張 紅 陳熙源 鄒 升
(東南大學(xué)微慣性?xún)x表與先進(jìn)導(dǎo)航技術(shù)教育部重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室,南京210096)
原子自旋磁強(qiáng)計(jì)因其超高的理論靈敏度而備受關(guān)注.它是一種以超精細(xì)能級(jí)原子躍遷為基礎(chǔ)、工作在弱磁環(huán)境下的磁場(chǎng)測(cè)量裝置[1-3].多數(shù)靈敏的磁測(cè)量都需要隔離外部雜散磁場(chǎng),這對(duì)由高磁導(dǎo)率金屬制成的磁屏蔽體的屏蔽性能提出了嚴(yán)格要求[4-6].目前,現(xiàn)有的磁屏蔽設(shè)計(jì)研究著重于分析屏蔽效能、屏蔽體形狀和屏蔽體厚度對(duì)屏蔽性能的影響[7-10],而關(guān)于屏蔽體的結(jié)構(gòu)尺寸(如筒長(zhǎng)、半徑、徑向?qū)娱g距及軸向?qū)娱g距等)的優(yōu)化考慮則甚少,磁屏蔽體基本依據(jù)經(jīng)驗(yàn)進(jìn)行設(shè)計(jì)[11].本文綜合考慮了影響磁屏蔽筒軸向屏蔽系數(shù)的各個(gè)因素,對(duì)原子磁強(qiáng)計(jì)的磁屏蔽筒結(jié)構(gòu)、尺寸進(jìn)行優(yōu)化設(shè)計(jì),并利用Ansoft 仿真其屏蔽效能.
由于磁性屏蔽材料磁阻小,磁屏蔽體可以為外界干擾磁場(chǎng)提供一個(gè)低磁阻的磁通路,使磁力線都通過(guò)鐵殼短路而不影響屏蔽體里面的部件,達(dá)到屏蔽目的.磁屏蔽原理如圖1所示.
圖1 磁屏蔽原理示意圖
單層圓柱形磁屏蔽筒的橫向磁屏蔽系數(shù)為[12]
式中,μr為相對(duì)磁導(dǎo)率;d 為屏蔽材料厚度;D 為屏蔽筒直徑.根據(jù)單層磁屏蔽筒的橫向屏蔽系數(shù)及軸向屏蔽系數(shù)公式,推導(dǎo)雙層磁屏蔽筒的屏蔽系數(shù),進(jìn)而遞推到n 層磁屏蔽筒屏蔽系數(shù).
令磁屏蔽系數(shù)為未加屏蔽時(shí)空間某點(diǎn)磁場(chǎng)強(qiáng)度Hout與加屏蔽后該點(diǎn)磁場(chǎng)強(qiáng)度Hin的比值,即
圖2為雙層磁屏蔽筒軸向剖面圖.假設(shè)H0,H1分別為屏蔽筒外部和內(nèi)部磁場(chǎng)強(qiáng)度;H2,H'2分別為考慮和不考慮內(nèi)層磁屏蔽影響時(shí)第1,2 層之間的磁場(chǎng)強(qiáng)度;ST1,ST2分別為第1,2 層的橫向屏蔽系數(shù);A1,A2分別為內(nèi)、外層筒截面積;D1,D2分別為內(nèi)、外層筒直徑;R1,R2分別為內(nèi)、外層筒半徑.根據(jù)屏蔽系數(shù)公式可得
則雙層屏蔽筒的總屏蔽系數(shù)為[13]
圖2 雙層磁屏蔽筒軸向剖面
同理可推導(dǎo)出n 層磁屏蔽筒橫向屏蔽系數(shù)和軸向屏蔽系數(shù)公式分別為[12-14]
根據(jù)式(7)和(8)可以對(duì)n 層磁屏蔽筒的結(jié)構(gòu)和尺寸進(jìn)行優(yōu)化設(shè)計(jì).
磁場(chǎng)通過(guò)導(dǎo)磁材料會(huì)發(fā)生轉(zhuǎn)移,故磁屏蔽裝置通常由具有高磁導(dǎo)率的磁性材料制作而成.磁導(dǎo)率μ 與相對(duì)磁導(dǎo)率μr均為表征物質(zhì)導(dǎo)磁性能的物理量,兩者關(guān)系為μr=μ/μ0,其中μ0為真空磁導(dǎo)率.目前,常用磁屏蔽材料包括鎳鐵合金、坡莫合金等[15].表1為常用磁屏蔽材料的相對(duì)磁導(dǎo)率.
表1 常用磁屏蔽材料的相對(duì)磁導(dǎo)率
磁屏蔽筒的軸向屏蔽系數(shù)遠(yuǎn)小于橫向屏蔽系數(shù),成為制約屏蔽性能的重要因素.原子自旋磁強(qiáng)計(jì)擬采用4 層坡莫合金磁屏蔽筒(見(jiàn)圖3),其軸向屏蔽系數(shù)為
將式(1)代入式(9)可得
由圖3可以看出,雙層屏蔽筒之間包含了屏蔽筒厚度d、軸向間距ΔL 及徑向間距ΔR,將這些參數(shù)代入式(10)可得
圖3 4 層磁屏蔽筒軸向剖面圖
至此,式(11)已包含磁屏蔽筒設(shè)計(jì)所需的所有參數(shù)信息.通過(guò)參數(shù)優(yōu)化尋求最大軸向屏蔽系數(shù),從而獲得最佳屏蔽效果.在其他參數(shù)一定僅改變一項(xiàng)參數(shù)的條件下,根據(jù)式(11)利用Matlab 模擬仿真軸向屏蔽系數(shù)的變化情況.多層磁屏蔽筒的軸向屏蔽系數(shù)與ΔR,ΔL,L,R 的關(guān)系見(jiàn)圖4.
圖4 SAtot與ΔL,L,ΔR,R 的關(guān)系曲線
由圖4可以看出,ΔL,L,R 對(duì)軸向總屏蔽系數(shù)影響相對(duì)較大,而ΔR 的影響則相對(duì)較小,且隨著R 和L 的增加,軸向屏蔽系數(shù)迅速減小.當(dāng)ΔL≤20 cm 時(shí),軸向屏蔽系數(shù)變化劇烈;反之,則變化緩慢.因此,體積小的磁屏蔽屏蔽性能更好.
下面根據(jù)實(shí)際應(yīng)用情況,優(yōu)化設(shè)計(jì)磁屏蔽筒.由于磁屏蔽筒內(nèi)還依次放有錳鋅鐵氧體(底面直徑170 mm、高340 mm 的柱體)、三維異性補(bǔ)償線圈、烤箱和氣室,考慮到安裝問(wèn)題,在磁屏蔽筒與錳鋅鐵氧體之間保留一定間隙,因此設(shè)定R ≥90 mm,L≥360 mm;由于層與層之間有支撐部件,故設(shè)定ΔR≥20 mm,ΔL ≥50 mm,μr=2 ×104,d=0.26 cm.
屏蔽效能是衡量原子陀螺儀屏蔽裝置性能的重要指標(biāo),表征了屏蔽體對(duì)電磁波的衰減程度.屏蔽效能定義為未加屏蔽時(shí)空間中某點(diǎn)的磁場(chǎng)強(qiáng)度Ei與加屏蔽時(shí)空間中該點(diǎn)磁場(chǎng)強(qiáng)度E0的比值,即
利用Ansoft 軟件進(jìn)行建模,4 層磁屏蔽筒中每層兩端均有磁屏蔽蓋,且兩端蓋及中心徑向均開(kāi)通光孔,外部由一對(duì)亥姆霍茲線圈來(lái)模擬地磁場(chǎng)環(huán)境(地磁場(chǎng)強(qiáng)度約為50 μT).模擬模型如圖5所示.
圖5 4 層磁屏蔽筒和亥姆霍茲線圈地磁場(chǎng)的模擬模型
磁屏蔽筒中心為0 點(diǎn),沿軸向(圖5中的Z 方向)向兩側(cè)每間隔15 mm 設(shè)置一個(gè)監(jiān)測(cè)點(diǎn).經(jīng)優(yōu)化設(shè)計(jì)的磁屏蔽筒仿真結(jié)果見(jiàn)表2.
表2 優(yōu)化后磁屏蔽筒的仿真結(jié)果
目前,普林斯頓大學(xué)使用的原子自旋磁強(qiáng)計(jì)中蔽筒體積龐大,實(shí)際筒內(nèi)剩磁約為2 nT,蔽能效約為90 dB[1-2];而本文設(shè)計(jì)的小磁屏蔽筒在理想情況下筒內(nèi)剩磁約為0.64 pT,蔽效能約為158.6 dB,體積僅為前者的1/3 左右.本文所得結(jié)果是以理想情況為前提的,但在實(shí)際應(yīng)用中,坡莫合金磁導(dǎo)率、加工工藝及使用環(huán)境中多種不可控因素等都會(huì)影響筒內(nèi)剩磁,此外還會(huì)受測(cè)量?jī)x器精度限制,故實(shí)際剩磁大于理論仿真結(jié)果.
為進(jìn)一步驗(yàn)證本文提出的屏蔽筒體積越小屏蔽性能越好這一觀點(diǎn),對(duì)非優(yōu)化大尺寸磁屏蔽筒的屏蔽能效進(jìn)行模擬,并與經(jīng)優(yōu)化設(shè)計(jì)的磁屏蔽筒仿真結(jié)果進(jìn)行對(duì)比.所用大尺寸磁屏蔽筒的尺寸為:R=150 mm,L=600 mm,ΔR=20 mm,ΔL= 50 mm,μr=2 ×104,d=0.26 cm.其仿真結(jié)果見(jiàn)表3.
表3 大磁屏蔽筒仿真結(jié)果
非優(yōu)化大磁屏蔽筒的屏蔽能效約為152.1 dB,低于經(jīng)優(yōu)化設(shè)計(jì)的小磁屏蔽筒,即屏蔽筒體積越小,屏蔽性能越好.
本文綜合考慮影響原子自旋磁強(qiáng)計(jì)磁屏蔽筒屏蔽系數(shù)的各個(gè)因素,推導(dǎo)出磁屏蔽筒參數(shù)的優(yōu)化公式.通過(guò)仿真發(fā)現(xiàn),ΔL,L,R 對(duì)軸向總屏蔽系數(shù)的影響相對(duì)較大,ΔR 的影響則相對(duì)較小,且屏蔽筒體積越小,則屏蔽性能越好.然后,對(duì)原子磁強(qiáng)計(jì)磁屏蔽筒結(jié)構(gòu)和尺寸進(jìn)行優(yōu)化設(shè)計(jì),所得磁屏蔽筒體積僅為國(guó)外磁屏蔽筒體積的1/3 左右,仿真得到理想情況下其剩磁約為0.64 pT,屏蔽效能約為158.6 dB,同時(shí)具有屏蔽性能大、體積小、重量輕、成本低等優(yōu)點(diǎn).
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