高通 (Qualcomm)先進(jìn)工程部資深總監(jiān)MattNowak日前指出：在使用高密度的硅穿孔(TSV)來實(shí)現(xiàn)芯片堆疊的量產(chǎn)以前，這項(xiàng)技術(shù)還必須再降低成本才能走入市場。他同時(shí)指出：業(yè)界對(duì)該技術(shù)價(jià)格和商業(yè)模式的爭論，將成為這項(xiàng)技術(shù)未來發(fā)展的阻礙。

“如果我們無法解決價(jià)格問題，那么TSV的發(fā)展道路將更加漫長，”Nowak說。他同時(shí)指出，在價(jià)格與成本之間仍然存在的極大障礙，加上新技術(shù)的不確定性所隱含的風(fēng)險(xiǎn)，以及實(shí)際的量產(chǎn)需求，形成了三個(gè)TSV技術(shù)所面臨的難題。

部份業(yè)界人士認(rèn)為，到2014年，智能手機(jī)用的移動(dòng)應(yīng)用處理器可能會(huì)采用TSV技術(shù)，成為率先應(yīng)用TSV量產(chǎn)的產(chǎn)品。JEDEC正在擬訂一個(gè)支持TSV的WideI/O存儲(chǔ)器介面，其目標(biāo)是成為下一代采用層疊封裝(PoP)的低功耗DDR3鏈接的繼任技術(shù)。

“可提供12.8GB/s的LPDDR3主要針對(duì)下一代層疊封裝元件應(yīng)用，但W ideI/O也具有其市場潛力，”Nowak說，他同時(shí)負(fù)責(zé)高通的TSV技術(shù)部份?！凹夹g(shù)上來說，WideI/O可自2014年起進(jìn)入應(yīng)用，然而，價(jià)格和商業(yè)模式仍將是該技術(shù)發(fā)展的阻礙。”

TSV技術(shù)將提升性能，同時(shí)也將降低功耗及縮小元件尺寸，以應(yīng)對(duì)包括移動(dòng)處理器在內(nèi)的各種應(yīng)用需求,TSV的致命弱點(diǎn)仍然是它的成本。Nowak說：“W ideI/ODRAM的價(jià)格較現(xiàn)有的PoP配置高出許多，而PoP也不斷改良，甚至未來有可能設(shè)法再開發(fā)出一個(gè)新世代的產(chǎn)品”。一個(gè)名為EMC-3D的業(yè)界組織最近表示，以目前用于量產(chǎn)的工具模型為基礎(chǔ)來推估，TSV將使每片晶圓增加約120美元的成本。

目前該技術(shù)仍然缺乏明確的商業(yè)模式，而且定價(jià)問題也頗為復(fù)雜，Nowak說。例如，當(dāng)晶圓廠制作完成，以及在完成封裝后，哪個(gè)環(huán)節(jié)該為良率負(fù)責(zé)？“一些公司可以扮演整合者的角色，但未來整個(gè)商業(yè)模式可能會(huì)有稍許改變，”他同時(shí)指出，目前業(yè)界已經(jīng)初步形成了一些TSV供應(yīng)鏈的伙伴關(guān)系。

高通已經(jīng)設(shè)計(jì)出一款28nm TSV元件的原型?！拔覀冡槍?duì)這項(xiàng)技術(shù)進(jìn)行了大量的開發(fā)工作，”Nowak說。

更廣泛地說，TSV可協(xié)助半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)延續(xù)其每年降低30%晶體管成本的傳統(tǒng)。Nowak也表示，在不使用TSV技術(shù)的情況下，由于超紫外光(EUV)延遲而不斷上升的光刻成本，也對(duì)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)維持光刻和進(jìn)展的步伐提出嚴(yán)峻挑戰(zhàn)。

好消息是工程師們?cè)诮鉀QTSV堆疊所面臨的挑戰(zhàn)方面時(shí)有進(jìn)展?！半m然挑戰(zhàn)仍然很多，但至少目前我們已經(jīng)建立了一些基礎(chǔ)和所需的專有知識(shí)，”他同時(shí)指出，臺(tái)積電(TSMC)今年度在VLSISymposium上報(bào)告已建構(gòu)出一種更好的TSV介電質(zhì)襯底(dielectricliner)。工程師展示了高度深寬比(aspectratios)為10:1的試制過孔，并減輕了外部銅材料擠壓過孔的問題。

Nowak還引用了一些背面晶圓加工、薄化晶圓的臨時(shí)托盤開發(fā)情況，并展示了有時(shí)用于取代過孔的連接微凸塊。EDA供應(yīng)商也在架構(gòu)工具和2D建構(gòu)工具方面取得了進(jìn)展。

“你可以設(shè)計(jì)一個(gè)設(shè)備來使用這些工具，”他說。然而，目前這些工具仍然缺乏有關(guān)機(jī)械應(yīng)力、封裝和芯片水準(zhǔn)的交換數(shù)據(jù)標(biāo)準(zhǔn)。業(yè)界仍需為在TSV應(yīng)用中“大幅減少”的靜電放電水平容差定義標(biāo)準(zhǔn)。

另外，業(yè)界也正在開發(fā)測試程序。“目前仍不清楚在量產(chǎn)時(shí)是否會(huì)使用到微探針(micro-probing)”他指出，重點(diǎn)是要削減成本，但“我們?nèi)栽谠黾訙y試步驟?！?/p>