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        關(guān)于分振幅等傾雙光束干涉條紋反襯度的討論

        2014-03-18 20:31:53范希智祝霽洺
        光學(xué)儀器 2014年1期

        范希智 祝霽洺

        摘要: 為討論單色平面光經(jīng)過(guò)透明平行平板后出現(xiàn)的兩束主要反射光之間干涉條紋的反襯度,在給出了它們的光矢量方位角的定義之后,利用方位角之差表示出兩束光波光矢量之間的夾角;再利用菲涅耳公式表示出兩束光波的光強(qiáng)比,從平面波干涉的角度來(lái)求兩束光之間干涉條紋的反襯度,最終得出了復(fù)雜而普遍的表達(dá)式。并針對(duì)海定格干涉的反襯度進(jìn)行了討論,認(rèn)為小角度入射形成的海定格干涉條紋,其反襯度只決定于平行平板的折射率;利用光學(xué)材料制作的平行平板,其海定格干涉條紋具有很高的反襯度。

        關(guān)鍵詞: 反襯度; 分振幅; 雙光束干涉; 海定格干涉

        中圖分類號(hào): O 436.1文獻(xiàn)標(biāo)志碼: Adoi: 10.3969/j.issn.10055630.2014.01.013

        引言

        干涉條紋是否清晰,既與光強(qiáng)的起伏大小有關(guān),又與背景強(qiáng)度相關(guān),因此將干涉場(chǎng)中最大光強(qiáng)值與最小光強(qiáng)值的差與它們的和之比定義為反襯度,用來(lái)定量描述干涉條紋的清晰程度,當(dāng)反襯度接近或等于1時(shí),干涉條紋是很清晰的。分振幅雙光束干涉是一類重要的干涉,其中的等傾分振幅雙光束干涉是海定格干涉儀的理論基礎(chǔ),一些光學(xué)教學(xué)參考書對(duì)此進(jìn)行了闡述。在這類干涉中,存在著光波的半波損失的影響和干涉條紋反襯度的問(wèn)題,可能是限于篇幅,這些文獻(xiàn)并未做充分的討論[19]。而文獻(xiàn)[10]僅對(duì)半波損失的影響進(jìn)行了具體的分析,本文在此基礎(chǔ)上,針對(duì)分振幅等傾雙光束干涉的干涉條紋反襯度進(jìn)行具體研究。

        3結(jié)論

        本文給出了光束經(jīng)過(guò)平行平板后出現(xiàn)的兩束主要反射光AR1和CR2的光波波矢量方位角的定義,并推導(dǎo)這些方位角的具體表達(dá)式,討論了AR1和CR2光波疊加形成雙光束干涉時(shí)的反襯度。由于AR1和CR2光的光波矢量方向并不在一條直線上,它們之間的夾角即為其方位角之差,導(dǎo)致這兩束光干涉的反襯度V變成了很復(fù)雜的量,它既決定于入射角i1,也決定于入射光束的方位角β1,也受平行平板的折射率以及上下表面的媒質(zhì)的折射率的影響,其表示式是相當(dāng)復(fù)雜的。

        理論雖然如此,但對(duì)于海定格干涉儀來(lái)說(shuō),具體的實(shí)際情況使得復(fù)雜的反襯度V的表示式變得很簡(jiǎn)單,如式(24)所示,V僅是平行平板折射率n2的函數(shù),換言之,固定的光學(xué)平行平板在固定環(huán)境媒質(zhì)里實(shí)現(xiàn)海定格干涉,其條紋的反襯度是基本固定的,不受其它因素的影響。對(duì)于用各種可見光范圍內(nèi)光學(xué)材料制作的平行平板,在空氣中實(shí)現(xiàn)海定格干涉,其條紋的反襯度在0.984以上,條紋是高度清晰的,很方便觀察。而在光學(xué)教材和著作[14,69]中,幾乎沒(méi)有論述到海定格干涉條紋的反襯度,本文對(duì)此做了補(bǔ)充。

        參考文獻(xiàn):

        [1]梁銓廷.物理光學(xué)[M].3版.北京:電子工業(yè)出版社,2008:100107.

        [2]謝敬輝,趙達(dá)尊,閻吉祥.物理光學(xué)教程[M].北京:北京理工大學(xué)出版社,2005:114117,4450,9093.

        [3]范少卿,郭富昌.物理光學(xué)[M].北京:北京理工大學(xué)出版社,1990:5253.

        [4]王楚,湯俊雄.光學(xué)[M].北京:北京大學(xué)出版社,2001:7985.

        [5]趙達(dá)尊,張懷玉.波動(dòng)光學(xué)[M].北京:宇航出版社,1988:178181.

        [6]姚啟鈞.光學(xué)教程[M].北京:高等教育出版社,1981:3948.

        [7]潘篤武,賈玉潤(rùn),陳善華.光學(xué)(上冊(cè))[M].上海:復(fù)旦大學(xué)出版社,1997:9094.

        [8]廖延彪.光學(xué)原理與應(yīng)用[M].北京:電子工業(yè)出版社,2006:7883.

        [9]鐘錫華.現(xiàn)代光學(xué)基礎(chǔ)[M].北京:北京大學(xué)出版社,2003:164177.

        [10]范希智,祝霽洺.分振幅雙光束等傾干涉中半波損失的討論[J].光學(xué)儀器,2012,34(5):5460.

        [11]唐晉發(fā),顧培夫,劉旭,等.現(xiàn)代光學(xué)薄膜技術(shù)[M].杭州:浙江大學(xué)出版社,2006:227246.

        摘要: 為討論單色平面光經(jīng)過(guò)透明平行平板后出現(xiàn)的兩束主要反射光之間干涉條紋的反襯度,在給出了它們的光矢量方位角的定義之后,利用方位角之差表示出兩束光波光矢量之間的夾角;再利用菲涅耳公式表示出兩束光波的光強(qiáng)比,從平面波干涉的角度來(lái)求兩束光之間干涉條紋的反襯度,最終得出了復(fù)雜而普遍的表達(dá)式。并針對(duì)海定格干涉的反襯度進(jìn)行了討論,認(rèn)為小角度入射形成的海定格干涉條紋,其反襯度只決定于平行平板的折射率;利用光學(xué)材料制作的平行平板,其海定格干涉條紋具有很高的反襯度。

        關(guān)鍵詞: 反襯度; 分振幅; 雙光束干涉; 海定格干涉

        中圖分類號(hào): O 436.1文獻(xiàn)標(biāo)志碼: Adoi: 10.3969/j.issn.10055630.2014.01.013

        引言

        干涉條紋是否清晰,既與光強(qiáng)的起伏大小有關(guān),又與背景強(qiáng)度相關(guān),因此將干涉場(chǎng)中最大光強(qiáng)值與最小光強(qiáng)值的差與它們的和之比定義為反襯度,用來(lái)定量描述干涉條紋的清晰程度,當(dāng)反襯度接近或等于1時(shí),干涉條紋是很清晰的。分振幅雙光束干涉是一類重要的干涉,其中的等傾分振幅雙光束干涉是海定格干涉儀的理論基礎(chǔ),一些光學(xué)教學(xué)參考書對(duì)此進(jìn)行了闡述。在這類干涉中,存在著光波的半波損失的影響和干涉條紋反襯度的問(wèn)題,可能是限于篇幅,這些文獻(xiàn)并未做充分的討論[19]。而文獻(xiàn)[10]僅對(duì)半波損失的影響進(jìn)行了具體的分析,本文在此基礎(chǔ)上,針對(duì)分振幅等傾雙光束干涉的干涉條紋反襯度進(jìn)行具體研究。

        3結(jié)論

        本文給出了光束經(jīng)過(guò)平行平板后出現(xiàn)的兩束主要反射光AR1和CR2的光波波矢量方位角的定義,并推導(dǎo)這些方位角的具體表達(dá)式,討論了AR1和CR2光波疊加形成雙光束干涉時(shí)的反襯度。由于AR1和CR2光的光波矢量方向并不在一條直線上,它們之間的夾角即為其方位角之差,導(dǎo)致這兩束光干涉的反襯度V變成了很復(fù)雜的量,它既決定于入射角i1,也決定于入射光束的方位角β1,也受平行平板的折射率以及上下表面的媒質(zhì)的折射率的影響,其表示式是相當(dāng)復(fù)雜的。

        理論雖然如此,但對(duì)于海定格干涉儀來(lái)說(shuō),具體的實(shí)際情況使得復(fù)雜的反襯度V的表示式變得很簡(jiǎn)單,如式(24)所示,V僅是平行平板折射率n2的函數(shù),換言之,固定的光學(xué)平行平板在固定環(huán)境媒質(zhì)里實(shí)現(xiàn)海定格干涉,其條紋的反襯度是基本固定的,不受其它因素的影響。對(duì)于用各種可見光范圍內(nèi)光學(xué)材料制作的平行平板,在空氣中實(shí)現(xiàn)海定格干涉,其條紋的反襯度在0.984以上,條紋是高度清晰的,很方便觀察。而在光學(xué)教材和著作[14,69]中,幾乎沒(méi)有論述到海定格干涉條紋的反襯度,本文對(duì)此做了補(bǔ)充。

        參考文獻(xiàn):

        [1]梁銓廷.物理光學(xué)[M].3版.北京:電子工業(yè)出版社,2008:100107.

        [2]謝敬輝,趙達(dá)尊,閻吉祥.物理光學(xué)教程[M].北京:北京理工大學(xué)出版社,2005:114117,4450,9093.

        [3]范少卿,郭富昌.物理光學(xué)[M].北京:北京理工大學(xué)出版社,1990:5253.

        [4]王楚,湯俊雄.光學(xué)[M].北京:北京大學(xué)出版社,2001:7985.

        [5]趙達(dá)尊,張懷玉.波動(dòng)光學(xué)[M].北京:宇航出版社,1988:178181.

        [6]姚啟鈞.光學(xué)教程[M].北京:高等教育出版社,1981:3948.

        [7]潘篤武,賈玉潤(rùn),陳善華.光學(xué)(上冊(cè))[M].上海:復(fù)旦大學(xué)出版社,1997:9094.

        [8]廖延彪.光學(xué)原理與應(yīng)用[M].北京:電子工業(yè)出版社,2006:7883.

        [9]鐘錫華.現(xiàn)代光學(xué)基礎(chǔ)[M].北京:北京大學(xué)出版社,2003:164177.

        [10]范希智,祝霽洺.分振幅雙光束等傾干涉中半波損失的討論[J].光學(xué)儀器,2012,34(5):5460.

        [11]唐晉發(fā),顧培夫,劉旭,等.現(xiàn)代光學(xué)薄膜技術(shù)[M].杭州:浙江大學(xué)出版社,2006:227246.

        摘要: 為討論單色平面光經(jīng)過(guò)透明平行平板后出現(xiàn)的兩束主要反射光之間干涉條紋的反襯度,在給出了它們的光矢量方位角的定義之后,利用方位角之差表示出兩束光波光矢量之間的夾角;再利用菲涅耳公式表示出兩束光波的光強(qiáng)比,從平面波干涉的角度來(lái)求兩束光之間干涉條紋的反襯度,最終得出了復(fù)雜而普遍的表達(dá)式。并針對(duì)海定格干涉的反襯度進(jìn)行了討論,認(rèn)為小角度入射形成的海定格干涉條紋,其反襯度只決定于平行平板的折射率;利用光學(xué)材料制作的平行平板,其海定格干涉條紋具有很高的反襯度。

        關(guān)鍵詞: 反襯度; 分振幅; 雙光束干涉; 海定格干涉

        中圖分類號(hào): O 436.1文獻(xiàn)標(biāo)志碼: Adoi: 10.3969/j.issn.10055630.2014.01.013

        引言

        干涉條紋是否清晰,既與光強(qiáng)的起伏大小有關(guān),又與背景強(qiáng)度相關(guān),因此將干涉場(chǎng)中最大光強(qiáng)值與最小光強(qiáng)值的差與它們的和之比定義為反襯度,用來(lái)定量描述干涉條紋的清晰程度,當(dāng)反襯度接近或等于1時(shí),干涉條紋是很清晰的。分振幅雙光束干涉是一類重要的干涉,其中的等傾分振幅雙光束干涉是海定格干涉儀的理論基礎(chǔ),一些光學(xué)教學(xué)參考書對(duì)此進(jìn)行了闡述。在這類干涉中,存在著光波的半波損失的影響和干涉條紋反襯度的問(wèn)題,可能是限于篇幅,這些文獻(xiàn)并未做充分的討論[19]。而文獻(xiàn)[10]僅對(duì)半波損失的影響進(jìn)行了具體的分析,本文在此基礎(chǔ)上,針對(duì)分振幅等傾雙光束干涉的干涉條紋反襯度進(jìn)行具體研究。

        3結(jié)論

        本文給出了光束經(jīng)過(guò)平行平板后出現(xiàn)的兩束主要反射光AR1和CR2的光波波矢量方位角的定義,并推導(dǎo)這些方位角的具體表達(dá)式,討論了AR1和CR2光波疊加形成雙光束干涉時(shí)的反襯度。由于AR1和CR2光的光波矢量方向并不在一條直線上,它們之間的夾角即為其方位角之差,導(dǎo)致這兩束光干涉的反襯度V變成了很復(fù)雜的量,它既決定于入射角i1,也決定于入射光束的方位角β1,也受平行平板的折射率以及上下表面的媒質(zhì)的折射率的影響,其表示式是相當(dāng)復(fù)雜的。

        理論雖然如此,但對(duì)于海定格干涉儀來(lái)說(shuō),具體的實(shí)際情況使得復(fù)雜的反襯度V的表示式變得很簡(jiǎn)單,如式(24)所示,V僅是平行平板折射率n2的函數(shù),換言之,固定的光學(xué)平行平板在固定環(huán)境媒質(zhì)里實(shí)現(xiàn)海定格干涉,其條紋的反襯度是基本固定的,不受其它因素的影響。對(duì)于用各種可見光范圍內(nèi)光學(xué)材料制作的平行平板,在空氣中實(shí)現(xiàn)海定格干涉,其條紋的反襯度在0.984以上,條紋是高度清晰的,很方便觀察。而在光學(xué)教材和著作[14,69]中,幾乎沒(méi)有論述到海定格干涉條紋的反襯度,本文對(duì)此做了補(bǔ)充。

        參考文獻(xiàn):

        [1]梁銓廷.物理光學(xué)[M].3版.北京:電子工業(yè)出版社,2008:100107.

        [2]謝敬輝,趙達(dá)尊,閻吉祥.物理光學(xué)教程[M].北京:北京理工大學(xué)出版社,2005:114117,4450,9093.

        [3]范少卿,郭富昌.物理光學(xué)[M].北京:北京理工大學(xué)出版社,1990:5253.

        [4]王楚,湯俊雄.光學(xué)[M].北京:北京大學(xué)出版社,2001:7985.

        [5]趙達(dá)尊,張懷玉.波動(dòng)光學(xué)[M].北京:宇航出版社,1988:178181.

        [6]姚啟鈞.光學(xué)教程[M].北京:高等教育出版社,1981:3948.

        [7]潘篤武,賈玉潤(rùn),陳善華.光學(xué)(上冊(cè))[M].上海:復(fù)旦大學(xué)出版社,1997:9094.

        [8]廖延彪.光學(xué)原理與應(yīng)用[M].北京:電子工業(yè)出版社,2006:7883.

        [9]鐘錫華.現(xiàn)代光學(xué)基礎(chǔ)[M].北京:北京大學(xué)出版社,2003:164177.

        [10]范希智,祝霽洺.分振幅雙光束等傾干涉中半波損失的討論[J].光學(xué)儀器,2012,34(5):5460.

        [11]唐晉發(fā),顧培夫,劉旭,等.現(xiàn)代光學(xué)薄膜技術(shù)[M].杭州:浙江大學(xué)出版社,2006:227246.

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