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        超高場(chǎng)強(qiáng)核磁共振中腦深部電刺激電極周圍分子生物學(xué)變化的活體研究

        2014-03-28 05:18:20楊岸超劉煥光張建國(guó)
        醫(yī)學(xué)綜述 2014年19期
        關(guān)鍵詞:磁場(chǎng)設(shè)備實(shí)驗(yàn)

        楊岸超,石 林,,王 秀,劉煥光,張 鑫,張建國(guó)※

        (1.首都醫(yī)科大學(xué)附屬北京天壇醫(yī)院神經(jīng)外科,北京 100050; 2.北京市神經(jīng)外科研究所功能神經(jīng)外科研究室,北京 100050)

        隨著功能神經(jīng)外科在我國(guó)的快速發(fā)展,越來(lái)越多的患者接受了腦深部電刺激(deep brain stimulation,DBS)治療[1]。當(dāng)前DBS技術(shù)存在的一個(gè)重要問(wèn)題就是其在磁共振成像(magnetic resonance imaging,MRI)磁場(chǎng)中的安全性[2-3]。DBS電極在MRI射頻磁場(chǎng)中會(huì)接收射頻能量并產(chǎn)熱,進(jìn)而引起周圍腦組織熱損傷,這是植入DBS裝置的患者進(jìn)行MRI掃描的主要風(fēng)險(xiǎn)[4-5]。本研究通過(guò)對(duì)超高場(chǎng)強(qiáng)MRI(7.0T)掃描后DBS電極周圍腦組織進(jìn)行蛋白印跡雜交檢測(cè)(western-blot)及實(shí)時(shí)定量聚合酶鏈反應(yīng)(quantitative polymerase chain reaction,QPCR)檢測(cè),測(cè)定了熱損傷標(biāo)記分子熱激蛋白70(heat shock protein-70,HSP-70)的相對(duì)含量,進(jìn)而評(píng)估了超高場(chǎng)強(qiáng)MRI下DBS電極對(duì)周圍組織熱損傷的情況,探討了DBS設(shè)備與MRI的兼容性問(wèn)題。

        1 資料與方法

        1.1一般資料 所有實(shí)驗(yàn)符合北京實(shí)驗(yàn)動(dòng)物管理中心關(guān)于實(shí)驗(yàn)動(dòng)物使用及保護(hù)的規(guī)定(審批號(hào):SYXK 2010-0141)。體質(zhì)量2.5~4.0 kg的雄性新西蘭白兔24只(軍事醫(yī)學(xué)科學(xué)研究實(shí)驗(yàn)動(dòng)物中心提供),隨機(jī)分為電極植入組和穿刺對(duì)照組,每組各12只。

        1.2DBS植入 電極植入組動(dòng)物在烏拉坦(1 mg/kg)麻醉下行DBS植入(DBS設(shè)備由清華品馳公司提供,型號(hào)G101),電極尖端置于左側(cè)丘腦腹后核(MRI掃描確認(rèn)電極位置,位置偏差明顯者再次手術(shù)調(diào)整電極位置,圖1),DBS電極帽固定,頭部皮下留適量導(dǎo)線,刺激器置于左側(cè)肋弓下旁正中,多余導(dǎo)線“之”字形固定于刺激器表面(防止多余導(dǎo)線進(jìn)入MRI線圈)。穿刺對(duì)照組僅行DBS電極同位點(diǎn)穿刺,保留10 min后拔出。常規(guī)縫合傷口。

        1.3MRI掃描 所有動(dòng)物行7.0T MRI掃描,序列為自旋回波(spin echo,SE)序列、梯度回波(gradient recalled echo,GRE)序列及反轉(zhuǎn)恢復(fù)(fluid attenuation inverse recovery,FlAIR)序列,重復(fù)掃描3次,保證掃描時(shí)間超過(guò)25 min,掃描特異吸收率(specific absorption rate,SAR)在0.28~2.80 W/kg。

        1.4分子生物學(xué)檢測(cè) MRI掃描24 h后注射過(guò)量麻醉劑處死動(dòng)物并取腦,行針道周圍組織western-blot及QPCR檢測(cè),測(cè)定針道周圍組織內(nèi)HSP-70的變化,比較電極植入組及穿刺對(duì)照組HSP-70變化差異。具體方法同文獻(xiàn)[6]。

        左圖為冠狀位圖像,右圖為矢狀位圖像,白色箭頭示穿刺針道,黑色箭頭示電極

        2 結(jié) 果

        2.1HSP-70的western-blot檢測(cè)結(jié)果 電極植入組穿刺道周圍組織中HSP-70相對(duì)水平為0.167~0.170(0.168±0.001),穿刺對(duì)照組為0.172~0.175(0.173±0.006)電極植入組與穿刺對(duì)照組HSP-70水平的差異無(wú)統(tǒng)計(jì)學(xué)意義(t=0.751,P>0.05)(圖2)。

        (A),蛋白電泳條帶灰度圖示HSP-70及參考蛋白β-actin的灰度條帶。(B),HSP-70相對(duì)含量的柱狀圖,G1與G2差異無(wú)統(tǒng)計(jì)學(xué)意義(P>0.05)。G1:電極植入組,G2:穿刺對(duì)照組。HSP-70:熱休克蛋白-70;β-actin:參考蛋白

        2.2HSP-70 mRNA的QPCR檢測(cè)結(jié)果 QPCR結(jié)果顯示電極植入組穿刺道周圍組織中HSP-70的mRNA相對(duì)含量為0.777~0.820(0.793±0.019),穿刺對(duì)照組為0.760~0.798(0.777±0.024)。結(jié)果顯示,電極植入組與穿刺對(duì)照組HSP-70 mRNA水平無(wú)統(tǒng)計(jì)學(xué)差異(t=0.332,P>0.05)(圖3)。

        3 討 論

        HSP-70是細(xì)胞中可被熱損傷誘導(dǎo)的敏感分子,在多個(gè)研究中HSP-70被視作熱損傷標(biāo)志物以評(píng)估熱損傷程度[7-8]。本研究通過(guò)western-blot和QPCR方法對(duì)熱損傷敏感分子HSP-70及其mRNA進(jìn)行了檢測(cè),結(jié)果提示DBS電極周圍HSP-70水平與單純穿刺機(jī)械損傷組的HSP-70水平相比,差異并無(wú)統(tǒng)計(jì)學(xué)意義。由此可以推論,本實(shí)驗(yàn)中7.0T MRI掃描的射頻磁場(chǎng)并未引起DBS電極周圍出現(xiàn)明顯的熱損傷改變。本實(shí)驗(yàn)的結(jié)果與很多其他檢測(cè)超高場(chǎng)強(qiáng)MRI掃描后DBS設(shè)備或?qū)w溫度變化的實(shí)驗(yàn)研究相符[9]。

        本實(shí)驗(yàn)結(jié)果是否說(shuō)明DBS設(shè)備在磁場(chǎng)中未產(chǎn)熱并且是安全的呢?首先,很多研究業(yè)已證明在射頻磁場(chǎng)中DBS電極會(huì)吸收射頻能量而出現(xiàn)溫度升高[3,10-13],但溫度升高范圍與很多因素有關(guān),如射頻線圈的種類、射頻磁場(chǎng)強(qiáng)度及SAR值、掃描時(shí)間、導(dǎo)體在磁場(chǎng)中的位置、導(dǎo)體的電物理學(xué)屬性等[2,14],因此不同實(shí)驗(yàn)條件下DBS電極或?qū)w溫度變化也有很大差異,但通過(guò)適當(dāng)控制重要的參數(shù),如掃描序列、導(dǎo)體在磁場(chǎng)中的位置、使用低SAR掃描等,DBS設(shè)備及導(dǎo)體的溫度變化并不明顯。Carmichael等[15]的研究發(fā)現(xiàn)1.5T和3.0T磁場(chǎng)引起DBS電極的溫度變化均很小(0.1~0.5 ℃),Ideta等[16]報(bào)道1.5T及3.0T MRI掃描引起鈦合金假體溫度升高0.4 ℃,Shrivastava等[9]報(bào)道了9.4T MRI射頻磁場(chǎng)中DBS設(shè)備出現(xiàn)0~5 ℃的溫度變化。本實(shí)驗(yàn)采用的很多參數(shù)參照了上述研究,如使用常規(guī)SE、GRE及FLAIR掃描序列、使DBS設(shè)備位于射頻線圈外、使用國(guó)際要求的頭部線圈等,因此很有可能本實(shí)驗(yàn)DBS設(shè)備的發(fā)熱量與上述研究相類似。其次,HSP-70分子作為熱損傷敏感蛋白,被用于檢測(cè)熱損傷。有實(shí)驗(yàn)證明采用的誘導(dǎo)型HSP-70在細(xì)胞溫度超過(guò)39 ℃時(shí)才開(kāi)始被合成,正常細(xì)胞中HSP-70水平極低[7]。本實(shí)驗(yàn)顯示電極植入組與穿刺對(duì)照組HSP-70水平差異無(wú)統(tǒng)計(jì)學(xué)意義,很有可能是DBS電極周圍組織的溫度并未超過(guò)39 ℃。

        G1與G2差異無(wú)統(tǒng)計(jì)學(xué)意義(P>0.05)。G1:電極植入組,G2:穿刺對(duì)照組

        本實(shí)驗(yàn)中未使用MRI溫度測(cè)量設(shè)備對(duì)DBS電極溫度的實(shí)時(shí)變化情況進(jìn)行監(jiān)測(cè),因此未來(lái)還需要進(jìn)行進(jìn)一步研究,并采用更多的參數(shù)組合對(duì)MRI引起的DBS電極產(chǎn)熱問(wèn)題進(jìn)行研究,以輔助制定植入DBS設(shè)備的患者進(jìn)行超高場(chǎng)強(qiáng)MRI掃描的規(guī)范。

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