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        金屬光澤釉的研究*

        2010-09-07 06:27:08吉艷光
        陶瓷 2010年9期
        關鍵詞:釉面陶瓷

        吉艷光

        (唐山惠達陶瓷(集團)股份有限公司 河北唐山 063307)

        金屬光澤釉的研究*

        吉艷光

        (唐山惠達陶瓷(集團)股份有限公司 河北唐山 063307)

        在陶瓷釉料中加入金屬氧化物,如二氧化錳、氧化鈦、氧化銅、氧化鎳等,生成具有金屬光澤的陶瓷釉面。關鍵詞 金屬氧化物 陶瓷 釉面

        近年來,隨著國內陶瓷行業(yè)迅速發(fā)展,人們的消費觀念在不斷更新,對產品的要求也在不斷提高。在陶瓷釉料中加入金屬氧化物,生成具有金屬光澤的釉面,是陶瓷工業(yè)者普遍追求的目標。

        1 原料

        化工原料:碳酸鋇、氧化鋅、鉛丹、二氧化錳、氧化銅、氧化鎳、堿面、CMC。

        礦物原料:鉀長石、石英、方解石、滑石、蘇州土。

        熔塊:鉀長石、石英、碳酸鋇、氧化鋅,鉛丹。

        坯料:選用實驗室生產的圓形坯體(直徑為53?)和方形磚坯(100?×100?)作為試驗釉載體。

        2 實驗

        2.1 實驗儀器及設備

        電子天平、高鋁坩堝(250 ml)、箱式電爐、石棉手套、快速研磨機、樹脂搖鈴罐、350目萬孔篩、40目篩、量筒(100 ml)、秒表、激光粒度儀。

        2.2 工藝流程

        1)熔塊制備工藝流程:按熔塊組成計算配方→配料→球磨→出磨→烘箱內烘干→過40目篩→箱式電阻爐(1 150℃)中徹底熔融→水淬→碾細→過40目篩→備用。

        2)金屬光澤釉制備工藝流程:按各種原料組成計算配方→配料→球磨→檢驗→物性檢測→施釉→入窯燒成→測燒后性能。

        3)工藝參數。配制熔塊和釉料的礦物原料均為粉料:熔塊熔制溫度為1 100~1 150℃。

        實驗室球磨時:料∶球∶水=1.0∶2.0∶0.7;半工業(yè)實驗時:料:球:水=1.0∶2.0∶0.5;

        釉漿細度:350目萬孔篩篩余量為0.2%~0.4%;

        釉漿體積密度:1.70~1.74 g/φ;

        釉漿粘度:15~16 s/100 ml。

        2.3 配方設計及最優(yōu)化確定

        2.3.1 配方設計

        原則:只有合理的配方才能制出好的釉漿,只有好的釉漿才能保證生產的正常運行,取得良好的經濟效益。一般遵循以下原則:

        1)熟悉掌握各種原料的特性,根據生產需要正確選用合適的原料。

        2)滿足生產工藝要求,也就是釉漿的性能、干燥速度、流動性等要滿足施釉操作和燒成工藝的要求,且坯釉結合要好。

        3)考慮原料的成本和來源,對主要原料要求其資源豐富,質量穩(wěn)定,價格低廉,為生產優(yōu)質低價產品打下良好基礎。

        本設計是對原有配方加以改進,用蘇州土代替原配方中的高嶺土,用方解石代替原配方中的輕質碳酸鈣,用鉀長石代替原配方中的湖南長石,通過本設計調整的配方達到原配方的性能,原有生產設備、燒成制度不改變,使燒出的陶瓷釉面呈現不同的光澤。

        2.3.2 制備的優(yōu)化

        目前,金屬光澤釉的生產方法主要有4種:

        1)用金水、電光水等涂敷表面,經熱處理后,使陶瓷表面呈現金屬光澤效果。

        2)在陶瓷表面直接噴涂有機或無機金屬熱溶液。3)在陶瓷釉面,直接濺射或蒸鍍金屬涂層。

        4)在適當組成的釉中,加入金屬氧化物或事先將金屬氧化物制成色劑加入,經過焙燒,產生金屬光澤和不同色調的釉面。

        以上第一種方法所用原料昂貴,又因是釉上彩,不耐用;第二種方法原料也昂貴,又需另添置熱處理及環(huán)保設備;第三種方法設備費、鍍液費高,還要求產品設計小,因此這3種方法均難以推廣和應用。第四種方法工藝簡單,成本低,不需要特殊處理,在隧道窯中燒成即可。為此,確定采用燒結法,在1 150~1 200℃下一次快燒,作為金屬光澤釉的研究方向。

        2.3.3 熔塊配方設計

        熔塊配比見表1,金屬光澤釉配方組成見表2。

        表1 原配方中熔塊配比(質量%)

        表2 金屬光澤釉配方組成(質量%)

        采用電子天平配料,快速研磨機研磨,將物料混合均勻,出磨,并將其放入烘箱內烘干,烘干后取出將其碾成粉末,并過40目篩,將篩下物倒入高鋁坩堝內。在箱式電爐中進行熔塊制取,溫度控制在1 100~1 150℃。

        熔塊達到所需溫度后,用坩堝鉗將其取出,并倒入水里進行水淬,將所制成的熔塊晶體碾成粉末,過40目篩,取篩下物備用。

        2.4 熔塊的主要性質

        1)化學性質。除氫氟酸外,耐其他酸腐蝕。ZnO含量高的熔塊,其耐鹽酸腐蝕性較差。

        2)力學性質。耐壓強度高,抗拉和抗沖擊強度低。

        3)熔塊的高溫粘度。熔塊在高溫下的表面張力視其化學組成不同而不同。

        2.5 金屬光澤釉設計

        2.5.1 金屬光澤釉配方設計

        金屬光澤釉配方組成見表3。

        表3 金屬光澤釉配方化學組成(質量%)

        由以上可得金屬光澤釉配方組成(質量%):鉀長石:37.48,石英:7.76,蘇州土:10.2,滑石:3.0,方解石:8.0,ZnO:2.76,MnO2:4.0,PbO:21.16,TiO2:2. 0,CuO:1.0,BaCO3:1.84,NiO:0.8。

        引入熔塊后的金屬光澤釉的配方(質量分數):熔塊:46,方解石:8,鉀長石:20,CMC:0.25,蘇州土:10,石英:5,滑石:3,堿面:0.25,MnO2:4.0,CuO:1.0, TiO2:2.0,NiO:0.8。

        2.5.2 金屬光澤釉的制備

        用電子天平準確配好料后,按料∶球∶水=1.0∶2.0∶0.7,采用快速研磨機進行研磨,研磨速度為1 500 r/min,研磨0.5 h后,用激光粒度儀測試粒度,粒度控制在標釉(上下允許相差1),合適后即可出磨,進行過篩,并對釉漿進行物性檢測。

        施釉:采用手工法施釉。生釉厚度在0.7?左右。

        燒成:采用92.4 m隧道窯燒成,燒成溫度為1 200℃,燒成周期為18.5 h。

        3 常規(guī)物性檢測結果

        金屬光澤釉的工藝參數見表4。

        表4 金屬光澤釉的工藝參數

        4 結果與討論

        由實驗可知,硅酸鋯、鉛丹、著色氧化物、坯體色澤、施釉量和燒成對金屬光澤釉釉面效果影響很大。

        4.1 硅酸鋯的影響

        硅酸鋯是很好的乳濁劑,但試驗表明:該金屬光澤釉中不能引入。若釉組成中硅酸鋯含量大于1%,則難以出現金屬光澤。因此,應避免高的氧化物及硅酸鋯引入釉料。

        4.2 鉛丹

        試驗表明,鉛含量過低,則難以形成金屬光澤,一般控制氧化鉛的含量在20%~40%。鉛含量高,毒性大,為此配釉前,將鉛丹或堿式碳酸鉛熔入熔塊中,高溫熔制成硅酸鉛玻璃后,再引入釉料中。

        4.3 著色氧化物的影響

        試驗過程中發(fā)現,氧化錳、氧化鈦、氧化銅和氧化鎳的含量不同,則呈現不同的色調。若固定氧化鎳占著色劑總量的10%不變,錳多銅少,鈦適中,呈綠色;錳少鈦多,銅適中,通過試驗得出的配比,可以獲得良好的金屬光澤釉的釉面。

        試驗表明,著色氧化物可預燒成色料后加入釉料中,也可直接配入熔塊中,還可直接加入釉料中。本實驗采用將著色氧化物直接加入釉料中一次燒成,以期降低成本。

        4.4 坯體色澤的影響

        不同色澤坯體施釉燒成的實驗表明:深色坯體作釉載體,光澤與色調效果差;白度高的載體作釉載體,金屬光澤釉的釉面效果好。

        4.5 施釉量的影響

        施釉量低,釉層薄,易露底,釉面質感差;施釉量大,釉層過厚,易開裂,易形成滾釉、流釉等缺陷。

        4.6 燒成的影響

        金屬光澤釉屬于結晶釉范疇,著色金屬氧化物在高溫熔體中過飽和,冷卻過程中,當達到某高溫粘度時析出金屬光澤物。只有控制好升溫、冷卻速度、高溫保溫時間及析晶保溫時間,才能獲得良好的金屬光澤釉面。試驗表明,燒成溫度為1 150~1 200℃時金屬光澤釉較為理想。

        5 結語

        1)經實驗確定了適用于一次快燒的半熔塊金屬光澤釉配方組成。

        2)控制生產工藝,掌握影響因素,運用普通燒結法,可生產金屬光澤釉,以提高建筑陶瓷的裝飾檔次。

        1 祝桂鴻,等.陶瓷釉配制基礎.北京:輕工業(yè)出版社, 1989

        2 劉康時.陶瓷工藝原理.廣州:華南理工大學出版社, 1990

        3 輕工業(yè)部第一輕工業(yè)局.日用陶瓷工業(yè)手冊.北京:輕工業(yè)出版社,1980

        4 王堅主.化工詞典.北京:化學工業(yè)出版社,1992

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        TQ174.4

        A

        1002-2872(2010)09-0029-03

        吉艷光(1976-),大專,助理工程師;研究方向為硅酸鹽工程。E-mail:jiguang200905@sina.com

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