王麗麗,季燕菊,付剛
(山東建筑大學(xué)理學(xué)院,山東 濟(jì)南 250101)
近些年來(lái),纖鋅礦ZnO的Ⅱ-Ⅵ族直接帶隙寬禁帶氧化物半導(dǎo)體材料成為研究的熱點(diǎn)。它具有大光電耦合系數(shù)、低介電常數(shù)、高化學(xué)穩(wěn)定性、高的激子結(jié)合能(60mev)及優(yōu)良的光電、壓電特性,它在室溫下的禁帶寬度為3.2eV[1],在透明導(dǎo)電薄膜、光電器件等領(lǐng)域有廣泛的應(yīng)用[2-4]。在 ZnO中摻雜不同的元素,能改變ZnO的結(jié)構(gòu)和帶隙寬度,使摻雜ZnO具有新的特性。理論計(jì)算表明[5],ZnO摻雜V、Cr、Co等元素能夠產(chǎn)生自旋極化,形成高于室溫的稀磁性透明半導(dǎo)體[6],是下一代微電子和光電子領(lǐng)域自旋電子學(xué)器件有重要價(jià)值的材料之一。根據(jù)理論計(jì)算,V摻雜的ZnO膜具有最高的居里溫度。Saeki等[7]利用激光脈沖法制備出居里溫度高于350K的釩摻雜鐵磁性氧化鋅膜。Vyatkin實(shí)驗(yàn)小組[8]用釩離子注入法獲得氧化鋅磁性膜。目前借助第一性原理研究V摻雜ZnO的電子結(jié)構(gòu)及相關(guān)性質(zhì)的報(bào)道較少,本文利用第一性原理方法對(duì)VxZn1-xO(X=0,0.042,0.083,0.125)的結(jié)構(gòu)進(jìn)行了研究,這種方法的可靠性已經(jīng)得到大量實(shí)際計(jì)算的驗(yàn)證[9,10]。
本文采用基于密度泛函理論(DFT)和平面波贗勢(shì)技術(shù)的CASTEP軟件包對(duì)纖鋅礦VxZn1-xO的能帶結(jié)構(gòu)和態(tài)密度進(jìn)行了計(jì)算,為盡量減少平面波基矢?jìng)€(gè)數(shù),采用了超軟贗勢(shì)來(lái)描述離子實(shí)與價(jià)電子之間的相互作用,選取 O-2s22p4,Zn-3d104s2,V-3d34s2組態(tài)電子作為價(jià)電子,其余軌道電子視為芯電子進(jìn)行計(jì)算。
理想的 ZnO是六方纖鋅礦結(jié)構(gòu),對(duì)稱(chēng)性為C6v-4,屬于 P63mc空間群,每個(gè)原胞有 4個(gè)原子,晶格常數(shù)為 a=b=0.3249nm,c=0.5206nm,α =β=90°,γ =120°,其中 c/a 為1.602。
本文計(jì)算中使用的超晶胞模型分別為ZnO(2×2×2)超晶胞,1個(gè)V原子替代1個(gè)Zn原子的ZnO(2×3×2)超晶胞、2個(gè)V原子替代2個(gè)Zn原子的ZnO(2×3×2)超晶胞和2個(gè)V原子替代2個(gè)Zn原子的ZnO(2×2×2)超晶胞使得V的摻雜濃度分別為 0、4.2%、8.3%、12.5%。為了保證計(jì)算精度,平面波截止能設(shè)為340eV,對(duì)布里淵區(qū)的積分計(jì)算使用 Monkors-Pack[11]方案,k點(diǎn)選取分別為 4 ×4 ×2,4×3×2,4×3×2和4×4×2,自洽收斂標(biāo)準(zhǔn)設(shè)為每個(gè)原子 2×10-5eV,每個(gè)原子上的力不大于0.5eV/nm,晶體內(nèi)應(yīng)力不大于0.1Gpa。
圖1所示,是VxZn1-xO優(yōu)化后得到的折合晶胞常數(shù)隨摻雜量X的變化,隨摻雜量X的增大,摻雜后的晶格常數(shù)a和c呈線性的增大,晶格發(fā)生了微小膨脹,與實(shí)驗(yàn)[12]中得到的結(jié)構(gòu)吻合,引起這種變化的主要原因我們認(rèn)為是由于V離子半徑與Zn離子半徑不同,V離子對(duì)Zn離子的代替引起晶格尺寸失配,產(chǎn)生了應(yīng)變,從而導(dǎo)致晶格略微變大,而在Sn摻雜In2O3材料中這種現(xiàn)象也被發(fā)現(xiàn)過(guò)。
圖1 VxZn1-xO的折合晶胞常數(shù)隨摻雜量X的變化
2.2.1 ZnO的能帶結(jié)構(gòu)和態(tài)密度
圖2 纖鋅礦ZnO的能帶結(jié)構(gòu)
圖3 纖鋅礦ZnO總態(tài)密度和分態(tài)密度
本文中,對(duì)ZnO優(yōu)化后,計(jì)算了ZnO的能帶結(jié)構(gòu)、總態(tài)密度和分波態(tài)密度,如圖2、3所示,計(jì)算出帶隙值為0.809eV,與其他文獻(xiàn)帶隙值(文獻(xiàn)[13]為0.80eV,文獻(xiàn)[14]為 0.73eV)基本一致,費(fèi)米能級(jí)(Ef)設(shè)置為0,ZnO的價(jià)帶頂和導(dǎo)帶底同位于布里淵區(qū)的高對(duì)稱(chēng)點(diǎn)Γ點(diǎn),是典型的直接帶隙半導(dǎo)體的能帶結(jié)構(gòu),在-18.3eV~-16.5eV存在定域性很強(qiáng)的O-2s電子,在-6.5eV~0eV之間主要是Zn-3d態(tài)電子和O-2p態(tài)電子構(gòu)成,價(jià)帶頂由O-2p態(tài)電子控制,導(dǎo)帶底由Zn-4s態(tài)電子控制,導(dǎo)帶由O-2p和Zn-4s態(tài)電子構(gòu)成,但Zn-4s態(tài)電子是主要貢獻(xiàn),且電子具有從Zn-4s態(tài)到O-2p態(tài)的躍遷現(xiàn)象。
2.2.2 V0.125Zn0.875O 的能帶結(jié)構(gòu)和態(tài)密度
圖4 V0.125Zn0.875O 的能帶結(jié)構(gòu)
圖5 V0.125Zn0.875O 的總態(tài)密度和分態(tài)密度
圖4、5 給出了 V0.125Zn0.875O 的能帶結(jié)構(gòu)和態(tài)密度,由圖4與圖2比較可知,V摻雜ZnO之后,禁帶寬度變小,體系引入的雜質(zhì)能級(jí)靠近導(dǎo)帶底,費(fèi)米能級(jí)進(jìn)入了導(dǎo)帶并且穿插在雜質(zhì)能級(jí)中,相對(duì)于ZnO來(lái)說(shuō),摻入V之后相當(dāng)于一個(gè)半導(dǎo)體的n型摻雜。同ZnO的態(tài)密度相比,V摻雜后,-21.4eV~-19.4eV主要由O-2s態(tài)電子貢獻(xiàn),-9.5eV ~ -2.7eV范圍內(nèi)的態(tài)密度主要由O-2p態(tài)電子和Zn-3d態(tài)電子構(gòu)成,在-1.4eV ~3.2eV 范圍內(nèi),V-3d電子態(tài)遠(yuǎn)大于最鄰近的O原子和次鄰近的Zn原子,是主要組成部分,有較強(qiáng)的局域性。價(jià)帶頂仍由O-2p態(tài)電子控制,導(dǎo)帶底由V-3d態(tài)電子控制,導(dǎo)帶由Zn-4s,O-2p和V-3d3p態(tài)電子共同構(gòu)成,雜質(zhì)能級(jí)主要來(lái)源于V-3d態(tài)電子。
圖6 純 ZnO和V0.125Zn0.875O的自旋態(tài)密度
圖7 V0.125Zn0.875O 的自旋分波態(tài)密度
從圖6中可以看出,V摻雜ZnO的自旋態(tài)密度在費(fèi)米能級(jí)附近,自旋向上和自旋向下的電子態(tài)密度分布具有不對(duì)稱(chēng)性,自旋向上和自旋向下的電子都發(fā)生了移動(dòng),而且自旋向上的電子數(shù)比自旋向下的電子數(shù)多,對(duì)態(tài)密度進(jìn)行積分后發(fā)現(xiàn)V摻雜ZnO體系表現(xiàn)出凈磁矩,具有磁性,因?yàn)樵?eV附近的態(tài)密度峰對(duì)應(yīng)空能級(jí),因此磁性主要來(lái)源于-2eV~1eV附近的那兩個(gè)態(tài)密度峰,而這兩個(gè)峰主要由V-3d3p態(tài)電子與O-2p態(tài)電子組成。結(jié)合圖7發(fā)現(xiàn),當(dāng)V摻雜后,V-3d態(tài)電子與O-2p態(tài)電子的態(tài)密度分布大部分重合,形成了pd雜化,這為稀磁半導(dǎo)體材料具有新穎的磁光和磁電性能提供了依據(jù)[15]。
本文采用了DFT結(jié)合超軟贗勢(shì)的方法,對(duì)摻雜V的ZnO性質(zhì)進(jìn)行了研究,通過(guò)對(duì)摻雜前后ZnO的能帶結(jié)構(gòu)、態(tài)密度等的比較,發(fā)現(xiàn)V摻雜ZnO后,隨著摻雜量X的增大,晶格發(fā)生了微小膨脹,這對(duì)帶隙減小有一定的作用。V的摻雜屬于ZnO的n型摻雜,在費(fèi)米能級(jí)附近,態(tài)密度分布具有不對(duì)稱(chēng)性,表現(xiàn)出了磁性,而磁性主要來(lái)源于V-3d3p態(tài)電子與O-2p態(tài)電子組成的那兩個(gè)態(tài)密度峰。V-3d態(tài)電子與O-2p態(tài)電子形成了pd雜化,這對(duì)摻雜后的材料具有磁光和磁電性能提供了依據(jù)。
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