xué)實(shí)驗(yàn)的同時(shí)記錄下電極表面的物質(zhì)變化情況.

        1.3 低溫實(shí)驗(yàn)步驟

        實(shí)驗(yàn)前先將電化學(xué)池進(jìn)行抽真空處理.在電化學(xué)池中加入0.5 mL待測(cè)溶液,將電化學(xué)池上的氮?dú)夤苈贰㈦娀瘜W(xué)工作站電極導(dǎo)線依次按順序接好.在控溫儀上設(shè)置實(shí)驗(yàn)所需溫度,將液氮杜瓦增壓至0.05~0.07 MPa,打開氮?dú)膺M(jìn)氣閥,對(duì)電化學(xué)池進(jìn)行降溫,達(dá)到設(shè)定溫度后,操作控溫儀進(jìn)入恒溫模式,即可保持設(shè)定溫度,開展低溫光譜電化學(xué)實(shí)驗(yàn).

        2 結(jié)果與討論

        2.1 電化學(xué)實(shí)驗(yàn)

        圖3是室溫下,1 mmol·L-1亞鐵氰化鉀(K4Fe(CN)6)在0.1 mol·L-1KCl水溶液的電解池中的循環(huán)伏安圖.峰電位、峰電流以及峰-峰電位差(ΔEp)的實(shí)驗(yàn)結(jié)果如表1所示.對(duì)于光譜電化學(xué)(薄層)池來(lái)說(shuō),阻抗效應(yīng)和邊緣效應(yīng)[6-7]是影響其電化學(xué)性能的最重要的兩個(gè)因素.其中阻抗效應(yīng)會(huì)使氧化還原峰變寬,峰-峰電位差增大,導(dǎo)致電化學(xué)表觀可逆性下降;邊緣效應(yīng)則會(huì)使電流經(jīng)過(guò)峰值后無(wú)法回到基線位置[8],從而影響電化學(xué)實(shí)驗(yàn)結(jié)果的正確性.

        圖3 1 mmol·L-1K4Fe(CN)6在 0.1 mol·L-1KCl溶液中的薄層循環(huán)伏安圖Fig.3 Thin layer cyclic voltammograms of 1 mmol·L -1K4Fe(CN)6in 0.1 mol·L -1KCl

        表1 1 mmol·L-1K4Fe(CN)6在 0.1 mol·L-1KCl中的薄層循環(huán)伏安實(shí)驗(yàn)結(jié)果Tab.1 Thin layer cyclic voltammetric results of 1 mmol·L -1K4Fe(CN)6in 0.1 mol·L -1KCl

        由圖3中曲線和表1中的數(shù)據(jù)可知,氧化過(guò)程和還原過(guò)程峰電流大小近似相等,其比值(Ip,a/Ip,c)近似為1,還原峰與氧化峰的對(duì)稱性較好.隨著掃速降低,ΔEp值也隨之降低,峰形也更加對(duì)稱,電流經(jīng)過(guò)峰值后也基本回到了基線位置.實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明,該電化學(xué)池可有效抑制阻抗和邊緣效應(yīng)所造成的不利影響.

        圖4是10 mmol·L-1對(duì)苯醌的0.2 mol·L-1TBAP的乙腈溶液在該電化學(xué)池中不同溫度(室溫為293 K)下的循環(huán)伏安曲線圖.

        圖4 10 mmol·L-1對(duì)苯醌在0.2 mol·L-1TBAP/CH3CN溶液中不同溫度下的循環(huán)伏安圖Fig.4 Cyclic voltammograms of 10 mmol·L-1BQ in 0.2 mol·L-1TBAP/CH3CN at different temperatures

        由圖4可見,對(duì)苯醌的兩對(duì)氧化還原峰對(duì)稱性較好,與文獻(xiàn)[9]報(bào)道相符.同時(shí)隨著環(huán)境溫度的不斷降低,氧化還原峰均有正移的趨勢(shì),峰電流也在逐漸減小.上述結(jié)果表明,該電化學(xué)池不僅能用于水體系,而且也能用于非水體系.

        2.2 常溫現(xiàn)場(chǎng)紅外光譜電化學(xué)實(shí)驗(yàn)

        圖5是室溫下在電化學(xué)池中,1 mmol·L-1的K4Fe(CN)6在-0.1 ~0.5 V循環(huán)伏安過(guò)程中同時(shí)進(jìn)行的現(xiàn)場(chǎng)紅外光譜3D圖.

        圖5 1 mmol·L-1K4Fe(CN)6在 0.1 mol·L-1KCl溶液中的現(xiàn)場(chǎng)紅外光譜 3D 圖,掃速為 10 mV·s-1,T=293 KFig.5 3D spectra of in situ FT-IR spectroelectrochemistry of the 1 mmol·L -1K4Fe(CN)6in 0.1 mol·L -1KCl,scan rate:10 mV·s-1,T=293 K

        從圖5可以清晰地看出2 116、2 037 cm-1處的吸收峰隨時(shí)間的變化趨勢(shì).2 037 cm-1處的峰歸屬為K4Fe(CN)6中三鍵的振動(dòng),表示反應(yīng)物Fe(CN)4-6的消失.在氧化過(guò)程中峰強(qiáng)逐漸減弱,還原過(guò)程中又逐漸增加.2 116 cm-1處的峰歸屬為鐵氰化鉀的三鍵的振動(dòng),表示氧化產(chǎn)物Fe(CN)3-6的生成.這與文獻(xiàn)[10]的研究結(jié)果吻合.現(xiàn)場(chǎng)紅外光譜3D圖顯示,紅外光譜具有很好的信噪比.

        2.3 低溫現(xiàn)場(chǎng)紅外光譜電化學(xué)

        利用低溫電解池,開展對(duì)苯醌的乙腈溶液的低溫現(xiàn)場(chǎng)電化學(xué)紅外研究,紅外3D圖結(jié)果如圖6所示.其對(duì)應(yīng)的循環(huán)伏安圖為圖4中曲線e.

        圖6 10 mmol·L-1對(duì)苯醌的0.2 mol·L-1TBAP/CH3CN溶液中的現(xiàn)場(chǎng)快速掃描紅外光譜3D圖,T=233 KFig.6 3D spectra of in situ FT-IR spectroelectrochemistry of 10 mmol·L-1BQ in 0.2 mol·L-1TBAP/CH3CN ,T=233 K

        由圖6可知,在233 K下,紅外3D圖呈現(xiàn)出5個(gè)峰形良好、譜峰光滑、具有較好信噪比的紅外吸收峰.其中峰形向上表示反應(yīng)過(guò)程中生成的物種的紅外吸收峰;而峰形向下則表示反應(yīng)過(guò)程中消失的物種的紅外吸收峰.1 657 cm-1處的峰歸屬為BQ的醌羰基的伸縮振動(dòng),1 342 cm-1處的峰則是中間體BQ-自由基C—O·-產(chǎn)生的伸縮振動(dòng),1 504 cm-1處的峰則是中間體C—C伸縮振動(dòng);1 475 cm-1為BQ2-苯環(huán)上的骨架伸縮振動(dòng)峰.1 475 cm-1和1 227 cm-1處的峰均為BQ2-的特征峰,可以用來(lái)追蹤終產(chǎn)物BQ2-.在1 657 cm-1處的負(fù)方向的吸收峰歸屬于反應(yīng)物BQ,用于追蹤反應(yīng)物在氧化還原過(guò)程中的變化情況.

        為了針對(duì)不同波數(shù)的紅外吸收峰進(jìn)行更深入的研究,作者對(duì)現(xiàn)場(chǎng)紅外譜圖進(jìn)行了數(shù)據(jù)處理.圖7A是紅外3D圖對(duì)應(yīng)的循環(huán)伏吸圖(CVAs),根據(jù)圖7A中各吸收峰曲線的變化,可用來(lái)分析BQ的電化學(xué)還原過(guò)程中各種反應(yīng)物、中間體和生成物的變化情況[11].1 657 cm-1處的負(fù)方向的吸收峰,用于追蹤反應(yīng)物在氧化還原過(guò)程中的變化情況;1 504 cm-1處的峰用于追蹤中間體在氧化還原過(guò)程中的變化情況;而1 475 cm-1處的峰,可以用來(lái)追蹤終產(chǎn)物BQ2-的變化.圖7B是將代表反應(yīng)中間體、反應(yīng)物、終產(chǎn)物的1 504、1 657、1 227 cm-1的3條循環(huán)伏吸曲線(CVA)進(jìn)行一階求導(dǎo)后所對(duì)應(yīng)的導(dǎo)數(shù)循環(huán)伏吸圖(DCVA),其優(yōu)點(diǎn)是能夠消除非法拉第電流的影響和干擾,使其峰形曲線更加靈敏、干凈.所以DCVA曲線與理想的循環(huán)伏安圖十分接近[12].

        圖7 BQ電化學(xué)反應(yīng)過(guò)程中對(duì)應(yīng)的循環(huán)伏吸圖(A)和導(dǎo)數(shù)循環(huán)伏吸圖(B)Fig.7 CVAs(A)and selected DCVAs(B)for the BQ electrochemical reaction

        從圖7A中可以看出,反應(yīng)物BQ的濃度在25 s時(shí)開始降低,50 s時(shí)完全消失,此時(shí)中間體BQ-·生成,在50 s時(shí)達(dá)到了最大值.隨著掃描繼續(xù)進(jìn)行,BQ-·在55 s時(shí)開始還原,在78 s時(shí)完全消失,終產(chǎn)物BQ2-同時(shí)開始產(chǎn)生,并在165 s時(shí)達(dá)到最大值.這一結(jié)果與文獻(xiàn)[11]報(bào)道基本一致.由圖7B可以觀察到DCVA圖與圖4中的電化學(xué)圖吻合較好,表明該紅外薄層電化學(xué)池可成功用于低溫實(shí)驗(yàn).

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