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        基于XPS的蘋(píng)果表皮殘留農(nóng)藥界面層的氬刻分析

        2010-09-22 02:20:00張欣艷王樂(lè)新
        關(guān)鍵詞:樂(lè)果表皮農(nóng)藥

        張欣艷,趙 達(dá),王樂(lè)新,王 暢

        (黑龍江八一農(nóng)墾大學(xué)文理學(xué)院,黑龍江 大慶 163319)

        蘋(píng)果表皮含有豐富的有機(jī)酸、纖維素、維生素、抗氧化成分及生物活性物質(zhì)等,尤其黃酮類(lèi)物質(zhì)是一種高效抗氧化劑,它可以對(duì)抗自由基,保護(hù)細(xì)胞膜,是癌癥的克星[1]。但由于蘋(píng)果果實(shí)中殘留農(nóng)藥主要分布于表皮,導(dǎo)致多數(shù)人對(duì)蘋(píng)果采取削皮食用的方法。目前,蘋(píng)果農(nóng)藥殘留研究的樣品主要來(lái)源于蘋(píng)果果實(shí)中某一部位的綜合處理,對(duì)殘留農(nóng)藥的具體位置不甚清晰。如若能夠?qū)r(nóng)藥殘留部位進(jìn)行具體分析,繼而選擇更具有針對(duì)性、有效和節(jié)能的方式去除殘留農(nóng)藥,使得營(yíng)養(yǎng)豐富的果皮可放心地食用,無(wú)疑意義重大。

        本文運(yùn)用χ射線(xiàn)光電子能譜(χ-ray Photoelectron Spectroscopy,PS)[2-4],配合離子刻蝕系統(tǒng)沿表皮縱向進(jìn)行微觀(guān)深度分析,表征蘋(píng)果表皮殘留氧樂(lè)果及敵敵畏的具體部位,以期能夠?yàn)樘O(píng)果表皮農(nóng)藥浸入、轉(zhuǎn)化及探索無(wú)損祛除農(nóng)藥殘留的物理方法提供基礎(chǔ)數(shù)據(jù)。

        1 材料與方法

        1.1 材料及儀器

        1.1.1 材料

        紅富士蘋(píng)果采自山東棲霞(生長(zhǎng)中未施任何農(nóng)藥);氧樂(lè)果20%乳油(產(chǎn)自河北方舟農(nóng)業(yè)科技有限公司);敵敵畏80%乳油(產(chǎn)自河南東方人農(nóng)化有限公司);農(nóng)藥(均購(gòu)自黑龍江省農(nóng)科院)。

        1.1.2 儀器及測(cè)試條件

        XPS型號(hào):ESCA750(日本島津),激發(fā)源為MgKα(能量 hγ=1 253.6 eV),測(cè)試電壓 10 kV,電流30 mA,樣品室真空度優(yōu)于5.3×10-7Pa,Ar+離子管電流16 mA,出射束流2.5 μA,C1s譜圖采用XPSPEAK41專(zhuān)用軟件(選40%Gussian-Lorentzian)進(jìn)行分峰擬合。采用氬離子刻蝕去除表面污染。以C1S(285.0 eV)為定標(biāo)標(biāo)準(zhǔn)進(jìn)行結(jié)合能校正。

        1.2 方法

        1.2.1 未施藥蘋(píng)果表皮C1s的氬刻分析

        蘋(píng)果清洗干凈,表皮取樣,制成厚度0.5 mm、直徑>6 mm切片,置于載玻片間,放于恒溫箱35℃烘干,導(dǎo)電膠粘于樣品托架上,電子中和槍消除表面荷電效應(yīng)。氬離子刻蝕表面,每次氬刻時(shí)間為90 s,XPS掃描圖譜,峰位擬合,計(jì)算主要元素相對(duì)含量并對(duì)峰位歸屬進(jìn)行分析。

        1.2.2 界面層氧(O)、碳(C)比隨濃度的縱向分析

        分別勾兌濃度依次為2%、4%、6%、8%和10%氧樂(lè)果農(nóng)藥和敵敵畏農(nóng)藥,陰干后取樣置于載玻片間放入恒溫箱35℃烘干,形成平整待測(cè)樣品,表皮取樣,制成厚度0.5 mm、直徑>6 mm切片,置于載玻片間,放于恒溫箱35℃烘干,導(dǎo)電膠粘于樣品托架上,電子中和槍消除表面荷電效應(yīng)。分時(shí)段進(jìn)行氬離子刻蝕,XPS掃譜分析O/C比值,繪制曲線(xiàn)反映農(nóng)藥隨濃度不同而呈現(xiàn)的滲入規(guī)律。

        1.2.3 界面層氧(O)、碳(C)比隨施藥時(shí)間的縱向分析

        分別勾兌濃度為8%的氧樂(lè)果農(nóng)藥和敵敵畏農(nóng)藥,依次經(jīng)3、5、7 d取樣,置于載玻片間放入恒溫箱35℃烘干,導(dǎo)電膠粘于樣品托架上,電子中和槍消除表面荷電效應(yīng)。分時(shí)段進(jìn)行氬離子刻蝕,XPS掃譜分析O/C比值,繪制曲線(xiàn)反映農(nóng)藥隨施藥時(shí)間呈現(xiàn)的滲入規(guī)律。

        2 結(jié)果與分析

        2.1 蘋(píng)果表皮C1s的縱向氬刻分析

        蘋(píng)果表皮主要元素相對(duì)含量及比值如表1,未刻蝕時(shí)O/C比值相對(duì)稍高,可能是樣品經(jīng)表面處理后仍就不可避免地附著了少量的O,但與前三次氬刻相比,變化不大,在接下來(lái)的氬刻中,O元素的含量明顯增多,O/C比值加大,元素組成顯示由表皮層向內(nèi)果皮成分過(guò)度。

        表1 蘋(píng)果表皮刻蝕各元素相對(duì)含量及比值Table1 Relative content and the ratio of elements for Ar ion beam etching apple cuticle (%)

        氬刻第2次、氬刻第4次的C1s峰的XPS分峰擬合圖譜見(jiàn)圖1。根據(jù)加拿大的Dorris和Gray對(duì)木材碳原子劃分分峰擬合C1s各峰[5-7],C元素四種結(jié)構(gòu)形式的相對(duì)含量見(jiàn)表2。C1含量隨著氬刻的繼續(xù)深入明顯降低,而C2、C3、C4含量有所升高,說(shuō)明C-O、C=O、O-C=O含量增加,即厚度約為18 μm處就已經(jīng)進(jìn)入表皮層。表皮層是角質(zhì)層向果皮層過(guò)渡的區(qū)域。成分中的角質(zhì)、蠟被等脂類(lèi)物質(zhì)相對(duì)含量減少,果膠、纖維素及半纖維素為主的糖類(lèi)物質(zhì)增多。表皮物質(zhì)由角質(zhì)逐漸向胞間質(zhì)果膠、纖維素等糖類(lèi)過(guò)渡,其中羧酸根主要由單寧和有機(jī)酸提供。

        2.2 兩種農(nóng)藥的界面探測(cè)

        蘋(píng)果表皮中物質(zhì)與殘留農(nóng)藥相互滲透,形成一個(gè)具有微觀(guān)厚度的界面層。分別勾兌濃度為10%的氧樂(lè)果和10%的敵敵畏涂抹于蘋(píng)果樣品,陰干后取樣置于載玻片間放入恒溫箱35℃烘干,形成平整待測(cè)樣品,對(duì)比施藥前后氬刻結(jié)果,農(nóng)藥滲入深度為氬刻第2次的深度內(nèi),根據(jù)魏欽平對(duì)山東棲霞蘋(píng)果表皮形貌的分析結(jié)果推算[8],蘋(píng)果與農(nóng)藥形成的界面層大約在10 μm內(nèi)。

        圖1 果皮氬刻第2次、第4次C1s的XPS擬合圖譜Fig.1 XPS fitting spectra of the second and fourth C1s of the Ar etching on the cuticle

        2.2.1 界面層中氧(O)、碳(C)比隨濃度的縱向分析

        結(jié)果見(jiàn)圖2。

        圖2 界面層中O/C隨濃度及氬刻時(shí)間變化Fig.2 Variation of oxygen/carbon on boundary layer with the consistence and time application

        表2 兩次氬刻后C元素四種結(jié)構(gòu)峰位及相對(duì)含量Table2 Four kinds of struncture peak positions and relative contents of the carbon element after the second aretching

        未施藥樣品與施用不同濃度氧樂(lè)果農(nóng)藥后的樣品中O/C比值隨氬刻時(shí)間的變化曲線(xiàn)如圖2a。曲線(xiàn)具有相似的規(guī)律性,隨氬刻時(shí)間亦即隨深度的增加,氧樂(lè)果在蘋(píng)果果皮中的殘留呈現(xiàn)非線(xiàn)性遞減的趨勢(shì),在各濃度情況下,O/C比值達(dá)到未施藥時(shí)的狀態(tài)所需的氬刻時(shí)間分別為1、1.5、2、2.5和3 min,亦即在施藥3 d的時(shí)間內(nèi),在分別施用2%、4%、6%、8%和10%氧樂(lè)果農(nóng)藥的樣品中,農(nóng)藥滲入的深度分別約為3、6、9、12和 15 μm,具有明顯的規(guī)律性。隨濃度的增加,表皮中農(nóng)藥的殘留量已具有明顯的增加趨勢(shì),未施藥樣品中未氬刻O(píng)/C比值比氬刻后的O/C比值稍高,主要原因應(yīng)為未刻蝕前表皮中附著了少量的O所致。

        圖2b為施用不同濃度敵敵畏農(nóng)藥時(shí),界面層中O/C隨氬刻時(shí)間變化曲線(xiàn)。圖中各條曲線(xiàn)與施用氧樂(lè)果農(nóng)藥的情況類(lèi)似。不同之處在于曲線(xiàn)陡度比施用氧樂(lè)果的情況要小,在相同施藥時(shí)間內(nèi),敵敵畏的滲入較快,但殘留量相對(duì)較小。不同濃度O/C達(dá)到未施藥狀態(tài)所需氬刻時(shí)間分別為2、2、2、3、4 min,規(guī)律性相對(duì)較差。

        2.2.2 界面層中氧(O)、碳(C)比隨施藥時(shí)間的縱向分析

        圖3 施用濃度均為8%的農(nóng)藥界面層中O/C隨施藥時(shí)間及氬刻時(shí)間變化Fig.3 Variation of oxygen/carbon on boundary layer with the volume application and time application

        施用濃度均為8%的氧樂(lè)果和敵敵畏的蘋(píng)果樣品界面層中O/C隨施藥時(shí)間的變化曲線(xiàn)如圖3。從圖3a中可明顯看出,施用氧樂(lè)果的蘋(píng)果表皮界面層中各條O/C曲線(xiàn)都較為平滑,陡度隨濃度的增加而減?。浑S著深度的增加,表皮中農(nóng)藥殘留呈現(xiàn)非線(xiàn)性降低的趨勢(shì);隨施藥時(shí)間的增加,蘋(píng)果表皮未刻蝕部分的氧樂(lè)果農(nóng)藥的殘留量降低,在3~7 d內(nèi),最表層的農(nóng)藥殘留下降不是非常明顯,而在蘋(píng)果表皮下約為2~8 μm之間,農(nóng)藥殘留隨施藥時(shí)間的增加而增加,與最表層的變化截然相反。施用濃度為8%氧樂(lè)果農(nóng)藥3 d后,農(nóng)藥浸入深度約為6 μm,施藥5~7 d,農(nóng)藥浸入深度約為8 μm。圖3b中敵敵畏農(nóng)藥隨時(shí)間的縱向變化曲線(xiàn)與圖3a相似,但曲線(xiàn)的陡度相較于施用氧樂(lè)果農(nóng)藥要小。界面層中各條O/C曲線(xiàn)陡度隨濃度的增加而減??;隨深度的增加,表皮中農(nóng)藥殘留呈現(xiàn)非線(xiàn)性降低的趨勢(shì);隨施藥時(shí)間的增加,蘋(píng)果表皮未刻蝕部分的敵敵畏農(nóng)藥的殘留量降低,并且與圖3a相比,這種降低表現(xiàn)得稍微明顯一些。而在蘋(píng)果表皮下約為2~8 μm之間,農(nóng)藥殘留隨施藥時(shí)間的增加而增加,與圖3a情況相比,差別稍小。施用濃度為8%敵敵畏農(nóng)藥3 d后,農(nóng)藥浸入深度約為6 μm,施藥5至7 d,農(nóng)藥浸入深度約為8 μm。

        3 結(jié)論

        研究結(jié)果表明,蘋(píng)果表皮C元素以四種狀態(tài)存在。殘留農(nóng)藥主要存在于蘋(píng)果表皮角質(zhì)層區(qū),距表皮大約8 μm以?xún)?nèi)。因此,蘋(píng)果表皮殘留農(nóng)藥的去除重點(diǎn)針對(duì)于表皮下8 μm以?xún)?nèi)處理即可。另外,兩種殘留農(nóng)藥隨深度及時(shí)間的變化規(guī)律相似,均呈現(xiàn)出非線(xiàn)性遞減的趨勢(shì);同等施藥濃度和施藥時(shí)間的條件下,氧樂(lè)果的浸入深度及殘留量都要高于敵敵畏。

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