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        底發(fā)射OLEDs的ITO陽(yáng)極構(gòu)造研究進(jìn)展

        2014-02-01 07:51:06韓穎姝裴亞芳
        中國(guó)科技信息 2014年9期

        楊 燕 韓穎姝 裴亞芳

        國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局專利局專利審查協(xié)作北京中心,北京 100190

        1 概述

        OLEDs由于自身的優(yōu)勢(shì),近年來(lái)在平面顯示技術(shù)、固態(tài)照明等方面獲得了迅速發(fā)展。典型的底部發(fā)射OLEDs一般包括襯底、透明陽(yáng)極、有機(jī)層和金屬陰極的多層結(jié)構(gòu)。陽(yáng)極在底發(fā)射OLEDs中起著極為重要的作用,陽(yáng)極良好的導(dǎo)電性直接影響器件的I-V特性和驅(qū)動(dòng)電壓,與有機(jī)層之間功函數(shù)的匹配情況也會(huì)影響載流子注入的平衡性??紤]到載流子的注入效率問(wèn)題,陽(yáng)極和有機(jī)層的界面勢(shì)壘要盡量減小,因此陽(yáng)極的材料和構(gòu)造對(duì)器件的性能具有直接的影響。由于氧化銦錫(ITO)具有高透明和高導(dǎo)電率,是目前OLED的首選陽(yáng)極材料,但I(xiàn)TO屬于非化學(xué)劑量學(xué)化合物,表面特性難以控制,且不同表面特性的ITO功函數(shù)不同,從而影響了OLEDs的器件性能。盡管已使用眾多的其它材料來(lái)替代ITO作為陽(yáng)極,但I(xiàn)TO仍是目前較常使用的陽(yáng)極材料之一。因此,如何構(gòu)造ITO來(lái)提高OLEDs的性能成為目前的研究熱點(diǎn)之一。

        2 ITO的表面構(gòu)造

        為了提高ITO與有機(jī)層之間的性能,使得所獲得的OLEDs具有高的光提取效率以及均勻的發(fā)光效果,研究者們針對(duì)ITO的表面以及其自身形狀進(jìn)行了深入研究,以期獲得高性能的OLEDs。

        2.1 ITO表面粗糙化

        表面粗糙化能夠改變材料表面的化學(xué)成分以及表面形態(tài)等,從而影響材料的表面能,且其只改變ITO表面向有機(jī)層的空穴注入能力,并仍舊保持ITO膜內(nèi)部較高的導(dǎo)電率。因此,是目前用于提高ITO與有機(jī)層之間接觸性能的常用手段之一。

        F.Li 等[1]采用王水對(duì)ITO 玻璃處理,使得ITO 表面形成粗糙的孔狀結(jié)構(gòu),但粗糙的ITO 膜表面卻增大了ITO 膜與有機(jī)物薄膜的接觸面積,從而促進(jìn)了從ITO 到有機(jī)物的空穴注入,改善了OLED 的性能。

        Wu等[2]采用氧等離子對(duì)ITO與有機(jī)層的接觸表面進(jìn)行處理,從而使驅(qū)動(dòng)電壓從大于20V減低到小于10V,外部電致發(fā)光量子效率從0.28%提高到1%,在1000mA/cm2的最大亮度約10,000cd/m2。

        除了上述處理方法之外,研究者們[3-4]還采用其他酸或堿以及惰性氣體濺射和臭氧環(huán)境自外線等對(duì)ITO與有機(jī)層接觸的表面進(jìn)行處理。

        2.2 ITO表面納米結(jié)構(gòu)

        由于OLEDs有源層發(fā)出的光子會(huì)以三種模式進(jìn)行耦合,即直接透射到空氣中、在玻璃中形成全反射的模式以及在高折射率層中(ITO/有機(jī)材料結(jié)構(gòu)),其中直接透射占20%,全反射模式占50%,高折射率層中的導(dǎo)波模式占50%。由于光子晶體晶格的多重散射產(chǎn)生光子禁帶,光子禁帶的存在限制了頻率落在其中的橫向模式在半導(dǎo)體中的傳播,使得光只能沿著縱向輻射;且光子晶體作為表面光柵使用,能夠?qū)⒉▽?dǎo)光提取出來(lái)。因此,在ITO陽(yáng)極與有機(jī)層之間構(gòu)造光子晶體結(jié)構(gòu)已成為目前的研究熱點(diǎn)之一。

        Masayuki Fujita等[5]在ITO陽(yáng)極與有機(jī)層臨近的表面形成二維光子晶體結(jié)構(gòu)以提取ITO/有機(jī)層內(nèi)被捕獲的光,與無(wú)二維光子晶體結(jié)構(gòu)的OLEDs相比,光譜累積密度和峰值密度分別提高了20%和130%。

        中國(guó)發(fā)明專利CN1472823 A[6]公開了一種陽(yáng)極結(jié)構(gòu),使用眾所周知的光蝕刻技術(shù)形成ITO層中的光柵圖案,得到OLED顯示器在環(huán)境亮度大于6,000lux,平均功率為每平方厘米顯示面積100毫瓦或更低時(shí),其環(huán)境對(duì)比度大于10。

        3 ITO電極形狀

        通常OLEDs器件制作中,主要采用直接蒸鍍或沉積形成整體的大面積陽(yáng)極,但是由于大面積的陽(yáng)極會(huì)使得電流聚集而產(chǎn)生大的電流強(qiáng)度,從而帶來(lái)較強(qiáng)的電流聚集效應(yīng),大的電流將導(dǎo)致電極被燒壞,發(fā)生陰陽(yáng)極短路以及發(fā)光不均勻等問(wèn)題。目前,研究者們通過(guò)改變陽(yáng)極形狀而避免使用大面積的陽(yáng)極,從而獲得性能良好的底發(fā)射OLEDs。

        中國(guó)發(fā)明專利CN101840998 A[7]公開了一種陽(yáng)極結(jié)構(gòu),該陽(yáng)極分裂為包括5個(gè)平行排列的分支陽(yáng)極,陽(yáng)極整體形成梳子狀,從而分支陽(yáng)極可以對(duì)陽(yáng)極上的電流進(jìn)行分流,相比較現(xiàn)有技術(shù)中陽(yáng)極的整體設(shè)計(jì),每個(gè)分支陽(yáng)極上的分支電流大約為原電流的1/5,即使某分支陽(yáng)極上產(chǎn)生電流聚集效應(yīng),聚集的電流強(qiáng)度也大大減弱。

        Tae-Wook Koh等[8]在玻璃襯底上形成具有暴露出襯底的開口的網(wǎng)格狀I(lǐng)TO電極,該開口具有傾斜側(cè)壁,之后在該結(jié)構(gòu)的整個(gè)表面依次形成高導(dǎo)電的PEDOT:PSS層、有機(jī)層和金屬陰極,所獲得的OLEDs器件的EQE(%)@J=40(mA/cm2)和功率效率(lm/W)@L=3000(cd/m2)分別為1. 70(1.25)和3. 42(1.27)。

        4 結(jié)束語(yǔ)

        除了上述對(duì)于ITO表面構(gòu)造以及電極形狀的研究之外,研究者們還采用在ITO與有機(jī)層之間增加其他層來(lái)優(yōu)化ITO與有機(jī)層之間的性能。相信隨著更多新技術(shù)的不斷出現(xiàn),ITO與有機(jī)層之間的性能將進(jìn)一步提高,從而能夠獲得更多高性能的OLEDs器件。

        [1]Li F,et al. Applied physics letters,1997,70(20):2747 -2749.

        [2]C. C. Wu,et al. Applied physics letters,1997,70(11):1348-1350.

        [3]Mason M G,et al. Journal of applied physics,1999,86(3):1688 - 1692.

        [4]Le O T,et aI . Applied physics letters,1999,75(10):1357-1359.

        [5]Masayuki Fujita,et al. Japanese journal of applied physics,2005,44(6A):3669-3677.

        [6]A·D·阿諾等. 中國(guó)專利,No: CN1472823 A,2004-02-04.

        [7]曹緒文等. 中國(guó)專利,No: CN101840998 A,2010-09-22.

        [8]Tae-Wook Koh,et al. Advanced materials,2010,22:1849-1853.

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