梁培根,孫大剛,李占龍,高 蓬
(太原科技大學(xué)機(jī)械工程學(xué)院,太原 030024)
約束阻尼層具有高效、可靠的減振特點(diǎn),廣泛應(yīng)用于車(chē)輛、潛艇艦船、航空航天等振動(dòng)噪聲控制領(lǐng)域。實(shí)際工程應(yīng)用中,常根據(jù)結(jié)構(gòu)振動(dòng)情況在若干位置敷設(shè)約束阻尼層,即為局部約束阻尼層。然而,阻尼層增大了結(jié)構(gòu)質(zhì)量,不利于輕量化設(shè)計(jì)。為使一定質(zhì)量的約束阻尼層產(chǎn)生最佳的減振效果,需對(duì)其進(jìn)行優(yōu)化。
材料確定后,局部約束阻尼層的減振效果與阻尼塊的敷設(shè)位置、厚度參數(shù)密切相關(guān)[1]。Subramanian等[2]通過(guò)計(jì)算轎車(chē)光板復(fù)合模態(tài)應(yīng)變能分布情況,對(duì)約束阻尼層位置與尺寸進(jìn)行優(yōu)化。敷設(shè)阻尼層后的結(jié)構(gòu)與原結(jié)構(gòu)的應(yīng)變能分布并不相同,以原結(jié)構(gòu)的應(yīng)變能分布來(lái)確定敷設(shè)位置不是最佳。鄭玲、郭中澤、王明旭、Alvelid等[3-6]分別采用優(yōu)化準(zhǔn)則法、漸近結(jié)構(gòu)拓?fù)浞?、變密度法、改進(jìn)梯度法,對(duì)約束阻尼層材料布局進(jìn)行拓?fù)鋬?yōu)化,得到了阻尼材料最優(yōu)分布形狀。Chia等[7]采用細(xì)胞自動(dòng)機(jī)算法,研究了平板約束阻尼層的最佳粘貼位置問(wèn)題。拓?fù)鋬?yōu)化及細(xì)胞自動(dòng)機(jī)算法僅能優(yōu)化阻尼層的敷設(shè)位置,忽略了阻尼層厚度參數(shù)對(duì)其拓?fù)湫螤畹挠绊?,且在?shí)際應(yīng)用中計(jì)算量較大。楊加明等[8]采用改進(jìn)遺傳算法,優(yōu)化了多層黏彈性復(fù)合結(jié)構(gòu)的厚度參數(shù)。遺傳算法全局搜索能力強(qiáng),而收斂速度較慢。
具有多個(gè)阻尼塊的局部約束阻尼層,設(shè)計(jì)變量多,僅優(yōu)化單一變量并不能獲得最佳解。本文綜合考慮敷設(shè)位置與厚度參數(shù)對(duì)局部約束阻尼層減振效果的影響,仿照生物生長(zhǎng)過(guò)程,提出了一種局部約束阻尼層耗散率一致化優(yōu)化方法,實(shí)現(xiàn)了對(duì)約束阻尼層敷設(shè)位置和厚度參數(shù)的綜合優(yōu)化。通過(guò)四邊簡(jiǎn)支板的算例,證明了該方法的可行性和有效性。
約束阻尼層由基層、阻尼層、約束層構(gòu)成。根據(jù)模態(tài)應(yīng)變能理論[9],忽略約束層和基層材料損耗因子,則局部約束阻尼層的第r階模態(tài)損耗因子為:
(1)
i號(hào)阻尼塊的第r階模態(tài)最大損耗因子關(guān)于質(zhì)量的靈敏度可按下式計(jì)算:
(2)
隨著阻尼層及約束層厚度的增大,結(jié)構(gòu)模態(tài)損耗因子增速逐漸減小[10],約束阻尼層的耗散率逐漸減小。因此,阻尼塊的耗散率總體上是其質(zhì)量的單調(diào)遞減函數(shù),且不同阻尼塊在質(zhì)量相同時(shí)的耗散率不同。圖1為不同阻尼塊的耗散率隨其質(zhì)量的變化情況。
圖1 耗散率隨質(zhì)量的變化趨勢(shì)Fig.1 The tendency of dissipation rate with mass
為使整個(gè)約束阻尼層減振效果最好,以附加阻尼結(jié)構(gòu)質(zhì)量為約束條件,將結(jié)構(gòu)表面劃分為n塊區(qū)域,從中選擇最優(yōu)的若干區(qū)域,敷設(shè)多個(gè)厚度參數(shù)為最佳的阻尼塊。當(dāng)附加阻尼結(jié)構(gòu)質(zhì)量較小時(shí),可認(rèn)為,各阻尼塊一起敷設(shè)時(shí)的最佳厚度參數(shù)近似為單個(gè)阻尼塊單獨(dú)敷設(shè)時(shí)的最佳厚度參數(shù)。
通過(guò)優(yōu)化各阻尼塊的敷設(shè)位置及厚度參數(shù),使結(jié)構(gòu)的第r階模態(tài)損耗因子最大化的優(yōu)化數(shù)學(xué)模型可表示為式(3):
(3)
Roux認(rèn)為生物生長(zhǎng)及進(jìn)化的方向是用體積最小、質(zhì)量最輕的結(jié)構(gòu)來(lái)承受最大的外力或完成一定的功能[11]。結(jié)構(gòu)優(yōu)先生長(zhǎng)承受最大載荷的地方,而承受較小載荷的地方得不到生長(zhǎng),最終得到強(qiáng)度均勻的結(jié)構(gòu)。參考結(jié)構(gòu)拓?fù)溥M(jìn)化法[12],采用多次“生長(zhǎng)”的方式設(shè)計(jì)局部約束阻尼層,確保局部最佳參數(shù)趨近于整體最佳參數(shù)。
在原阻尼結(jié)構(gòu)上,以耗散率為準(zhǔn)則評(píng)價(jià)各阻尼塊在生長(zhǎng)時(shí)是“高效的”或“低效的”,優(yōu)先在耗散率最大、獲得最大模態(tài)損耗因子的位置“生長(zhǎng)”,使各個(gè)阻尼塊耗散率一致化,逐步增加約束阻尼層,重復(fù)以上步驟,直至附加阻尼結(jié)構(gòu)質(zhì)量滿足設(shè)計(jì)要求,即是局部約束阻尼層耗散率一致化優(yōu)化方法。
下面用反證法證明局部約束阻尼層耗散率一致化優(yōu)化的可行性。
假設(shè)局部約束阻尼層阻尼塊的總數(shù)為k,且各阻尼塊的耗散率相等。
阻尼塊的附加總質(zhì)量為:
mt=m1+m2+…+mk
(4)
耗散率相等時(shí),阻尼結(jié)構(gòu)整體的模態(tài)損耗因子為:
(5)
將2號(hào)、k號(hào)阻尼塊的質(zhì)量分別減小、增大△m后,各阻尼塊的耗散率不相等。
各阻尼塊的附加總質(zhì)量為:
mt=m1+(m2-△m)+…+(mk+△m)
(6)
耗散率不相等時(shí),阻尼結(jié)構(gòu)整體的模態(tài)損耗因子為:
(7)
由約束阻尼層的耗散率隨質(zhì)量的關(guān)系可知,在(m2-△m,m2)、(mk-△m,mk)生長(zhǎng)階段,2號(hào)阻尼塊的耗散率大于k號(hào)阻尼塊的耗散率。
可見(jiàn),局部約束阻尼層各阻尼塊耗散率不相等時(shí)的結(jié)構(gòu)模態(tài)損耗因子較小。因此,本文所提耗散率一致化設(shè)計(jì)在理論上是可行的,可使局部約束阻尼層具有最佳的減振效果。
局部約束阻尼層耗散率一致化優(yōu)化方法的流程圖見(jiàn)圖2,具體步驟如下:
圖2 局部約束阻尼層耗散率一致化優(yōu)化流程Fig.2 The optimization flow chart of partial CLDdissipation rate unification
(1)建立局部約束阻尼層結(jié)構(gòu)的有限元模型;
(2)設(shè)定附加阻尼結(jié)構(gòu)質(zhì)量、生長(zhǎng)階段數(shù)、各個(gè)生長(zhǎng)階段生長(zhǎng)步長(zhǎng);
(3)按式(2),采用模態(tài)應(yīng)變能法及全局差分法,分析指定生長(zhǎng)階段內(nèi)各個(gè)阻尼塊單獨(dú)敷設(shè)時(shí)耗散率對(duì)質(zhì)量的靈敏度,同時(shí)得各個(gè)阻尼塊的最佳厚度參數(shù)及其質(zhì)量的關(guān)系;
(4)采用多項(xiàng)式函數(shù)擬合步驟(3)所得數(shù)據(jù)點(diǎn),得質(zhì)量、耗散率、最佳厚度參數(shù)之間的函數(shù)關(guān)系;
(5)定義初始的一致化耗散率,根據(jù)步驟(4)中耗散率與質(zhì)量的關(guān)系,通過(guò)逐漸減小或增大一致化耗散率,得到滿足單個(gè)生長(zhǎng)步長(zhǎng)的質(zhì)量要求、各阻尼塊一致化的耗散率;
(6)如果某阻尼塊的耗散率小于一致化的耗散率,則說(shuō)明此阻尼塊是“低效”的,不應(yīng)在該位置敷設(shè)阻尼塊,從而實(shí)現(xiàn)對(duì)局部約束阻尼層敷設(shè)位置的優(yōu)化;
(7)根據(jù)步驟(4)的函數(shù)關(guān)系,得所選敷設(shè)位置上各阻尼塊的質(zhì)量及最佳厚度參數(shù),實(shí)現(xiàn)對(duì)各個(gè)阻尼塊厚度參數(shù)的優(yōu)化;
(8)按設(shè)計(jì)結(jié)果敷設(shè)約束阻尼層,計(jì)算結(jié)構(gòu)損耗因子;
(9)判斷是否滿足附加阻尼結(jié)構(gòu)質(zhì)量約束條件。如果不滿足約束條件,重復(fù)步驟(3)~(8)繼續(xù)“生長(zhǎng)”;如果滿足約束條件,則結(jié)束。
板結(jié)構(gòu)是阻尼減振應(yīng)用對(duì)象的基本結(jié)構(gòu)形式。通過(guò)研究約束阻尼板的振動(dòng)特性,可為具體設(shè)備的減振工程提供參考。本文以基層四邊簡(jiǎn)支的阻尼板為研究對(duì)象。
板長(zhǎng)360 mm,寬270 mm,厚1 mm.基層和約束層的材料均為鋁材,彈性模量68.9 GPa,泊松比0.33,密度2740 kg/m3,忽略損耗因子;阻尼材料為橡膠,彈性模量44 MPa,泊松比0.495,密度999 kg/m3,損耗因子0.88.
按6×6將板均勻分隔為36塊,采用Solid185單元并打開(kāi)增強(qiáng)應(yīng)變及混合模式以模擬橡膠材料,采用多點(diǎn)約束模擬層間接觸[13]。為確保約束阻尼層的工藝性,阻尼層和約束層最小厚度分別定為0.2 mm、0.1 mm.局部約束阻尼板模型見(jiàn)圖3.
以四分之一模型上的阻尼塊為設(shè)計(jì)對(duì)象,其他位置按對(duì)稱性設(shè)計(jì)。以約束阻尼板的第一階模態(tài)為被控模態(tài)。各個(gè)生長(zhǎng)階段步長(zhǎng)均為0.01 kg.采用局部約束阻尼層耗散率一致化優(yōu)化方法,得到不同附加阻尼質(zhì)量的局部約束阻尼層的敷設(shè)位置及各個(gè)阻尼塊的質(zhì)量如表1所示。局部約束阻尼層的減振效果見(jiàn)圖4.
圖3 局部約束阻尼板模型Fig.3 Model of partial constrained damping plate
表1 不同質(zhì)量時(shí)的耗散率一致化優(yōu)化結(jié)果Tab.1 Results of dissipation rate unification optimizationof CLDs with different weights
由表1可見(jiàn),局部約束阻尼層附加阻尼質(zhì)量不同時(shí),阻尼塊的敷設(shè)位置及其質(zhì)量不同。具體分析如下:
(1)隨著局部約束阻尼層附加阻尼質(zhì)量的增大,結(jié)構(gòu)的模態(tài)損耗因子從質(zhì)量為0.003 kg時(shí)的0.050,逐漸增大,質(zhì)量為0.06 kg時(shí)為0.458,而增速如圖3所示,呈逐漸放緩趨勢(shì),同文獻(xiàn)[10]一致;一致化的耗散率從質(zhì)量為0.003 kg時(shí)的19.51,逐漸降低,質(zhì)量為0.06 kg時(shí)僅為3.96.可見(jiàn),附加阻尼質(zhì)量越大,單位質(zhì)量阻尼層的減振效果越差,材料利用率相對(duì)較低。因此,在滿足減振要求的前提下,應(yīng)避免在結(jié)構(gòu)上敷設(shè)過(guò)多的約束阻尼層。
(2)隨著附加阻尼質(zhì)量從0.003 kg增大至0.06 kg,局部約束阻尼層的最佳敷設(shè)位置從質(zhì)量為0.003 kg時(shí)的9號(hào)位,逐漸擴(kuò)展至質(zhì)量為0.06 kg時(shí)的1、2、4、5、6、8及9號(hào)位, 而且可以預(yù)測(cè)如果附加阻尼質(zhì)量繼續(xù)增大,所有位置均為最佳位置。基層第一階模態(tài)應(yīng)變能密度如圖5所示。1、9號(hào)位的應(yīng)變能密度較高,而3、7號(hào)位的應(yīng)變能密度較低??梢?jiàn),隨著附加阻尼質(zhì)量的增大,局部約束阻尼層的敷設(shè)位置從應(yīng)變能密度較高區(qū)域向較低區(qū)域擴(kuò)展,敷設(shè)面積隨之增大。
圖4 不同優(yōu)化方法的效果Fig.4 The effects of different optimization methods
(3)單個(gè)阻尼塊的質(zhì)量基本上是隨著附加阻尼質(zhì)量的增大而增大的,而且應(yīng)變能密度越大,阻尼塊質(zhì)量也越大,但二者并不是成正比例關(guān)系,原因是附加阻尼改變了基層模態(tài)應(yīng)變能密度分布。
圖5 應(yīng)變能密度分布情況Fig.5 The reflection of strain energy density
作為對(duì)比,采用同樣的約束阻尼板有限元模型,對(duì)全覆蓋約束阻尼層的厚度參數(shù)進(jìn)行優(yōu)化,得全覆蓋約束阻尼層的最佳厚度參數(shù),其減振效果見(jiàn)圖4.
由圖4可見(jiàn),相比全覆蓋優(yōu)化,耗散率一致化優(yōu)化的局部約束阻尼層的模態(tài)損耗因子在不同質(zhì)量下均得到了不同程度的提高,具有更好的減振效果。質(zhì)量為0.003 kg、0.01 kg時(shí),無(wú)法實(shí)現(xiàn)約束阻尼層全覆蓋敷設(shè)。質(zhì)量為0.02 kg時(shí),耗散率一致化阻尼層的模態(tài)損耗因子提高了78.5%;而質(zhì)量為0.06 kg時(shí),模態(tài)損耗因子提高了22.0%.可見(jiàn),約束阻尼層的質(zhì)量越小,耗散率一致化優(yōu)化效果更好。原因是質(zhì)量較大時(shí),約束阻尼層全覆蓋優(yōu)化與耗散率一致化優(yōu)化的敷設(shè)位置大體相同,而且阻尼塊自身耗散率較低,對(duì)厚度參數(shù)不敏感。因此,耗散率一致化優(yōu)化可實(shí)現(xiàn)敷設(shè)位置和厚度參數(shù)的優(yōu)化,且非常適用于質(zhì)量較小的阻尼層設(shè)計(jì)。
為討論不同生長(zhǎng)方式對(duì)約束阻尼板模態(tài)損耗因子的影響,設(shè)計(jì)質(zhì)量為0.06 kg時(shí),采用相同的生長(zhǎng)步長(zhǎng),得不同生長(zhǎng)段數(shù)時(shí),約束阻尼板模態(tài)損耗因子如圖6所示;設(shè)計(jì)質(zhì)量為0.06 kg時(shí),生長(zhǎng)段數(shù)為2,單個(gè)生長(zhǎng)步長(zhǎng)不同時(shí)的約束阻尼層模態(tài)損耗因子如圖7所示。
圖6 生長(zhǎng)段數(shù)對(duì)模態(tài)損耗因子的影響Fig.6 The effect of different growth times onmodal loss factor
由圖6可見(jiàn),約束阻尼板模態(tài)損耗因子隨著生長(zhǎng)段數(shù)的增多而增大,而增速逐漸降低。原因是,設(shè)計(jì)質(zhì)量一定時(shí),生長(zhǎng)段數(shù)越多,步長(zhǎng)越小,增加的約束阻尼層對(duì)基層的動(dòng)力學(xué)影響小,單個(gè)約束阻尼塊的最佳設(shè)計(jì)趨近于整體敷設(shè)時(shí)的最佳設(shè)計(jì),優(yōu)化效果越好。生長(zhǎng)段數(shù)已較大時(shí),單步增加的質(zhì)量極小,不同生長(zhǎng)段數(shù)的設(shè)計(jì)結(jié)果基本無(wú)差異,增加生長(zhǎng)段數(shù)已沒(méi)有意義。因此,在滿足計(jì)算精度下,應(yīng)取較小的生長(zhǎng)步長(zhǎng),但不應(yīng)過(guò)分追求小步長(zhǎng)。
由圖7可見(jiàn),隨著第1步步長(zhǎng)的增大,約束阻尼板模態(tài)損耗因子先增大,后減小存在最佳值。原因是,整個(gè)約束阻尼層各阻尼塊的耗散率由最后一步的生長(zhǎng)過(guò)程決定。最后一步的生長(zhǎng)步長(zhǎng)越小,單個(gè)約束阻尼塊的最佳設(shè)計(jì)越趨近于整體敷設(shè)時(shí)的最佳設(shè)計(jì)。第1步生長(zhǎng)步長(zhǎng)為0.05 kg時(shí),第一步步長(zhǎng)過(guò)大,各阻尼塊的耗散率已經(jīng)較為分散;最后一步進(jìn)化步長(zhǎng)雖小,但仍不能使耗散率一致,約束阻尼板模態(tài)損耗因子并不是最大。因此,應(yīng)用時(shí),應(yīng)將取若干不同的生長(zhǎng)步長(zhǎng),先按較大步長(zhǎng)開(kāi)始生長(zhǎng),后按較小步長(zhǎng)生長(zhǎng)。
圖7 生長(zhǎng)步長(zhǎng)對(duì)模態(tài)損耗因子的影響Fig.7 The effect of different growth step sizes onmodal loss factor
(1)局部約束阻尼層耗散率一致化優(yōu)化方法是可行的,可同時(shí)對(duì)敷設(shè)位置和厚度參數(shù)進(jìn)行優(yōu)化,能顯著提高約束阻尼層的減振效果,可用于減振工程中局部約束阻尼層的設(shè)計(jì)及其優(yōu)化。
(2)局部約束阻尼層的質(zhì)量約束條件不同,其敷設(shè)位置及各阻尼塊質(zhì)量不同,且質(zhì)量越大,敷設(shè)面積越大,敷設(shè)位置從應(yīng)變能密度最大處逐漸擴(kuò)展至應(yīng)變能密度較小的區(qū)域。同時(shí),應(yīng)變能密度越大,阻尼塊質(zhì)量相應(yīng)越大。
(3)適當(dāng)?shù)纳L(zhǎng)段數(shù)及合理的生長(zhǎng)順序既能保證優(yōu)化結(jié)果的準(zhǔn)確性,又能減少計(jì)算量,可采用先大步長(zhǎng)、后小步長(zhǎng)的兩段式生長(zhǎng)方式。
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