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        紅外焦平面探測(cè)器快速啟動(dòng)影響因素分析

        2014-03-20 08:50:38劉澤巍趙建忠
        激光與紅外 2014年9期
        關(guān)鍵詞:氬氣降溫探測(cè)器

        劉澤巍,張 鋼,趙建忠

        (華北光電技術(shù)研究所,北京100015)

        1 引言

        紅外制導(dǎo)導(dǎo)彈具有制導(dǎo)精度高、抗干擾能力強(qiáng)、隱蔽性好、性價(jià)比高、結(jié)構(gòu)緊湊、機(jī)動(dòng)靈活等優(yōu)點(diǎn),軍事上應(yīng)用廣泛。紅外探測(cè)器作為制導(dǎo)的核心元件,規(guī)格目前以線列和面陣型為主,其中探測(cè)器芯片由光敏芯片和讀出電路互連構(gòu)成,單元器件正逐漸淡出。

        低空近程紅外制導(dǎo)導(dǎo)彈系統(tǒng)主要用于隨行防空和陣地防空,能夠有效打擊低空、超低空來襲的目標(biāo)。由于從發(fā)現(xiàn)來襲目標(biāo)到實(shí)施打擊,導(dǎo)彈僅有很短的反應(yīng)時(shí)間,這就要求紅外探測(cè)器具有快速啟動(dòng)的能力,本文就影響紅外焦平面探測(cè)器快速啟動(dòng)的因素進(jìn)行初步的探討。

        2 紅外焦平面探測(cè)器的啟動(dòng)時(shí)間

        彈用紅外焦平面探測(cè)器通常采用制冷型,由探測(cè)器芯片(含讀出電路)、杜瓦、制冷器、內(nèi)置光學(xué)件(濾光片、場(chǎng)鏡和冷屏等)構(gòu)成[1]。光敏芯片與讀出電路互連后封裝在杜瓦中,由制冷器將混成芯片冷卻到溫。內(nèi)置光學(xué)件保證了光敏芯片能夠接收盡可能大的有效紅外輻射,達(dá)到最大探測(cè)率,發(fā)揮探測(cè)器的最佳性能,如圖1所示。圖2是SCD公司一款快速啟動(dòng)紅外探測(cè)器產(chǎn)品。

        圖1 紅外探測(cè)器結(jié)構(gòu)示意圖

        圖2 SCD公司快啟動(dòng)紅外探測(cè)器

        光敏芯片感應(yīng)的紅外輻射需經(jīng)讀出電路轉(zhuǎn)換為電信號(hào)輸出到后端處理電路。讀出電路信號(hào)傳輸通路大體可分為三個(gè)部分:像素單元、列級(jí)和輸出級(jí)。探測(cè)器接收紅外輻射產(chǎn)生光生電流,一定的積分時(shí)間內(nèi),該電流在像素單元內(nèi)積分成電荷或電壓存儲(chǔ)在積分電容Cint內(nèi),然后轉(zhuǎn)移到列級(jí),經(jīng)輸出級(jí)串行輸出,圖3是像素單元采用直接注入型的讀出電路的簡(jiǎn)單示意圖[2]。

        圖3 直接注入型讀出電路基本結(jié)構(gòu)

        每次積分存儲(chǔ)的電荷Qs可以表示為:

        其中,Is是積分電流;t是積分時(shí)間;Cint是積分電容值;V是積分電壓。由于積分電容要與探測(cè)器應(yīng)用匹配,且像素單元內(nèi)面積有限,往往電容值不能設(shè)計(jì)很大。V最大不能超過讀出電路電源,因而積分電荷存在一個(gè)最大值。把積分電容理解為一個(gè)勢(shì)阱的話,當(dāng)光生電流積分的電荷超過這個(gè)最大值時(shí),積分電容就會(huì)飽和。飽和狀態(tài)下,探測(cè)器無法探測(cè)輻射大小。

        制冷型探測(cè)器常溫時(shí)相當(dāng)于導(dǎo)體,積分電流很大,積分電容容易飽和。由常溫制冷到低溫工作條件的過程,多種輻射效應(yīng)疊加。隨著降溫過程,這些輻射效應(yīng)作用逐漸減弱,積分電流逐漸減小趨近探測(cè)目標(biāo)產(chǎn)生的光電流。探測(cè)器輸出由飽和向正常工作狀態(tài)轉(zhuǎn)變,達(dá)到可探測(cè)條件需要一定時(shí)間,這個(gè)時(shí)間即探測(cè)器的啟動(dòng)時(shí)間。啟動(dòng)時(shí)間是考核應(yīng)用于近程導(dǎo)彈探測(cè)器的一項(xiàng)重要指標(biāo),它基本決定了近程導(dǎo)彈的反應(yīng)時(shí)間。

        3 影響紅外焦平面探測(cè)器快速啟動(dòng)的關(guān)鍵因素

        光伏探測(cè)器光敏元接收輻射后產(chǎn)生電流,該電流可以表示為:

        其中,η為光電流轉(zhuǎn)換效率;s為輻射強(qiáng)度;q為電子電荷數(shù);A為光敏面面積。

        探測(cè)器除了接收來自探測(cè)目標(biāo)的輻射之外,同時(shí)也接收背景輻射,這些輻射也對(duì)光生電流有貢獻(xiàn)。根據(jù)系統(tǒng)探測(cè)對(duì)視場(chǎng)的要求,在探測(cè)器內(nèi)部通常設(shè)置有光闌,用于限制雜散光的干擾和降低背景噪聲。冷屏通常與光闌一體,能夠?qū)h(huán)境溫度的背景輻射降低到冷屏溫度的背景輻射,降低探測(cè)器噪聲,提高探測(cè)率,如圖4所示。

        圖4 光闌和冷屏示意圖

        設(shè)置光闌后,探測(cè)器啟動(dòng)過程中“看到”的是場(chǎng)景輻射、一部分外殼對(duì)內(nèi)部輻射、冷屏的輻射和經(jīng)冷屏的反射,如圖5 所示[3]。

        圖5 輻射示意圖

        所以啟動(dòng)時(shí)積分電流也可表示為各部分輻射之和:

        其中,scene為場(chǎng)景輻射;internal為冷屏未阻擋的內(nèi)部輻射;cs為冷屏輻射;re為冷屏反射。場(chǎng)景輻射scene相對(duì)固定,外殼內(nèi)部輻射、冷屏輻射和反射與制冷溫度和視場(chǎng)角有關(guān)。在探測(cè)器啟動(dòng)的過程中,芯片最接近冷源,降溫最快。外殼和冷屏溫度隨著探測(cè)器制冷溫度降低,但溫度較芯片依然很高。此時(shí)背景輻射、內(nèi)部輻射和冷屏輻射和反射的共同作用,積分電流很大,探測(cè)器輸出依然飽和。當(dāng)外殼和冷屏制冷到溫后,探測(cè)器輸出才能滿足探測(cè)要求,即為啟動(dòng)。對(duì)于應(yīng)用環(huán)境極為惡劣的熱帶地區(qū)溫度達(dá)到49℃,加上太陽輻射,周圍溫度將超過60℃,internal,cs和re的輻射能量在啟動(dòng)過程中的影響增加,啟動(dòng)時(shí)間也將延長(zhǎng)。

        因此,探測(cè)器啟動(dòng)快慢與冷屏設(shè)計(jì)和降溫速度關(guān)系密切,而降溫速度與制冷有關(guān)。

        3.1 冷屏設(shè)計(jì)

        為了降低internal,cs和re對(duì)信號(hào)的影響,需要針對(duì)各項(xiàng)作用采取優(yōu)化設(shè)計(jì)。首先,光闌孔尺寸決定了視場(chǎng)角的大小,也就決定了有多少internal和re被探測(cè)器接收到。因此在設(shè)計(jì)時(shí),應(yīng)保證光學(xué)鏡頭視場(chǎng)角Ωopt大于或等于冷屏視場(chǎng)角ΩCSh,這樣internal就無法輻射到芯片,re也會(huì)相應(yīng)減小,積分電流為:

        其中,'re<re。試驗(yàn)發(fā)現(xiàn),以理論計(jì)算得到的光闌孔尺寸為依據(jù),分別設(shè)計(jì)尺寸大于理論值、等于理論值和小于理論值的冷屏,裝配到同一探測(cè)器對(duì)比啟動(dòng)時(shí)間。裝配大于理論值的冷屏后探測(cè)器啟動(dòng)時(shí)間明顯長(zhǎng)于另外兩個(gè),相差約2~3 s。雖然更小的光闌孔尺寸可以縮短啟動(dòng)時(shí)間,但也要考慮目標(biāo)信號(hào)的接收。

        其次,冷屏的材料應(yīng)選取低吸收和高反射率的銅、鎳鈷合金、金等材料,制作輕薄,熱傳導(dǎo)快,降低冷屏自身吸收和輻射能量,這樣設(shè)計(jì)后re減小為're,積分電流為:

        其中,'cs<cs。

        再者,外殼內(nèi)部輻射通過光闌孔經(jīng)冷屏內(nèi)壁反射可通過發(fā)黑處理,提高表面粗糙度,增加內(nèi)壁反射角,進(jìn)一步降低're的影響至″re,這樣設(shè)計(jì)后積分電流為:

        其中,″re<'re。試驗(yàn)發(fā)現(xiàn),與沒有發(fā)黑處理的冷屏對(duì)比,發(fā)黑之后啟動(dòng)時(shí)間縮短1~2 s。

        以上優(yōu)化可設(shè)計(jì)出類似圖6所示的冷屏結(jié)構(gòu),使得背景輻射在較短時(shí)間內(nèi)降低到相比目標(biāo)輻射遠(yuǎn)小得多的量級(jí),達(dá)到縮短啟動(dòng)時(shí)間的目的。對(duì)于應(yīng)用環(huán)境溫度較高的情況下,啟動(dòng)時(shí)間改善尤為明顯,整體可縮短5 s左右。

        3.2 制冷設(shè)計(jì)

        彈用制冷器需要適應(yīng)彈體設(shè)計(jì)和應(yīng)用條件,而制冷方式、制冷氣體和氣源壓力是制冷器設(shè)計(jì)的三個(gè)基本要素,因而需要根據(jù)對(duì)目標(biāo)快速響應(yīng)的要求確定三個(gè)要素的選擇。

        圖6 冷屏結(jié)構(gòu)體

        3.2.1 制冷方式的選擇

        紅外探測(cè)器制冷方式主要有三種方式,斯特林制冷、熱電半導(dǎo)體制冷和J-T節(jié)流制冷。對(duì)于快速制冷的要求,斯特林制冷和熱電半導(dǎo)體制冷都不適用。它們雖然能提供穩(wěn)定的制冷輸出,但啟動(dòng)時(shí)間長(zhǎng),且產(chǎn)生大量熱,很難在導(dǎo)引頭中消散。彈用紅外探測(cè)器組件多采用J-T節(jié)流制冷器,根據(jù)啟動(dòng)時(shí)間可分為兩類:一類是采用自調(diào)方式,啟動(dòng)時(shí)間相對(duì)較長(zhǎng),應(yīng)用于空空導(dǎo)彈上,如空空導(dǎo)彈的典型代表美國(guó)AIM-9系列啟動(dòng)時(shí)間在60 s左右;另一類要求發(fā)現(xiàn)目標(biāo)后快速響應(yīng),啟動(dòng)時(shí)間在3 s左右,稱之為快速啟動(dòng)制冷器,目前快速制冷器有噴射式和平板式兩種。

        噴射式和平板式快速啟動(dòng)制冷器都是帶有預(yù)冷級(jí)的節(jié)流制冷器。主要特點(diǎn)[4]:(1)易于實(shí)現(xiàn)探測(cè)器組件結(jié)構(gòu)微型化及低熱質(zhì)設(shè)計(jì),適用于動(dòng)力陀螺位標(biāo)器;(2)可提供較快的制冷速度;(3)無機(jī)械振動(dòng)、無電磁干擾、可靠性高。區(qū)別在于噴射式較平板式啟動(dòng)時(shí)間更短,制冷后氣體滯留對(duì)位標(biāo)器溫沖較大,耗氣量大,蓄冷時(shí)間短。

        3.2.2 制冷氣體

        J-T節(jié)流制冷器是利用氣體等焓節(jié)流產(chǎn)生溫度變化,不同的氣體降溫速度和終點(diǎn)溫度有所差異,需要折中選擇。圖7對(duì)比了氬氣、四氟化碳、氪氣和甲烷4種氣體在同一容積的氣瓶?jī)?nèi)由室溫降至沸點(diǎn)的降溫過程[5]。由圖中可以看出,甲烷的降溫速度最快,其次是四氟化碳和氪氣,但這三種氣體的最低溫度不低于120 K,無法滿足一般制冷型探測(cè)器要求的90~100 K的溫度要求。而氬氣雖然起始降溫速度慢,但溫度能夠達(dá)到100 K以下,可以滿足單氣路探測(cè)器要求,因而快速啟動(dòng)制冷器多用氬氣作為制冷介質(zhì)。

        圖7 不同制冷氣體降溫比較

        為了提高啟動(dòng)速度,受圖7啟發(fā),一種兩級(jí)雙工質(zhì)J-T制冷器設(shè)計(jì)被提了出來[5]。制冷器第一級(jí)采用沸點(diǎn)較高但降溫較快的氣體,如甲烷或四氟化碳,降溫至120 K或160 K,第二級(jí)采用沸點(diǎn)較低的氬氣或者氮?dú)?,進(jìn)一步降溫至所需的90 K或77 K。

        3.2.3 氣源壓力

        彈用制冷器由彈上氣瓶提供氣源,氣瓶的初始?jí)毫νǔ]^大,以保證制冷器快速啟動(dòng)需求。實(shí)驗(yàn)表明,當(dāng)制冷器設(shè)計(jì)和制作工藝固定后,氣源壓力存在一個(gè)最佳值[6]。壓力低于最佳壓力時(shí),提高供氣壓力可以縮短啟動(dòng)時(shí)間,供氣壓力高于最佳壓力時(shí),不但對(duì)啟動(dòng)時(shí)間沒有貢獻(xiàn),制冷效率反而降低。通常應(yīng)用條件下氬氣壓力不高于44 MPa,氮?dú)獠桓哂?5 MPa,但制冷器的最佳使用壓力與設(shè)計(jì)有關(guān)。法國(guó)SOFRADIR公司制造的AQUILA 384×288中波紅外探測(cè)器組件采用50 MPa氬氣,常溫啟動(dòng)時(shí)間小于7s。

        4 結(jié)論

        通過上述分析,在紅外焦平面探測(cè)器快速啟動(dòng)設(shè)計(jì)時(shí)可考慮以下幾點(diǎn):

        (1)合理設(shè)計(jì)冷屏形狀、光闌孔尺寸,優(yōu)化視場(chǎng)角,減少背景輻射;

        (2)合理選擇冷屏材料,降低自身輻射,加快熱傳導(dǎo);

        (3)選用J-T制冷方式,采用降溫速度快的單工質(zhì)或雙工質(zhì)制冷;

        (4)選取合適的啟動(dòng)壓力,提高制冷量。

        本文僅對(duì)影響紅外焦平面探測(cè)器快速啟動(dòng)的冷屏設(shè)計(jì)和制冷進(jìn)行了簡(jiǎn)單分析,與探測(cè)器研制相關(guān)的環(huán)境適應(yīng)性、可靠性等未深入展開。彈用快速啟動(dòng)紅外探測(cè)器性能要求高,需求量較大,研制目標(biāo)就是在體積緊湊、小質(zhì)量、低功耗等要求之間尋求最大可能的折中平衡,實(shí)現(xiàn)具有足夠制冷量、低維護(hù)要求、長(zhǎng)壽命、低成本以及抗電磁輻射等武器系統(tǒng)目標(biāo)。經(jīng)過多年的技術(shù)積累和攻關(guān),多款紅外探測(cè)器常溫啟動(dòng)時(shí)間達(dá)到3 s,高溫條件下,啟動(dòng)時(shí)間小于5 s。隨著導(dǎo)彈智能化,紅外探測(cè)器將采用功能更為復(fù)雜的面陣形式,以提高分辨率和增強(qiáng)功能,結(jié)構(gòu)復(fù)雜化、熱負(fù)載的增加、制冷需求的提高,使得快速啟動(dòng)設(shè)計(jì)的難度也將進(jìn)一步提高。

        [1] SUNWeiguo,HUANG Yongan,et al.Air to air missiles photodetector design[M].Beijing:National Defense Industry Press,2006.(in Chinese)孫維國(guó),黃永安,等.空空導(dǎo)彈光電探測(cè)器設(shè)計(jì)[M].北京:國(guó)防工業(yè)出版社,2006.

        [2] Lester J.Kozlowski,Walter F.Kosonocky.Handbook of optics[M].New York:McGRAW - HILL,INC,1995.

        [3] Saar Bobrov,Yoav Y.Schechner.Image - based prediction of imaging and vision performance[J].Journal of the Optical Society of America A,2007,24(7):1920 -1929.

        [4] L Changshui.Development situation and tendency of the fast-cool-down joule-thomson cryocoolers used for IRFPA[J].Infrared and Laser Engineering,2007,36:521 -525.(in Chinese)呂長(zhǎng)水.快速J-T效應(yīng)制冷器研發(fā)概況與趨勢(shì)[J].紅外與激光工程,2007,36(增):521 -525.

        [5] Uwe Hingst.Fast cool-down dual gas spray - cooler for pivoted IR - detectors[J].SPIE,2003,5074:620 - 629.

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