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        一種單站被動(dòng)式光學(xué)測(cè)距系統(tǒng)

        2013-09-18 08:55:36王陸王藝梅
        關(guān)鍵詞:系統(tǒng)

        王陸,王藝梅

        (長(zhǎng)春理工大學(xué) 光電工程學(xué)院,長(zhǎng)春 130022)

        現(xiàn)有獲取目標(biāo)位置信息的方法主要分為主動(dòng)式測(cè)距和被動(dòng)式測(cè)距兩種。主動(dòng)式測(cè)距大部分是通過(guò)發(fā)出某特定波長(zhǎng)的電磁波,并通過(guò)回波與出射波的時(shí)間差推導(dǎo)出探測(cè)器與被測(cè)目標(biāo)之間的距離。例如,激光測(cè)距、超聲波測(cè)距等。該方法由于是主動(dòng)發(fā)出探測(cè)波,所以容易被對(duì)方截獲,并加以利用。被動(dòng)式測(cè)距主要是通過(guò)接收被測(cè)目標(biāo)所發(fā)出的某一特定波段的信號(hào),從而達(dá)到對(duì)目標(biāo)測(cè)距。現(xiàn)有被動(dòng)式測(cè)距系統(tǒng)往往采用多系統(tǒng)立體式探測(cè)的方法,通過(guò)坐標(biāo)系解算從而得到被測(cè)目標(biāo)的相應(yīng)信息[1]。例如雙平臺(tái)被動(dòng)測(cè)距等。但是此類傳統(tǒng)測(cè)距系統(tǒng)機(jī)構(gòu)復(fù)雜,造價(jià)較高,不利于機(jī)動(dòng)探測(cè)。

        本文提出的單站被動(dòng)式光學(xué)測(cè)距系統(tǒng)是以周掃描系統(tǒng)為基礎(chǔ),通過(guò)半反半透鏡對(duì)光學(xué)系統(tǒng)進(jìn)行“鏡像”,從而虛擬出另一套成像光學(xué)系統(tǒng),并根據(jù)坐標(biāo)系推導(dǎo)解算出探測(cè)器與被測(cè)目標(biāo)之間的角度信息和距離信息,從而達(dá)到單站被動(dòng)測(cè)距的效果[2]。該系統(tǒng)方法簡(jiǎn)單,移動(dòng)性好,適用于紅外、激光、可見(jiàn)、紫外等多種系統(tǒng)。

        1 單站被動(dòng)式光學(xué)測(cè)距系統(tǒng)

        1.1 測(cè)距原理

        最為經(jīng)典和復(fù)雜的被動(dòng)探測(cè)系統(tǒng)即為“人眼”。它通過(guò)兩只眼睛的相互配合從而達(dá)到對(duì)目標(biāo)進(jìn)行空間定位的效果。

        圖1 人眼立體視差示意圖

        若物點(diǎn)A到基線的距離為L(zhǎng),則視差角θα為:

        不同距離的物體對(duì)應(yīng)不同的視差角,其差異Δθα稱為“立體視差”。傳統(tǒng)的被動(dòng)測(cè)距系統(tǒng)正是參考該原理,通過(guò)建立雙站或者多站被動(dòng)式光學(xué)測(cè)距系統(tǒng),對(duì)同一目標(biāo)進(jìn)行觀測(cè),從而推導(dǎo)出基線與目標(biāo)的距離和方位、俯仰角度等信息[3]。然而,該方式需要兩套或更多固定在特定位置上的測(cè)距系統(tǒng)進(jìn)行組合測(cè)距。對(duì)于人力和物力的耗費(fèi)都比較大,并且只能對(duì)特定區(qū)域進(jìn)行覆蓋,不利于機(jī)動(dòng)探測(cè)。

        故此,文中提出了一種通過(guò)同一探測(cè)系統(tǒng)經(jīng)折反系統(tǒng)對(duì)同一物體從不同角度進(jìn)行二次探測(cè)方法,從而達(dá)到人眼立體成像的效果[4]。該方式可以獨(dú)自完成被動(dòng)測(cè)距,機(jī)構(gòu)簡(jiǎn)單、造價(jià)低廉,便于機(jī)動(dòng)探測(cè),如圖2所示。

        1.2 系統(tǒng)組成與公式推導(dǎo)

        系統(tǒng)主要由周掃描系統(tǒng)、光闌、半反半透鏡、光學(xué)成像系統(tǒng)等組成。在光學(xué)成像系統(tǒng)前方以一定距離處(此處以45°為例)放置一個(gè)半反半透鏡(保證系統(tǒng)二個(gè)光路全部無(wú)遮擋。),并在半反半透鏡前分別放置一個(gè)可變光闌[5]。周掃描系統(tǒng)正常工作情況下(主光闌開(kāi)啟,側(cè)光闌關(guān)閉。),當(dāng)探測(cè)到目標(biāo)并記錄下目標(biāo)方位角α1后(可由轉(zhuǎn)臺(tái)讀出方位角),將系統(tǒng)進(jìn)入第二圈周掃狀態(tài)(同時(shí)關(guān)閉主光闌,開(kāi)啟側(cè)光闌。),記錄下被測(cè)目標(biāo)第二次的方位角α2。

        已知,光學(xué)成像系統(tǒng)的焦距 f′,半反半透鏡與探測(cè)器的距離D,被測(cè)物體與半反半透鏡片的距離為L(zhǎng),根據(jù)正弦定理可知:

        文中為處理方便,選取了特定位置進(jìn)行計(jì)算,取Δα=|α2-α1|。在實(shí)際探測(cè)中,由于目標(biāo)出現(xiàn)的位置不定,應(yīng)根據(jù)目標(biāo)的位置具體分析。

        2 探測(cè)距離與誤差分析

        2.1 極限探測(cè)距離

        其中β為轉(zhuǎn)臺(tái)穩(wěn)定精度。

        2.2 定位誤差

        假設(shè)轉(zhuǎn)臺(tái)精度為0.01°,D為300mm,當(dāng)目標(biāo)出現(xiàn)在近距離L1=10m的位置時(shí),根據(jù)公式可知Δα=88.330955,則

        同理,當(dāng)目標(biāo)處于極限探測(cè)距離1.719km時(shí),根據(jù)公式可知Δα=89.99°,則

        由此可見(jiàn),定位誤差主要有轉(zhuǎn)臺(tái)穩(wěn)定精度和反射鏡與光學(xué)系統(tǒng)間距決定[6],且探測(cè)距離越近,定位精度越高。最大誤差出現(xiàn)在極限探測(cè)距離處。

        2.3 反射鏡安裝誤差

        2.3.1 偏轉(zhuǎn)誤差

        當(dāng)反射鏡俯仰方向存在±0.1°的偏差時(shí)[7],由于該測(cè)距系統(tǒng)對(duì)距離信息的探測(cè)主要依據(jù)水平方向上的角度差,所以俯仰方向的角度誤差對(duì)于距離探測(cè)影響不大。

        圖2 單站被動(dòng)式測(cè)距系統(tǒng)示意圖

        圖3 反射鏡水平偏轉(zhuǎn)示意圖

        當(dāng)反射鏡水平方向存在0.1°的偏差時(shí)反射鏡偏轉(zhuǎn)0.1°,光線偏轉(zhuǎn)0.2°,如圖3所示,由以下公式:

        以上可知,在不同探測(cè)距離會(huì)相應(yīng)出現(xiàn)0.2°時(shí)所對(duì)應(yīng)的距離誤差。

        2.3.2 位置誤差

        當(dāng)反射鏡由于安裝誤差而導(dǎo)致前后移動(dòng)ΔD時(shí),則

        當(dāng) D=300mm,ΔD=10mm,Δα=89.99時(shí),根據(jù)上式可知

        由此可知,在此種單站被動(dòng)式光學(xué)測(cè)距系統(tǒng)中,反射鏡前后位置和橫向位置的略微變化對(duì)探測(cè)距離影響不大。

        3 結(jié)論

        該方法具有簡(jiǎn)單易用,移動(dòng)性強(qiáng)的特點(diǎn)。但是其缺點(diǎn)也同樣是明顯的,那就是探測(cè)距離比較近,并且只有在近距離探測(cè)時(shí)誤差才會(huì)比較小。

        不過(guò),如果用該方法結(jié)合圖像處理或者人工輔助圖像標(biāo)識(shí)的的話,可以隱蔽、快速的對(duì)方位360°全視場(chǎng)內(nèi)所有近距離物體進(jìn)行三維立體成像[1]。從而時(shí)現(xiàn)對(duì)目標(biāo)外形特征的建模。

        [1]付小寧,吳德懷.只測(cè)角的單站三維紅外被動(dòng)測(cè)距算法[J].兵工學(xué)報(bào),2008,29(10):1188-1191.

        [2]路遠(yuǎn),凌永順,吳漢平,等.地面目標(biāo)的紅外被動(dòng)測(cè)距研究[J].紅外與毫米波學(xué)報(bào),2004,23(1):77-80.

        [3]劉科,謝敬輝,李卓.被動(dòng)式光學(xué)測(cè)距誤差分析[J].光學(xué)技術(shù),2005,31(4):586-591.

        [4]梅逐生.光電子技術(shù)[M].北京:國(guó)防工業(yè)出版社,2004:87-91.

        [5]王志堅(jiān).光學(xué)工程基礎(chǔ)[M].北京:兵器工業(yè)出版社,2005:98-101,136-139.

        [6]王之江,顧培夫.實(shí)用光學(xué)技術(shù)手冊(cè)[M].北京:機(jī)械工業(yè)出版社,2007:333-342.

        [7]郁道銀,談恒英.工程光學(xué)[M].北京:機(jī)械工業(yè)出版社,2004:125-128.

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