楊 斌,何國(guó)強(qiáng),劉佩進(jìn),齊宗滿
(西北工業(yè)大學(xué)燃燒、流動(dòng)和熱結(jié)構(gòu)國(guó)家級(jí)重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室,西安710072)
隨著激光的出現(xiàn)和光譜學(xué)的發(fā)展,大量激光光譜燃燒診斷技術(shù)興起并發(fā)展,推動(dòng)了燃燒研究的進(jìn)步[1],可調(diào)諧半導(dǎo)體激光器吸收光譜技術(shù)(Tunable Diode Laser Absorption Spectroscopy,TDLAS)[2]是其中研究碳?xì)淙剂先紵顬橛辛Φ脑\斷技術(shù)之一,可實(shí)現(xiàn)諸如溫度、組分濃度、壓強(qiáng)、密度和速度等參數(shù)測(cè)量。并且該技術(shù)利用通信用途、室溫工作的半導(dǎo)體激光器,具有高可靠性、快時(shí)間響應(yīng)和遠(yuǎn)程控制能力,特別適用于高溫惡劣環(huán)境的溫度測(cè)量。
在碳?xì)淙剂先紵校琀2O作為最重要的燃燒產(chǎn)物之一,對(duì)監(jiān)控燃燒發(fā)生的位置、時(shí)間和程度有重要意義,并且H2O在通信用分布反饋式(Distributed feedback,DFB)半導(dǎo)體激光器工作波段(1.25 μm ~1.65 μm)內(nèi)具有較強(qiáng)吸收,因此,常作為 TDLAS燃燒診斷技術(shù)的目標(biāo)分子[3]。TDLAS技術(shù)通常利用雙激光器或多激光器組成的時(shí)分復(fù)用(Time Division Multiplexing,TDM)[4]或波分復(fù)用(Wavelength Division Multiplexing,WDM)[5]系統(tǒng)開展雙線測(cè)溫。目前,隨著二極管激光器的發(fā)展,利用單激光器實(shí)現(xiàn)雙線技術(shù)成為可能,這對(duì)簡(jiǎn)化系統(tǒng)、降低成本有重要意義,并且隨著半導(dǎo)體激光器光譜分辨率的提高和調(diào)制范圍的拓寬,單激光器吸收光譜系統(tǒng)測(cè)量精度不斷提高[6-9],這為其廣泛應(yīng)用奠定基礎(chǔ)。在單激光器吸收光譜系統(tǒng)設(shè)計(jì)中,雙線譜線對(duì)優(yōu)選分析是關(guān)鍵,目前,普遍采用高分辨分子吸收光譜數(shù)據(jù)庫(kù)(High Resolution Transmis-sion Molecular Absorption Database,HITRAN)[10]作為TDLAS系統(tǒng)設(shè)計(jì)和定量分析工具。
本文針對(duì)1 000 K~2 500 K典型碳?xì)淙剂先紵h(huán)境,利用 HITRAN 光譜數(shù)據(jù)庫(kù),對(duì) 1.25 μm ~1.65 μm內(nèi)H2O吸收譜線進(jìn)行優(yōu)選分析,據(jù)此設(shè)計(jì)用于燃?xì)鉁囟葴y(cè)量的單激光器吸收光譜系統(tǒng),并將其應(yīng)用于平面火焰爐燃?xì)鉁囟葴y(cè)量。
TDLAS技術(shù)是將激光波長(zhǎng)調(diào)制到特定組分吸收頻域,通過測(cè)量激光束經(jīng)待測(cè)區(qū)域的衰減程度,實(shí)現(xiàn)氣態(tài)流場(chǎng)參數(shù)測(cè)量的一種燃燒診斷技術(shù)。如圖1所示,半導(dǎo)體激光器產(chǎn)生激光,光強(qiáng)為Ii,激光通過待測(cè)氣體后由光電探測(cè)器接收,透射光強(qiáng)為It。當(dāng)激光頻率v[cm-1]與氣體吸收組分躍遷頻率相同時(shí),激光能量被吸收。定義傳播分?jǐn)?shù)Tv,入射光強(qiáng)與透射光強(qiáng)滿足Beer-Lambert定律:
圖1 TDLAS基本原理示意圖
其中,h[Js]為普朗克常量;c[cm/s]為真空中光速;k[J/K]為波爾茲曼常數(shù);E″[cm-1]為低能級(jí)能量;T0[K]為參考溫度(通常取296 K);Q(T)為吸收組分配分函數(shù),是溫度的分段函數(shù)[12]。定義積分吸收率A:
如圖2所示,在直接吸收光譜技術(shù)(Direct Absorption Spectroscopy,DAS)中,當(dāng)兩個(gè)不同頻率的激光通過同一光程,壓強(qiáng)、組分濃度和光程相同,根據(jù)式(3)可知,雙線積分吸收率之比可化簡(jiǎn)為譜線強(qiáng)度之比,并且是溫度的單值函數(shù),即:
因此,通過實(shí)驗(yàn)測(cè)量雙吸收譜線中心附近吸收光譜,得到積分吸收率比值,便可通過該單值函數(shù)關(guān)系計(jì)算溫度。由式(2)、式(4)可知,雙線測(cè)溫靈敏度為:
圖2 DAS技術(shù)雙線測(cè)溫原理示意圖
雙線譜線選擇是TDLAS系統(tǒng)設(shè)計(jì)的核心問題,Arroyo等人[6]研究認(rèn)為,不同的雙譜線對(duì)選擇對(duì)于TDLAS系統(tǒng)測(cè)溫精度有重要影響,尤其是在單激光器吸收光譜系統(tǒng)中,由于單激光器調(diào)制范圍有限,雙線譜線對(duì)選擇更為苛刻。Zhou等人[7-9]針對(duì)溫度范圍1 000 K~2 500 K、組分濃度5% ~20%、光程5 cm、均勻的碳?xì)淙剂先紵h(huán)境,設(shè)計(jì)了基于DAS技術(shù)和二次諧波探測(cè)調(diào)制光譜技術(shù)(Wavelength Modulation Spectroscopy with 2f detection,WMS-2f)技術(shù)的單激光器吸收光譜系統(tǒng),其譜線選擇原則如下:①雙線應(yīng)具有足夠的吸收率以保證較高的信噪比;②雙線譜線強(qiáng)度應(yīng)在低溫范圍內(nèi)較小,而在高溫范圍內(nèi)較大,以避免環(huán)境中H2O的干擾;③大氣壓條件下,雙線譜線中心應(yīng)滿足單激光器調(diào)制范圍;④雙線應(yīng)有足夠的低能級(jí)能量差以保證較高的測(cè)溫靈敏度;⑤雙線應(yīng)盡可能避免鄰近譜線干擾。
此外,對(duì)于諸如發(fā)動(dòng)機(jī)等特殊燃燒環(huán)境,由于流場(chǎng)不僅存在邊界層,還存在燃料噴霧造成的局部低溫區(qū),而TDLAS測(cè)溫是溫度在光程上的平均值,因此,為保證溫度測(cè)量結(jié)果更具參考意義,Xiang Ouyang等人[13]認(rèn)為,譜線選擇過程還需重點(diǎn)考慮譜線強(qiáng)度與溫度的相關(guān)性。
忽略式(2)較小項(xiàng),可得:
等式兩邊取對(duì)數(shù),微分可得:
由于邊界層譜線強(qiáng)度受譜線低能級(jí)能量與邊界層溫度范圍的關(guān)系影響。令dS/dT=0,定義能量函數(shù)E(T):
代入H2O分子配分函數(shù),可計(jì)算出能量函數(shù)E(T)隨溫度的變化關(guān)系,如圖3所示。
圖3 H2O分子能量函數(shù)E(T)隨溫度變化曲線
邊界層引起的積分吸收率變化量可表示為:
其中,A為邊界層中H2O的積分吸收率;δ為邊界層厚度;ξ為光程積分變量;下標(biāo)c表示與流場(chǎng)核心區(qū)一致參數(shù);下標(biāo)b表示實(shí)際邊界層參數(shù)。
式(7)、(8)代入式(9)可得,
由此可知,ΔA受參數(shù)T2影響大,在高溫范圍內(nèi),ΔA較小,而在低溫范圍內(nèi),ΔA較大,因此應(yīng)重點(diǎn)考慮低溫范圍內(nèi)E″對(duì)ΔA的影響。由圖3可知,在1 000 K~2 500 K溫度區(qū)間中,1 968≤E(T)≤6 435[cm1],因此,需要排除低能級(jí)能量較小的吸收譜線。
綜上所述,對(duì)于溫度范圍1 000 K~2 500 K、組分濃度5% ~20%、光程15 cm的碳?xì)淙剂先紵鲌?chǎng)溫度測(cè)量,譜線選擇按表1步驟進(jìn)行優(yōu)選,最終得到 7 153.7487、154.354 cm-1雙線譜線對(duì)滿足上述原則,其譜線參數(shù)如表2所示。
表1 單激光器系統(tǒng)雙線譜線對(duì)選擇結(jié)果
表2 優(yōu)選譜線對(duì)譜線參數(shù)
以10%H2O-90%空氣混合氣體為例,基于HITRAN數(shù)據(jù)庫(kù),開展不同溫度下 7 153.748、7 154.354 cm-1雙線譜線對(duì)鄰近區(qū)域吸收光譜計(jì)算,如圖4所示,可知鄰近譜線對(duì)該譜線對(duì)干擾較小。
圖 4 7 153.748、7 154.354 cm -1譜線對(duì)H2O吸收光譜計(jì)算
根據(jù)式(2)開展譜線強(qiáng)度隨溫度變化關(guān)系計(jì)算,如圖5所示,可知在1 000 K~2 500 K溫度范圍內(nèi),雙線譜線強(qiáng)度比值在0.2~5范圍內(nèi),雙線測(cè)量不確定度相似,這有利于雙線比值的精確確定。根據(jù)式(5)開展雙線測(cè)溫靈敏度隨溫度變化關(guān)系計(jì)算,如圖6所示,就滿足單激光器調(diào)制范圍內(nèi)譜線對(duì)來(lái)說(shuō),該譜線對(duì)擁有較好測(cè)溫靈敏度。
圖5 譜線強(qiáng)度隨溫度變化關(guān)系
圖6 譜線對(duì)測(cè)溫靈敏度隨溫度變化關(guān)系
甲烷-空氣McKenna平面火焰爐是產(chǎn)生標(biāo)準(zhǔn)均勻高溫燃?xì)獾闹匾獙?shí)驗(yàn)工具[14],其溫度和組分濃度的等值面平行于爐面,通過調(diào)節(jié)當(dāng)量比和氣體流量,可實(shí)現(xiàn)燃?xì)鉁囟群徒M分濃度的改變。其中,燃?xì)鉁囟瓤赏ㄟ^熱電偶測(cè)量修正得到。實(shí)驗(yàn)系統(tǒng)如圖7所示。本文采用直接吸收光譜技術(shù),利用信號(hào)發(fā)生器(Tektonix AFG3022B)產(chǎn)生鋸齒波(幅值:3 V,頻率:100 Hz)控制激光控制器(ILXLightwave Inc LDC-3724B,控制溫度:37.1 ℃,控制電流:50.00 mA)輸出電流,從而實(shí)現(xiàn)對(duì)DFB半導(dǎo)體激光器(NTT Electronics Corporation 1 397 nm)的調(diào)制。激光器輸出激光經(jīng)過1×2(10%/90%)光纖分路器分為兩束光,一束(10%)由自由光譜范圍為1.5 GHz的標(biāo)準(zhǔn)具(ThorsLab SA2000-12A)接收,用來(lái)監(jiān)控激光相對(duì)頻率變化,另一束(90%)由準(zhǔn)直器發(fā)射,經(jīng)直徑6 cm的Mckenna平面火焰爐(LaVisionUK Ltd)15 mm高度火焰,由探測(cè)器(InGaAs,Φ2 mm)接收,探測(cè)器電壓信號(hào)由數(shù)據(jù)采集系統(tǒng)(NI PXI-1042,采樣頻率:1 000 kHz)記錄并存儲(chǔ)。平面火焰爐15 mm高度處火焰溫度通過B型熱電偶(鉑銠30-鉑銠6)測(cè)量。此外,為消除環(huán)境H2O的影響,激光光程利用氮?dú)膺M(jìn)行吹除。
圖7 用于平面火焰爐溫度測(cè)量的單激光器吸收光譜系統(tǒng)
將實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)開展1 s時(shí)間內(nèi)平均處理,可得時(shí)均曲線,如圖8所示,其中,入射光強(qiáng)Ii可由零吸收擬合基線獲得。標(biāo)準(zhǔn)具接收信號(hào)根據(jù)四次多項(xiàng)式擬合,可得到激光相對(duì)頻率變化與時(shí)間的對(duì)應(yīng)關(guān)系,如圖9所示。由此,根據(jù)式(1)便可得到譜線中心附近吸收光譜,如圖10所示。由于燃燒環(huán)境下,分子吸收光譜符合伏依特線型函數(shù),因此,可通過多峰伏依特線型函數(shù)擬合得到雙線積分吸收率,并根據(jù)圖5所示的對(duì)應(yīng)關(guān)系推斷燃?xì)鉁囟取?/p>
圖8 探測(cè)器和標(biāo)準(zhǔn)具典型實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)
由圖8可知,本文開展的實(shí)驗(yàn)中,雙線譜線對(duì)在該燃燒環(huán)境下吸收較弱,這是因?yàn)槲章适枪獬躺戏肿游盏睦鄯e,而本文采用的平面火焰爐直徑相對(duì)較小,因此吸收較弱。為進(jìn)一步增強(qiáng)吸收,提高系統(tǒng)信噪比,可通過增加燃燒環(huán)境光程,或者利用平面鏡多次反射增加光程的方法實(shí)現(xiàn),此外,對(duì)于較弱吸收,還可利用WMS-2f技術(shù)提高系統(tǒng)信噪比。
圖9 標(biāo)準(zhǔn)具干涉條紋擬合曲線
圖10 實(shí)驗(yàn)測(cè)量吸收光譜與伏依特函數(shù)擬合曲線
通過調(diào)節(jié)平面火焰爐當(dāng)量比和氣體流量值,可產(chǎn)生不同溫度燃?xì)?,本文利用單激光器吸收光譜系統(tǒng)開展8個(gè)工況下平面火焰爐燃?xì)鉁囟葴y(cè)量,甲烷流量調(diào)節(jié)范圍 1.0 L/min ~4.5 L/min,空氣流量調(diào)節(jié)范圍10 L/min~45 L/min,平面火焰爐15 mm高度處燃?xì)鉁囟仍? 000 K~1 800 K范圍內(nèi)變化。與此同時(shí),利用B型熱電偶測(cè)量平面火焰爐15 mm高度處燃?xì)鉁囟龋瑴y(cè)量值經(jīng)熱輻射損失修正。將TDLAS系統(tǒng)和熱電偶測(cè)量結(jié)果比較,如圖11所示,最大誤差為125 K(9.2%),圖中虛線內(nèi)為熱電偶測(cè)量值±10%溫度范圍,可知,本文設(shè)計(jì)的單激光器吸收光譜系統(tǒng)對(duì)于1 000 K~1 800 K測(cè)溫范圍,誤差不超過10%。
圖11 熱電偶測(cè)溫值與TDLAS系統(tǒng)測(cè)溫結(jié)果比較
本文針對(duì)1 000 K~2 500 K典型碳?xì)淙剂先紵h(huán)境,利用HITRAN光譜數(shù)據(jù)庫(kù),對(duì)通信用分布反饋式半導(dǎo)體激光器工作波段(1.25 μm ~1.65 μm)內(nèi)H2O吸收譜線進(jìn)行優(yōu)選分析,發(fā)現(xiàn) 7 153.748、7 154.354 cm-1雙線譜線對(duì)滿足單激光器調(diào)諧條件,并且對(duì)高溫燃?xì)鉁囟葴y(cè)量具有較好的抗干擾能力和測(cè)溫靈敏度。因此,選用1 397 nm半導(dǎo)體激光器設(shè)計(jì)了用于燃?xì)鉁囟葴y(cè)量的單激光器吸收光譜系統(tǒng),并將其應(yīng)用于平面火焰爐燃?xì)鉁囟葴y(cè)量,測(cè)量結(jié)果與熱電偶測(cè)量結(jié)果比較,最大相對(duì)差值不超過10%。
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