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        涂膠顯影機的產(chǎn)能設計

        2014-07-04 03:27:42胡延兵
        電子工業(yè)專用設備 2014年8期
        關鍵詞:機臺參數(shù)值涂膠

        胡延兵,尹 寧

        (沈陽芯源微電子設備有限公司,遼寧沈陽110168)

        在現(xiàn)代半導體生產(chǎn)工廠,量產(chǎn)的涂膠顯影機是與光刻機聯(lián)線作業(yè)的,該涂膠顯影機離線生產(chǎn)時的產(chǎn)能要高于光刻機的產(chǎn)能,產(chǎn)能設計是量產(chǎn)涂膠顯影機開發(fā)設計的重要部分。

        涂膠顯影機的產(chǎn)能主要取決于機臺內(nèi)工藝模塊的產(chǎn)能、晶圓傳遞機器人的產(chǎn)能、調(diào)度控制系統(tǒng)的品質(zhì),設計三個時間參數(shù)并配置相關技術參數(shù),可以將機臺內(nèi)工藝模塊的產(chǎn)能設計和晶圓傳遞機器人的產(chǎn)能設計有效結合,滿足量產(chǎn)涂膠顯影機目標產(chǎn)能的設計需求。

        1 時間參數(shù)設計方法

        量產(chǎn)涂膠顯影機需要完成涂膠前增粘處理、涂膠、涂膠后軟烘,曝光后烘烤、顯影、顯影后硬烘等主要工藝處理過程,機臺內(nèi)工藝模塊種類及數(shù)量較多、晶圓傳遞的機器人也較多。通過設計機臺的工藝時間參數(shù)、工藝模塊的工藝處理周期時間參數(shù)、傳遞機器人的工藝傳遞周期時間參數(shù),實現(xiàn)機臺內(nèi)工藝模塊和傳遞機器人在技術層面上的配置合理,從而完成量產(chǎn)涂膠顯影機的產(chǎn)能設計[1]。

        量產(chǎn)涂膠顯影機的產(chǎn)能主要取決于工藝模塊的種類、數(shù)量、產(chǎn)能,機器人的傳遞晶圓速度、傳遞路徑,機臺內(nèi)工藝模塊的結構及布局等三方面,時間參數(shù)是這三方面的關系紐帶,設計時間參數(shù)是量產(chǎn)涂膠顯影機產(chǎn)能設計的核心[2]。

        1.1 時間參數(shù)的定義

        (1)機臺的工藝時間參數(shù)Tp,根據(jù)目標產(chǎn)能確立:

        其中:為目標產(chǎn)能。

        (2)工藝模塊的工藝處理周期時間參數(shù)Tn:

        其中:Tn0為工藝模塊處理時間;

        Tn'為工藝模塊輔助時間;

        n 為工藝模塊數(shù)量。

        (3)傳遞機器人的工藝傳遞周期時間參數(shù)Tr:

        其中:Tr0為兩個工藝處理模塊之間的晶圓傳遞時間;

        n0為傳遞機器人服務的工藝處理模塊種類。

        1.2 時間參數(shù)的配置

        (1)根據(jù)目標產(chǎn)能,確立機臺的工藝時間參數(shù)Tp;

        (2)通過配置工藝處理模塊數(shù)量,使得各個工藝處理模塊的工藝處理周期時間參數(shù)Tn盡量一致,并接近參數(shù)Tp;

        (3)通過配置傳遞機器人速度,使得各個傳遞機器人的工藝傳遞周期時間參數(shù)Tr盡量一致,并接近參數(shù)Tp;

        (4)設計工藝處理周期時間參數(shù)Tn與工藝傳遞周期時間參數(shù)Tr盡量一致,使得工藝處理模塊的模塊產(chǎn)能與工藝傳遞機器人的傳遞產(chǎn)能匹配,Tn和Tr參數(shù)值接近Tp參數(shù)值,可以實現(xiàn)目標機臺產(chǎn)能。

        2 量產(chǎn)涂膠顯影機的產(chǎn)能設計應用

        以開發(fā)設計目標產(chǎn)能150 片/h 的涂膠顯影機為例,該涂膠顯影機與光刻機聯(lián)線量產(chǎn),進行產(chǎn)能設計應用說明。

        2.1 確立機臺的設計輸入?yún)?shù)

        (1)通過設計輸入的目標產(chǎn)能,確立機臺的工藝時間參數(shù):依據(jù)目標產(chǎn)能150 片/h,工藝時間參數(shù)Tp=3600/150=24 s

        (2)通過設計輸入的功能及工藝要求,確定涂膠顯影機的組成:與光刻機聯(lián)線生產(chǎn)的量產(chǎn)涂膠顯影機,其主要功能是將晶圓在本機的片盒中卸載后,在本機內(nèi)進行涂膠工藝處理,之后通過接口部分進入光刻機中曝光,之后再經(jīng)接口部分返回本機進行顯影工藝處理,最后再將晶圓裝載回本機的片盒。

        再結合量產(chǎn)涂膠顯影機的工藝生產(chǎn)特點,確定出涂膠顯影機的主要工藝模塊、輔助工藝處理模塊、晶圓傳遞機器人組成信息。其中,主要工藝處理模塊包括:涂膠前冷卻處理、顯影后冷卻處理、增粘處理、涂膠處理、涂膠后軟烘處理、顯影后硬烘處理、顯影處理、顯影前冷卻處理、軟烘后冷卻處理、曝光后烘烤處理、晶圓邊緣曝光處理;輔助工藝處理模塊包括:晶圓卸載/ 裝載處理、晶圓緩沖存放處理、光刻機入口載臺、光刻機出口載臺;晶圓傳遞機器人包括:片盒機器人、涂膠機器人、顯影機器人、接口機器人。

        2.2 設計工藝模塊的產(chǎn)能

        2.2.1 設計工藝模塊的工藝處理周期時間參數(shù)

        依據(jù)機臺內(nèi)給定的主要模塊工藝處理時間及工藝輔助時間,配置相應工藝處理模塊個數(shù),按照公式(2),取得各個工藝處理模塊的Tn參數(shù)值,盡量保證該參數(shù)值接近Tp參數(shù)值;根據(jù)公式(1),取得各個工藝處理模塊的產(chǎn)能值,如表1 所示。

        2.2.2 確定出涂膠顯影機的基本組成架構

        根據(jù)以上Tn值,確定主要工藝模塊、輔助工藝模塊、晶圓傳遞機器人的配置數(shù)量和安裝位置信息,涂膠顯影機的基本組成架構如圖l 所示。

        表1 各工藝處理模塊的產(chǎn)能計算

        圖l 涂膠顯影機架構示意圖

        2.3 設計傳遞機器人的產(chǎn)能

        2.3.1 設計傳遞機器人的工藝傳遞周期時間參數(shù)

        配置各個晶圓傳遞機器人的速度,即設定機器人在兩個工藝處理模塊之間的晶圓傳遞時間。按照公式(3),取得各個工藝傳遞機器人的Tr參數(shù)值,盡量保證該參數(shù)值接近Tp參數(shù)值;按照公式(1),取得各個晶圓傳遞機器人的產(chǎn)能值,如表2 所示。

        2.3.2 確定出各工藝機器人的基本服務信息

        根據(jù)以上Tr值,確定各個機器人服務的工藝模塊種類及具體工藝模塊名稱,如表3 所示。

        2.4 匹配涂膠顯影機的3 個時間參數(shù):

        在明確了開發(fā)設計的涂膠顯影機的目標產(chǎn)能后,首先確定了機臺的工藝時間參數(shù)Tp為24,再設計工藝處理周期時間參數(shù)Tn和工藝傳遞周期時間參數(shù)Tr,參數(shù)值在23.0-23.6 之間,Tn與Tr基本維持在一個數(shù)量級之內(nèi),這樣使得工藝處理模塊的模塊產(chǎn)能與工藝傳遞機器人的傳遞產(chǎn)能較為接近,Tn和Tr參數(shù)值略小于Tp參數(shù)值,可以實現(xiàn)機臺的目標產(chǎn)能。

        表2 各個傳遞機器人的產(chǎn)能計算

        表3 各個機器人服務的工藝模塊

        3 結 論

        以三個時間參數(shù)為函數(shù)進行量產(chǎn)涂膠顯影機的產(chǎn)能設計,這種設計方法是在給定工藝技術要求,即給定模塊的工藝時間與整機產(chǎn)能要求后,就可以配制出工藝處理模塊的數(shù)量及位置、工藝傳遞晶圓的速度及路線,使得二者與目標產(chǎn)品的產(chǎn)能要求相匹配,它們之間形成了有機的聯(lián)系,縮短了設計開發(fā)時間周期,減少了量產(chǎn)機臺試制過程中的資金浪費,提高了開發(fā)產(chǎn)品的性價比。

        [1] Quirk M,夸克,Serda J,et al. 半導體制造技術[M].北京:電子工業(yè)出版社,2004.

        [2] Sze S M,May G S,軍寧,等.半導體制造工藝基礎[M].武漢:安徽大學出版社,2007.

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