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        高壓和時(shí)效處理對(duì)銅鉻合金電導(dǎo)率的影響

        2013-08-16 10:22:34段文燕
        機(jī)械工程材料 2013年3期
        關(guān)鍵詞:時(shí)效電導(dǎo)率合金

        段文燕

        (秦皇島職業(yè)技術(shù)學(xué)院機(jī)電工程系,秦皇島066100)

        0 引 言

        銅鉻合金具有較高的抗壓強(qiáng)度、優(yōu)良的抗熔焊性能及載流能力,作為觸頭材料已在真空斷路器中得到了廣泛應(yīng)用[1-2]?,F(xiàn)代工業(yè)的迅速發(fā)展,對(duì)銅鉻合金的性能提出了更高的要求。目前,制備銅鉻合金的方法主要有粉末燒結(jié)法、熔滲法、電弧熔煉法、真空感應(yīng)熔煉法及快速凝固法等[3]。熔滲法制備的銅鉻合金觸頭抗壓強(qiáng)度高,抗電蝕能力好,且含氧量低,是制備銅鉻合金最常用的一種方法,但該方法的缺點(diǎn)是高溫熔滲時(shí),鉻在銅基體中的溶解度較高,冷卻后易形成過飽和固溶體,同時(shí)所制備的銅鉻合金致密性較差[4],影響其導(dǎo)電性能。據(jù)資料報(bào)道[5-6],高壓處理能細(xì)化金屬材料的組織,增大其致密性,改善其性能。但是涉及高壓處理對(duì)銅鉻合金導(dǎo)電性能影響的研究尚未見報(bào)道。為此,作者探討了3GPa高壓處理及時(shí)效處理對(duì)熔滲法制備銅鉻合金電導(dǎo)率的影響及相關(guān)機(jī)理。

        1 試樣制備與試驗(yàn)方法

        試驗(yàn)所用銅鉻合金由秦皇島通達(dá)觸頭材料公司采用真空熔滲法制備,其化學(xué)成分(質(zhì)量分?jǐn)?shù)/%)為50.47Cu,49.41Cr,其余為雜質(zhì)。將合金加工成尺寸為φ10mm×5mm的高壓試驗(yàn)用試樣,然后在CS-ⅡB型六面頂壓機(jī)上于920℃進(jìn)行高壓處理,壓力分別為1,3,6GPa,保溫時(shí)間20min,施壓示意如圖1所示,采用電阻方式加熱,斷電保壓冷卻至室溫,其冷卻壓頭的循環(huán)水流量約為0.8L·min-1。再對(duì)不同壓力處理前后的試樣在200,400,500,600℃時(shí)效0~3h,然后將其用1200#砂紙打磨、拋光及清水清洗后,用WD-Z型渦流電導(dǎo)儀測(cè)其電導(dǎo)率。試樣經(jīng)砂紙打磨、拋光后,用由3%FeCl3和10%HCl(體積分?jǐn)?shù))組成的混合溶液腐蝕,并用Axiovert200MAT型光學(xué)顯微鏡觀察顯微組織。

        圖1 施壓示意Fig.1 Schematic of pressure applying on sample

        2 試驗(yàn)結(jié)果與討論

        2.1 高壓處理對(duì)顯微組織的影響

        由圖2可以看出,3GPa高壓處理前后銅鉻合金的組織特征變化不明顯,鉻相均以不規(guī)則的顆粒狀分布于銅基體上,差別僅是高壓處理后的鉻相邊緣更光滑。不同壓力處理前后的組織變形類似,圖略。

        圖2 3GPa高壓處理前后合金的顯微組織Fig.2 Microstructure of Cu-Cr alloy before(a)and after(b)high pressure treatment

        2.2 高壓處理對(duì)電導(dǎo)率的影響

        由圖3可以看出,高壓處理前銅鉻合金的電導(dǎo)率為13.75MS·m-1,隨壓力的增大,電導(dǎo)率逐漸減小,當(dāng)壓力超過3GPa后,電導(dǎo)率的降幅不大。3GPa高壓處理后合金的電導(dǎo)率為12.47MS·m-1。

        圖3 高壓處理的壓力與銅鉻合金電導(dǎo)率的關(guān)系Fig.3 Electrical conductivity vs pressure for Cu-Cr alloy before and after high pressure treatment

        2.3 時(shí)效工藝對(duì)電導(dǎo)率的影響

        由圖4可以看出,高壓處理前后銅鉻合金的電導(dǎo)率均隨時(shí)效溫度的升高先增大后降低,時(shí)效溫度高于200℃后,高壓處理后合金的電導(dǎo)率高于處理前的;當(dāng)時(shí)效溫度為500℃時(shí),3種合金的電導(dǎo)率均達(dá)到峰值,其中3GPa壓力處理后合金的電導(dǎo)率(18.76MS·m-1)最高,較未高壓處理并且未時(shí)效處理(13.75MS·m-1)及未高壓處理但經(jīng)相同時(shí)效處理后的電導(dǎo)率(16.12MS·m-1)分別提高了34.44%和16.38%,超過500℃后電導(dǎo)率又開始下降。

        圖4 不同狀態(tài)銅鉻合金的電導(dǎo)率與時(shí)效溫度的關(guān)系Fig.4 Electrical conductivity vs aging temperature for Cu-Cr alloy in different state

        由圖5可見,在時(shí)效初期,3種合金的電導(dǎo)率均增長較快,高壓處理前合金的電導(dǎo)率在時(shí)效時(shí)間超過0.25h后增速變小,超2h后基本不變;而高壓處理后合金時(shí)效時(shí)間超過0.5h時(shí),電導(dǎo)率變化不大。另外,時(shí)效時(shí)間超過0.25h后,高壓處理合金電導(dǎo)率的增加幅度明顯高于高壓處理前合金電導(dǎo)率的,這表明高壓處理能縮短合金電導(dǎo)率達(dá)到較高值所需的時(shí)效時(shí)間,且高壓處理后再經(jīng)適當(dāng)?shù)臅r(shí)效處理能顯著提高合金的電導(dǎo)率。

        圖5 不同狀態(tài)銅鉻合金的電導(dǎo)率與時(shí)效時(shí)間的關(guān)系Fig.5 Electrical conductivity vs aging time for Cu-Cr alloy in different states

        銅合金的電導(dǎo)率主要受固溶原子、雜質(zhì)、空位、晶格畸變及位錯(cuò)等晶體缺陷對(duì)電子散射作用的綜合效應(yīng)的影響[7]。通常上述晶體缺陷密度越高,對(duì)電子的散射作用就越大,電導(dǎo)率就越低。由于高壓處理能造成銅鉻合金晶格畸變,增加了內(nèi)部位錯(cuò)等缺陷,加大了對(duì)電子的散射作用。故高壓處理后銅鉻合金的電導(dǎo)率有所降低,壓力越大,電導(dǎo)率越低。在隨后的時(shí)效處理過程中,銅鉻合金中的晶格畸變及位錯(cuò)等缺陷得以消除,過飽和固溶體發(fā)生分解,鉻以微粒的形式從固溶體中彌散析出[8]。根據(jù)Mathiessen理論[9],合金基體中固溶原子對(duì)電子散射能力遠(yuǎn)大于析出相對(duì)電子的散射能力,故銅鉻合金經(jīng)時(shí)效處理后的電導(dǎo)率有所升高。由于高壓處理后合金內(nèi)部存在高密度位錯(cuò)等缺陷,這些缺陷在隨后的時(shí)效過程中為鉻相的析出提供了更多的形核部位,促進(jìn)了鉻原子析出[10]。另外,高壓處理能增大金屬材料的致密性,減少材料內(nèi)部的顯微孔隙[11],這大大減小了對(duì)自由電子的散射幾率。因此,高壓處理后銅鉻合金的電導(dǎo)率達(dá)到較高值所需的時(shí)效時(shí)間較高壓處理前銅鉻合金的更短,其電導(dǎo)率也較之更高。至于銅鉻合金在500℃時(shí)效時(shí)可獲得較高的電導(dǎo)率,這是由于時(shí)效溫度過低時(shí),原子的活動(dòng)能力較弱,析出相少;時(shí)效溫度過高,析出來的鉻又有一部分重新溶解[12],出現(xiàn)過時(shí)效現(xiàn)象。

        3 結(jié) 論

        (1)高壓處理能降低銅鉻合金的電導(dǎo)率,而高壓處理后再經(jīng)適當(dāng)?shù)臅r(shí)效處理能提高合金的電導(dǎo)率,并縮短電導(dǎo)率達(dá)到較高值的時(shí)效時(shí)間。

        (2)銅鉻合金在3GPa壓力下加熱至920℃保溫20min并保壓冷卻至室溫后再在500℃時(shí)效2h可獲得的較高的電導(dǎo)率(18.76MS·m-1)。

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