康婷霞畢翱翔朱俊
MoO3在多孔γ-Al2O3中固熔分散的研究*
康婷霞 畢翱翔 朱俊
(武漢大學(xué)物理系,武漢430072)
(2010年5月11日收到;2010年9月13日收到修改稿)
用MoO3與多孔γ-Al2O3載體以機(jī)械混合法制備了一系列MoO3/γ-Al2O3樣品.用掃描電子顯微鏡、X射線衍射、X射線光電子能譜分析、綜合熱分析(TG/DTA)和正電子湮沒譜學(xué)研究了MoO3加載于γ-Al2O3后固熔分散過程.分別測量了不同含量的MoO3/γ-Al2O3經(jīng)不同溫度與不同時(shí)間烘烤后,以及采用逐步加載方式所得樣品的正電子壽命譜.實(shí)驗(yàn)結(jié)果揭示了MoO3的熱擴(kuò)散過程:表現(xiàn)為MoO3逐步向載體的外表面、二次孔以及微孔中擴(kuò)散;采用逐次加載方式能使MoO3更有效地在γ-Al2O3載體中分散;碾磨對MoO3的熱擴(kuò)散過程有影響.
正電子湮沒譜學(xué),三氧化鉬,分散,逐次加載
PACS:78.70.Bj,68.35.Fx
活性金屬組分在多孔材料中的分散一直是人們感興趣的問題,為此已建立了許多物理模型來研究多孔材料[1]及活性組分在其中的分散過程[2,3].由于有很強(qiáng)的應(yīng)用價(jià)值及不溶于水等性質(zhì),MoO3常被用于研究其在多孔載體中的分散.其中,最簡單的加載方法是將MoO3粉體與多孔載體γ-Al2O3直接機(jī)械混合,再通過熱分散,可在遠(yuǎn)低于MoO3熔點(diǎn)溫度下實(shí)現(xiàn)活性物種鉬的分散.這是由于分散后體系的熵明顯增加,而且鉬在多孔表面生成新鍵,其強(qiáng)度與未分散時(shí)相當(dāng),結(jié)果導(dǎo)致體系的總自由能下降.有文獻(xiàn)指出,在MoO3/γ-Al2O3樣品中,MoO3是以單層分散于載體的內(nèi)表面上,并有部分生成Al2(MoO4)[4,5]3;其單層分散的閾值為0.24 g/g[6](相當(dāng)于MoO3含量為19.35%);還有人用X射線衍射(XRD)、激光拉曼光譜法測定MoO3在γ-Al2O3中的分散容量[7,8];也有人用正電子湮沒譜學(xué)研究Mo/Al2O3催化劑的內(nèi)表面狀態(tài)[9,10].
目前有很多手段可以表征金屬活性物種在多孔材料中的分散,如XRD、X射線光電子能譜(XPS)分析、掃描電子顯微鏡(SEM)、紅外光譜(IR)等.正電子湮沒譜學(xué)也常被用于多孔材料孔徑及孔內(nèi)表面狀態(tài)的研究[11,12],并從理論上研究正電子在多孔材料中的壽命[13,14].本文采用機(jī)械混合法將MoO3微晶粉體加載于多孔γ-Al2O3中,研究了MoO3在多孔載體γ-Al2O3中的固熔分散過程,用SEM,XRD,XPS,綜合熱分析技術(shù)(TG/DTA)和正電子湮沒壽命譜學(xué)來研究烘烤溫度、MoO3含量、烘烤時(shí)間以及不同的加載方式對MoO3在γ-Al2O3中固熔分散過程的影響.
2.1.樣品制備
將MoO3微晶粉體與多孔γ-Al2O3原粉以不同的質(zhì)量比通過機(jī)械混合得到MoO3/γ-Al2O3樣品,并分別將γ-Al2O3原粉與MoO3/γ-Al2O3粉末經(jīng)碾磨壓片形成直徑為10 mm的薄片.再將樣品分為5組:A組,將γ-Al2O3原粉及MoO3/γ-Al2O3(10%,以MoO3質(zhì)量計(jì))樣品分別經(jīng)100—600℃下烘烤1 h; B組,將MoO3/γ-Al2O3(10%)分別經(jīng)500℃烘烤1—4 h;C組,分別將含量為1.0%,3.0%,5.0%,8.0%,10%,15%,20%的MoO3/γ-Al2O3經(jīng)500℃烘烤1 h;D組,將含量為3.0%,6.3%,9.0%,14.3%,18.2%的MoO3/γ-Al2O3分別經(jīng)500℃烘烤1 h,2 h,3 h,5 h,6 h;E組,首先配成含量為3.0%的MoO3/γ-Al2O3經(jīng)500℃烘烤1 h的樣品,然后,依次再添加一定量的MoO3,并再經(jīng)碾磨混合及500℃烘烤1 h,逐次配成MoO3含量為6.3%,9.2%,11.6%,14.8%,19.4%的MoO3/γ-Al2O3共6種樣品.
2.2.實(shí)驗(yàn)測量
測量中采用FEI Nova NanoSEM 630型SEM,樣品為表面噴鉑的粉末樣,觀察樣品的形貌,并采用能量色散譜(EDS)測量樣品不同位置的Mo含量.采用德國BRUKER AXS公司生產(chǎn)的D8 ADVANCE型XRD儀,Cu陽極,40 kV/40 mA,掃描速度為4°/ min.采用英國KROTOS公司生產(chǎn)的800 SIMS型XPS儀,分辨率為0.9 eV/104,信背比為30∶1.熱分析采用德國耐馳公司生產(chǎn)的Thermal Analyzer型綜合熱分析儀,測量樣品的熱重(TG)和差熱分析(DTA)性質(zhì),溫度范圍從室溫到800℃,升溫速度為10℃/ min,氬氣保護(hù).所有正電子壽命譜測量均在室溫真空(1.5 Pa)下進(jìn)行,且保持測量參數(shù)不變,每個(gè)譜的計(jì)數(shù)為1.5×106.
實(shí)驗(yàn)中的γ-Al2O3由撫順石油化工研究院提供,是由假一水氧化鋁脫水制得.其孔主要有兩種形式:微孔(平均孔徑約為0.9 nm)與二次孔(平均孔徑為7.7 nm),比表面積為183 m2/g.在一定的條件下,金屬離子能通過活性中心與載體發(fā)生相互作用,從而影響金屬離子在載體內(nèi)表面上分散.
3.1.SEM實(shí)驗(yàn)結(jié)果
圖1純MoO3與MoO3/γ-Al2O3(10%)樣品的SEM形貌圖(a)純MoO3;(b)碾磨后未烘烤;(c)經(jīng)300℃烘烤后;(d)經(jīng)600℃烘烤后
圖1 為純MoO3與MoO3/γ-Al2O3(10%)原樣及經(jīng)不同溫度烘烤后樣品的SEM形貌圖.由圖1可以知道純MoO3的表面非常光滑,呈典型的微晶形貌;對于碾磨后未烘烤的樣品,MoO3在電子顯微鏡下很容易找到,且表面不再光滑,這是因?yàn)檠心?dǎo)致了MoO3表面非晶化;對于300℃烘烤后的樣品,表面非晶化的MoO3開始分散,因此電子顯微鏡下的MoO3再次變得光滑;樣品經(jīng)600℃烘烤后,絕大部分的MoO3已經(jīng)分散到了樣品中,在電子顯微鏡下很難找到MoO3晶體,所剩的MoO3呈典型的微晶形貌.顯然,樣品經(jīng)過碾磨后,表面的MoO3非晶化,這些非晶化的MoO3更容易熱分散,即碾磨對于MoO3在γ-Al2O3上的熱分散起著一定的作用.
3.2.XRD實(shí)驗(yàn)結(jié)果
在XRD實(shí)驗(yàn)中,Al2(MoO4)3的特征峰(2θ= 23.50°)表現(xiàn)得極不明顯,這可能是由于MoO3在載體中主要表現(xiàn)為單層分散所致.圖2為MoO3/γ-Al2O3(10%)經(jīng)不同溫度烘烤1 h后MoO3的特征峰(2θ=27.34°)面積與半峰全寬隨烘烤溫度的關(guān)系.由圖2可知,當(dāng)烘烤溫度在400℃以下,峰面積保持不變,峰寬也保持不變,說明MoO3晶粒含量不變,晶粒的大小未發(fā)生顯著變化.當(dāng)烘烤溫度達(dá)到400℃以上,隨著烘烤溫度的上升,峰的面積逐漸下降,而峰寬逐漸增大,表明MoO3晶粒數(shù)量逐漸減少,晶粒大小也在減小,即只有在高于400℃的溫度烘烤下,MoO3的分散才明顯地表現(xiàn)出來;烘烤溫度越高,這種分散越明顯.顯然,經(jīng)500℃烘烤1 h后,雖有大部分的MoO3擴(kuò)散于載體之中,但還有相當(dāng)一部分MoO3微晶存在,這樣我們就可以用不同的方式來表征500℃的烘烤對其擴(kuò)散的影響.
圖2 MoO3/γ-Al2O3(10%)烘烤后MoO3特征峰面積與半峰全寬隨烘烤溫度的變化
圖3 為不同含量的MoO3/γ-Al2O3樣品經(jīng)過500℃烘烤1 h后的XRD特征峰(2θ=27.34°)半高寬.當(dāng)MoO3含量小于8%時(shí),XRD譜中MoO3特征峰不明顯.當(dāng)MoO3含量大于8%時(shí),特征峰的半峰全寬逐漸減?。@表明碾磨使樣品外表面出現(xiàn)了非晶化.隨著含量的增多,各MoO3微晶之間的相互熱擴(kuò)散增多.換言之,隨著含量的增多,高溫退火使得原非晶區(qū)有所晶化,原微晶區(qū)略有增大,表現(xiàn)為特征峰的半峰全寬隨含量的增加而略有下降.這也說明碾磨對于MoO3的熱分散有影響.
圖3 MoO3/γ-Al2O3經(jīng)500℃烘烤后的XRD特征半峰全寬隨含量的變化
3.3.XPS實(shí)驗(yàn)結(jié)果
圖4為MoO3/γ-Al2O3(10%)樣品分別經(jīng)不同溫度烘烤后的XPS譜中鉬峰與氧峰的強(qiáng)度比(IMo/ IO)與鋁峰與氧峰的強(qiáng)度比(IAl/IO)隨烘烤溫度的變化.由圖4可知,經(jīng)低溫烘烤后,IMo/IO很小,即Mo峰強(qiáng)度很小,幾乎被淹沒在其背景噪聲中,表明低于400℃的烘烤還不能使MoO3明顯分散;隨著烘烤溫度的升高,Mo峰明顯增高,這是由于高于400℃的烘烤后,就可使Mo在外表面明顯地分散.從IAl/IO=0.37,且?guī)缀醪浑S烘烤溫度變化可知,由于鋁原子較小,鋁原子主要處于氧原子間隙之中,而Mo原子也主要處于氧原子間隙之中,所以,Mo離子的單層分散不會直接影響到IAl/IO的值.從熱分散后的IMo/IO=0.4,略大于IAl/IO值,表明MoO3在外表面己均勻地單層分散.
圖4 MoO3/γ-Al2O3(10%)樣品的XPS譜中IMo/IO與IAl/IO隨烘烤溫度的變化
3.4.熱分析結(jié)果
實(shí)驗(yàn)分別測量了γ-Al2O3載體原粉、MoO3/γ-Al2O3(10%)原樣及MoO3/γ-Al2O3(10%)經(jīng)500℃烘烤后的DTA和TG,結(jié)果如圖5所示.3種樣品在DTA圖中87℃左右都有一個(gè)明顯的吸熱峰,同時(shí)在TG圖中明顯下降,說明樣品在87℃左右脫去物理吸附水.從純γ-Al2O3載體看,整個(gè)熱失重過程可分為脫去物理吸附水(小于150℃)與脫去(由表面活性羥基與質(zhì)子酸結(jié)合而形成的)化學(xué)吸附水(大于150℃)兩部分,其中,脫去化學(xué)吸附水可以分為3段:脫去表面化學(xué)吸附水(150—350℃),脫去體內(nèi)化學(xué)吸附水(350—600℃),及脫去骨架上的化學(xué)吸附水(600—800℃);3段失重分別為5.1%,4.4%,1.4%.對于MoO3/γ-Al2O3(10%)原樣,脫去化學(xué)吸附水也可以分為類似的3段,3段失重分別為9.6%,9.0%,1.4%.在250—300℃有一個(gè)明顯的放熱峰,這是由于Mo離子取代γ-Al2O3活性表面上的質(zhì)子酸,加速了脫去化學(xué)吸附水.在350—500℃有一個(gè)吸熱峰,從樣品失重9.0%可知,這是γ-Al2O3脫去其體內(nèi)化學(xué)吸附水所致.對于MoO3/γ-Al2O3(10%)烘烤后的樣品卻沒有這兩個(gè)峰,與純載體的相似,3段失重分別為4.2%,2.0%,0.9%,這表明Mo離子取代了質(zhì)子酸后不僅使表面化學(xué)吸附水減少,而且使體內(nèi)的化學(xué)吸附水減少.3種樣品在600—800℃內(nèi)脫附量相當(dāng),且有放熱出現(xiàn),表明高溫烘烤會脫去體內(nèi)骨架上的化學(xué)吸附水,導(dǎo)致孔坍塌,形成α相.
圖5 γ-Al2O3,MoO3/γ-Al2O3(10%)原樣和經(jīng)500℃烘烤1 h后的DTA和TG(a)DTA圖;(b)TG圖
3.5.正電子湮沒譜學(xué)結(jié)果
正電子是電子的反粒子.當(dāng)高能正電子由放射源射向樣品后,在幾個(gè)皮秒內(nèi)熱化.熱化后的正電子除了能與電子直接發(fā)生湮沒或形成仲正電子素(p-Ps)后再湮沒產(chǎn)生γ光子(其壽命都不超過0.5 ns)外,還有一部分正電子能與表面價(jià)電子形成正正電子素(o-Ps,其本征壽命為142 ns).由于載體表面存在著猝滅效應(yīng),因此可以利用o-Ps的壽命及相應(yīng)的強(qiáng)度對材料微結(jié)構(gòu)的敏感變化來研究其結(jié)構(gòu)性質(zhì)[15].
所測樣品的正電子壽命譜用PATFIT程序擬合.在γ-Al2O3載體中存在4個(gè)壽命分量[16].τ1對應(yīng)著正電子在體相中的湮沒和p-Ps的湮沒,τ2對應(yīng)著正電子在孔中的自由湮沒,長壽命分量τ3和τ4分別為o-Ps在γ-Al2O3微孔和二次孔中的湮沒壽命.
3.5.1.烘烤溫度對分散的影響
圖6為純γ-Al2O3和MoO3/γ-Al2O3(10%)的τ4,I4及τ3,I3隨烘烤溫度的變化.由圖6可知,對于純γ-Al2O3樣品而言,從100℃至600℃,τ4基本不變,I4先升高后保持不變.這是因?yàn)樵诘陀?00℃烘烤下,γ-Al2O3的二次孔結(jié)構(gòu)基本不變,隨著烘烤溫度的增加,γ-Al2O3脫去化學(xué)吸附水的數(shù)量增多,使得載體表面的鋁氧八面體所帶負(fù)電顯現(xiàn),而這對正電子有吸引作用,從而使生成o-Ps的數(shù)量增加,導(dǎo)致I4上升.當(dāng)溫度高于350℃時(shí),γ-Al2O3基本脫去了表面化學(xué)吸附水,I4保持不變;同時(shí)載體的二次孔徑不變,使得τ4不變.同樣,對于微孔,τ3和I3的變化也可得類似的結(jié)果.上述結(jié)果表明,低于350℃烘烤主要脫去表面化學(xué)吸附水,而高于350℃烘烤主要脫去體相中的化學(xué)吸附水.
圖6 純γ-Al2O3和MoO3/γ-Al2O3(10%)的τ4,I4及τ3,I3隨烘烤溫度的變化(a)τ4;(b)I4;(c)τ3;(d)I3
MoO3/γ-Al2O3(10%)經(jīng)100℃烘烤,僅脫去物理吸附水,MoO3不能發(fā)生擴(kuò)散,因而,其二次孔中的τ4與純γ-Al2O3載體的基本相同;同時(shí),由于MoO3表面的氧離子會吸引一部分正電子直接湮沒,表現(xiàn)為I4比純γ-Al2O3載體的低.在烘烤過程中,Mo離子獲得了熱能,由表面向內(nèi)擴(kuò)散.隨著烘烤溫度升高,越來越多的MoO3在二次孔中擴(kuò)散,使二次孔徑略有減小,表現(xiàn)為τ4隨烘烤溫度的增加略有減小;同樣,Mo離子在擴(kuò)散中以取代質(zhì)子酸的形式與載體相互作用,減弱了二次孔內(nèi)鋁氧八面體所帶的負(fù)電,使得I4的變化與純γ-Al2O3載體相比速度減緩.當(dāng)烘烤溫度從100℃上升到350℃時(shí),ΔI4=略有增加,表明在低溫烘烤時(shí)仍有少量的Mo離子擴(kuò)散;當(dāng)烘烤溫度在350—600℃時(shí),ΔI4明顯增加,表現(xiàn)為有大量的Mo離子擴(kuò)散.同樣,隨著烘烤溫度的改變,τ3,I3也發(fā)生與τ4,I4類似的變化,然而的變化明顯低于ΔI4,說明MoO3在載體二次孔中分散的同時(shí)只有少量MoO3向載體的微孔中分散.這個(gè)結(jié)果顯然與以上所述的熱分析結(jié)果是一致的,Mo離子在低于350℃烘烤下就基本上能完成與載體表面相互作用過程,高于350℃烘烤下Mo離子的分散就明顯地改變了載體內(nèi)表面狀態(tài).
3.5.2.烘烤時(shí)間對分散的影響
圖7為MoO3/γ-Al2O3(10%)樣品的τ4,I4及τ3,I3隨烘烤時(shí)間的變化.由圖7可以看出,MoO3/γ-Al2O3(10%)經(jīng)500℃烘烤1 h增加到4 h時(shí),τ4只有微小的變化,I4隨著烘烤時(shí)間的增加而下降.這說明從MoO3微晶到MoO3均勻分散于載體的二次孔中是需要一定時(shí)間的.同樣,τ3和I3的變化表明MoO3在微孔的分散過程與其在二次孔中類似,只不過是相應(yīng)的擴(kuò)散量要少些.
圖7 MoO3/γ-Al2O3(10%)的τ4,I4及τ3,I3隨烘烤時(shí)間的變化(a)τ4,(b)I4,(c)τ3,(d)I3
3.5.3.MoO3含量對分散的影響
圖8為MoO3/γ-Al2O3經(jīng)500℃烘烤1 h后的τ4,I4及τ3,I3隨MoO3含量的變化.由圖8可知,τ4隨含量的增加而呈線性減少,表明MoO3近似均勻地在二次孔中擴(kuò)散;I4先線性減少至15%,然后不變,表明在低于15%時(shí)為單層分散,高于15%為多層分散;τ3與I3隨著的含量增加而略有減少,也表明只有少量的MoO3進(jìn)入了微孔.
3.5.4.不同加載方式對分散的影響
從圖7和圖8可以知道,MoO3經(jīng)500℃烘烤后在載體中的擴(kuò)散程度與含量及烘烤時(shí)間有關(guān).為了進(jìn)一步分析其擴(kuò)散與含量及烘烤時(shí)間的關(guān)系,我們又分別測量了不同含量經(jīng)不同時(shí)間烘烤后的MoO3/ γ-Al2O3樣品(D組樣品),其τ4與I4值列于表1.
B,C,D這3組樣品都是一次混合形成所需MoO3/γ-Al2O3樣品,之后經(jīng)500℃烘烤不同時(shí)間制得的.將3組數(shù)據(jù)進(jìn)行完全二次擬合,得到τ4C與I4C的擬合表達(dá)式為
其中m表示MoO3含量在樣品中的百分比,t表示烘烤時(shí)間,以小時(shí)為單位.
顯然,在τ4C與I4C的擬合表達(dá)式中,m與t的一次項(xiàng)為負(fù),而二次項(xiàng)為正,表明在MoO3的分散過程中,開始擴(kuò)散較明顯,隨時(shí)間的增加而減慢,最后達(dá)到均勻,這一點(diǎn)與文獻(xiàn)[17]中所提出的擴(kuò)散動力學(xué)方程一致.對于低含量而言,擴(kuò)散相對較明顯;相反,對于高含量而言,由于MoO3微晶之間的相互擴(kuò)散,使得擴(kuò)散到載體中的MoO3相對有效量變少.這一點(diǎn)與SEM及XRD的結(jié)果一致,它表明在描述上述擴(kuò)散過程中不能只用單點(diǎn)源擴(kuò)散方程所描述,而應(yīng)該用有源連續(xù)性方程來描述.同時(shí),擬合表達(dá)式還表明,MoO3在分散過程中m和t是彼此相關(guān)的,高含量短時(shí)間烘烤與低含量長時(shí)間烘烤相當(dāng);其交叉項(xiàng)mt為負(fù)也說明了高含量長時(shí)間烘烤更有利于分散.
圖8 MoO3/γ-Al2O3的τ4,I4及τ3,I3隨MoO3含量的變化(a)τ4,(b)I4,(c)τ3,(d)I3
表1 不同含量的MoO3/γ-Al2O3樣品經(jīng)500℃烘烤后τ4和I4的值
為了進(jìn)一步揭示MoO3含量對擴(kuò)散的影響,我們利用逐次小量地增加其含量與烘烤,并分別測量其τ4E與I4E(E組樣品),其結(jié)果列于表2.表2中的烘烤時(shí)間為形成樣品的總烘烤時(shí)間.作為對比,表2還列出了用一次加載方式所得的擬合表達(dá)式計(jì)算得到的相應(yīng)τ4C和I4C值.
與由擬合表達(dá)式計(jì)算所得τ4C和I4C對比可知,E組樣品得到的τ4E和I4E值變化比較明顯,即隨著樣品中MoO3含量的增加及烘烤時(shí)間的加長,τ4E和I4E值下降更快.這一變化表明,MoO3在載體中的擴(kuò)散與樣品的加載方式有關(guān),采用逐次加載的方式,更有利于MoO3在γ-Al2O3載體中的分散.
表2 E組樣品的τ4E與I4E結(jié)果以及根據(jù)擬合表達(dá)式計(jì)算得到的τ4C和I4C值
總之,對于MoO3/γ-Al2O3固-固分散體系,單層分散過程對于載體表面是一級反應(yīng),其速率常數(shù)不僅與兩相的性質(zhì)、配比以及分散溫度和時(shí)間有關(guān),還與加載方式有關(guān).
用機(jī)械混合法得到的樣品,隨烘烤溫度的增加,MoO3能以固熔方式逐漸分散到多孔γ-Al2O3載體中,并以取代質(zhì)子酸的方式與γ-Al2O3發(fā)生相互作用.實(shí)驗(yàn)結(jié)果揭示了MoO3微晶在多孔γ-Al2O3載體中分散的微觀過程;我們可以用經(jīng)驗(yàn)公式來描述烘烤時(shí)間與含量對500℃烘烤后MoO3熱分散的影響,其中含量與烘烤時(shí)間之間具有明顯的關(guān)聯(lián).碾磨對于MoO3在γ-Al2O3上的分散起著積極作用; 500℃烘烤就可明顯地觀察到MoO3的擴(kuò)散,其擴(kuò)散過程為首先在外表面擴(kuò)散上,其次在二次孔中擴(kuò)散,再次在微孔中擴(kuò)散;長時(shí)間烘烤及高含量有利于MoO3在其中的分散;采用逐次加載方式,MoO3能更有效地在γ-Al2O3載體中分散.
[1]ˇCapek P,Hejtmánek V,Brabec L,ZikánováA,Koˇciˇrík M 2007 Chem.Eng.Sci.62 5117
[2]KoˇcíP,těpánek F,Kubíˇcek M,Marek M 2007 Chem.Eng.Sci.62 5380
[3]Dong L,Chen Y 2000 Chin.J.Inorg.Chem.16 250(in Chinese)[董林、陳懿2000無機(jī)化學(xué)學(xué)報(bào)16 250]
[4]Xu X P,Zhao B Y,Xie Y C,Tang Y Q,Yang X C 1992 Chin.J.Catal.13 97(in Chinese)[徐獻(xiàn)平、趙璧英、謝有暢、唐有祺、楊先春1992催化學(xué)報(bào)13 97]
[5]Liu Y J,Xie Y C,Ming J,Liu J,Tang Y Q 1982 Chin.J.Catal.3 262(in Chinese)[劉英駿、謝有暢、明晶、劉軍、唐有祺1982催化學(xué)報(bào)3 262]
[6]Xiao F S,Zheng S,Sun J M,Yu R B,Qiu S L,Xu R R 1998 J.Catal.176 474
[7]Zhang Y H,Xu Y D,Shi Y Z 1987 Chin.J.Catal.8 27(in Chinese)[張誼華、徐奕德、石映禎1987催化學(xué)報(bào)8 27]
[8]Liu Y J,Xie Y H,Li C 1984 Chin.J.Catal.5 234(in Chinese)[劉英駿、謝有暢、李冊1984催化學(xué)報(bào)5 234]
[9]Zhang H J,Wang D,Chen Z Q,Wang S J,Xu Y M,Luo X H 2008 Acta Phys.Sin.57 7333(in Chinese)[張宏俊、王棟、陳志權(quán)、王少階、徐友明、羅錫輝2008物理學(xué)報(bào)57 7333]
[10]Luo X H,He J H 2003 Acta Petrol.Sin.19 1(in Chinese)[羅錫輝、何金海2003石油學(xué)報(bào)19 1]
[11]Zhu J,Wang L L,Ma L,Wang S J 2003 Acta Phys.Sin.52 2929(in Chinese)[朱俊、王莉莉、馬莉、王少階2003物理學(xué)報(bào)52 2929]
[12]Kobayashi Y,Ito K,Oka T,Hirata K 2007 Radiat.Phys.Chem.76 224
[13]Dong X J,Hu Y F,Wu Y Y 2010 Chin.Phys.B 19 013601
[14]Chen X L,Xi C Y,Ye B J,Weng H M 2007 Acta Phys.Sin.56 6695(in Chinese)[陳祥磊、郗傳英、葉邦角、翁惠民2007物理學(xué)報(bào)56 6695]
[15]Lu T,Yu W Z,Zhou H Y,Zhu G H,Wang X F,Wang C 2001 Chin.Phys.10 145
[16]Zhu J,Wang S J,Luo X H 2003 Radiat.Phys.Chem.68 541
[17]Guo H Y,Wang Z X,Liu Y J,Gao L,F(xiàn)ang G,Tang Y Q 1990 J.Mol.Catal.4 188(in Chinese)[郭洪猷、王作新、劉英駿、高嵐、方剛、唐有祺1990分子催化4 188]
PACS:78.70.Bj,68.35.Fx
Solid state dispersions of Mointo porousγ-*
Kang Ting-Xia Bi Ao-Xiang Zhu Jun
(Department of Physics,Wuhan University,Wuhan 430072,China)
(Received 11 May 2010;revised manuscript received 13 September 2010)
A series of the MoO3/γ-Al2O3samples is prepared by mechanically mixing MoO3withγ-Al2O3powder.The solid state dispersion of the MoO3in to the porousγ-Al2O3is studied by SEM,XRD,XPS,TG/DTA,and positron annihilation spectroscopy.The positron annihilation lifetime spectra of the MoO3/γ-Al2O3are measured as a function of the mass ratio of MoO3,heating temperature,heating time and in a way that the MoO3is loaded gradually,separately.The experimental results show the process of the thermal dispersion of the MoO3into theγ-Al2O3support.It is shown that the MoO3disperses into the outer surface first,and then into the secondary pores and the micro pores.The gradual Loading can make MoO3effectively dispersed intoγ-Al2O3.Grinding can also affecte the thermal dispersion process.
positron annihilation spectroscopy,molybdenum trioxide,dispersion,loading gradually
*國家自然科學(xué)基金(批準(zhǔn)號:10675093)資助的課題.
.E-mail:zhuj@whu.edu.cn
*Project supported by the National Natural Science Foundation of China(Grant No.10675093).
Corresponding author.E-mail:zhuj@whu.edu.cn