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        新型電子直線(xiàn)加速器測(cè)試與改進(jìn)

        2010-03-24 05:33:38羅小為相新蕾謝家麟
        核技術(shù) 2010年7期
        關(guān)鍵詞:束流電子束磁鐵

        羅小為 相新蕾 謝家麟

        1(中國(guó)科學(xué)院高能物理研究所 北京 100048)

        2(中國(guó)科學(xué)技術(shù)大學(xué)國(guó)家同步輻射實(shí)驗(yàn)室 合肥 230027)

        傳統(tǒng)電子直線(xiàn)加速器中,電子槍受到廣泛運(yùn)用。將高功率速調(diào)管的用畢束流取代電子槍作為注入束流,則是新型的電子注入方法。電子通過(guò)速調(diào)管輸出腔時(shí)與腔內(nèi)高頻場(chǎng)作用,大多數(shù)電子在輸出腔高頻場(chǎng)減速相區(qū)通過(guò),其大部分動(dòng)能轉(zhuǎn)化為場(chǎng)能;小部分電子在輸出腔場(chǎng)加速相區(qū)通過(guò),獲得場(chǎng)能而得到加速,產(chǎn)生相位群聚。在速調(diào)管收集極開(kāi)孔,將用畢束流引出,用偏轉(zhuǎn)磁鐵選取群聚的被加速電子作為加速管的注入束流,則可取代傳統(tǒng)電子直線(xiàn)加速器的電子槍及預(yù)聚束系統(tǒng),大大簡(jiǎn)化系統(tǒng)結(jié)構(gòu)。

        模擬分析顯示[1],較高功率的速調(diào)管可獲得能量高、群聚相位窄的注入電子。但作為一臺(tái)原理驗(yàn)證型裝置,在有限的條件下我們選擇KS4064速調(diào)管作為功率源電子源。該速調(diào)管工作峰值功率為 5 MW,滿(mǎn)功率輸出時(shí)的工作高壓為127 kV,電子注入電流為90 A,工作頻率為2856 MHz。加速管采取 L波段的等阻抗加速結(jié)構(gòu)將電子束加速到 10 MeV,該結(jié)構(gòu)采用38個(gè)SLAC-85#腔[2],工作在2π/3模式。加速管參數(shù)見(jiàn)表1。

        表1 加速管主要參數(shù)Table 1 Accelerating tube parameters.

        圖1為裝置結(jié)構(gòu)原理圖,電子在速調(diào)管內(nèi)產(chǎn)生群聚后經(jīng)選能偏轉(zhuǎn)鐵(3)引出,通過(guò)光欄(4),真空閥(5)以及BCT(8, Beam Current Transformer)后進(jìn)入加速管。真空閥用于系統(tǒng)斷開(kāi)時(shí)保持調(diào)管內(nèi)真空。由于電子束與微波功率同時(shí)產(chǎn)生,速調(diào)管輸出的微波經(jīng)過(guò)大功率移相器后注入加速管中,以調(diào)節(jié)電子束和微波場(chǎng)的相位匹配。系統(tǒng)真空由前級(jí)泵機(jī)組及濺射離子泵系統(tǒng)維持在<1×10–6Pa。

        由于KS4064速調(diào)管的用畢束流能量呈連續(xù)譜分布[1],引出組份在加速群聚區(qū)間可靈活選擇。我們選取高能段的兩處峰值流強(qiáng)所對(duì)應(yīng)的電子束分別作為注入束團(tuán)進(jìn)行研究。這兩個(gè)束團(tuán)的能量為 170 keV與210 keV。

        圖1 裝置原理圖Fig.1 Equipment schematics.

        1 束流測(cè)量

        實(shí)驗(yàn)中速調(diào)管工作在118 kV、4.2 MW。通過(guò)調(diào)節(jié)聚焦線(xiàn)圈與微波相位,可觀測(cè)電子的加速狀況。由圖2波形可以發(fā)現(xiàn),輸出電子束相對(duì)注入電子束有~0.8 μs的波形損失。這是由于電子束與微波同時(shí)產(chǎn)生,在電子束進(jìn)入加速管后微波填充造成的束流損失。

        圖2 170 keV輸入輸出束流流強(qiáng)脈沖波形Fig.2 170 keV input and output pulsed beam intensity.

        根據(jù)公式 tF=2Qτ/ω[3],將 Q=13700,τ=0.41Nb(~4.1 dB),ω=2πf (f=2856 MHz)代入,可得 tF=626.0 ns。實(shí)際測(cè)試加速管填充時(shí)間為690.5 ns。

        束斑截面測(cè)量采取成像靶配合電荷耦合器件(CCD)測(cè)量。靶材料置于加速器鋁窗(75 μm厚)后。試驗(yàn)標(biāo)定電荷密度與成像灰度的s曲線(xiàn)。在顯影線(xiàn)性區(qū)間內(nèi),用 MATLAB去除本底后對(duì)顯影區(qū)灰度積分,獲得包含90%粒子的束斑包絡(luò)如圖3所示。

        圖3 束斑尺寸Fig.3 Beam spot measured at the target.

        圖3中,1#為170 keV注入束在注入相位為170°時(shí)的束斑,半徑為4.6 mm。2#為210 keV注入束在注入相位為 210°時(shí)的束斑,半徑為 3.1 mm。3#為170 keV注入束在注入相位為230°時(shí)的束斑,半徑為4.1 mm。6#為加速器輸出窗孔徑。

        如圖4,用一塊45°偏轉(zhuǎn)磁鐵測(cè)量能譜,磁鐵中心能量偏轉(zhuǎn)半徑為125 mm,厚3 cm的鉛制束流準(zhǔn)直狹縫置于偏轉(zhuǎn)磁鐵入口和出口位置,以限制束流發(fā)散度。中心位置偏轉(zhuǎn)的束流用電離室和法拉第筒測(cè)量校準(zhǔn)。

        圖4 輸出束流能譜測(cè)量裝置Fig.4 Schematics of the beam energy spectrum measurement.

        對(duì)測(cè)量數(shù)據(jù)作歸一化處理的結(jié)果見(jiàn)圖 5。170 keV和210 keV注入束團(tuán)能量展寬分別為中心能量9.9 MeV,F(xiàn)WHM能散度為14.4%和中心能量10.0 MeV,F(xiàn)WHM 能散度為7.9%。能量測(cè)量的分辨率<0.1 MeV。

        流強(qiáng)由兩個(gè) BCT以及法拉第筒的測(cè)量結(jié)果進(jìn)行校準(zhǔn)。210 keV注入束團(tuán)的最大注入宏脈沖流強(qiáng)為8.0 mA,其最大輸出流強(qiáng)為7.0 mA。此束團(tuán)注入工作模式適用于小流強(qiáng)、高束團(tuán)質(zhì)量要求的物理實(shí)驗(yàn),束團(tuán)的單能性良好、發(fā)射度較小。而在170 keV束團(tuán)組份為注入束時(shí),試驗(yàn)結(jié)果與模擬結(jié)果的偏差較大。測(cè)得的注入最大宏脈沖流強(qiáng)為70.6 mA,對(duì)應(yīng)的輸出最大流強(qiáng)為34.7 mA。雖可通過(guò)減小注入光欄改善注入束能散與注入發(fā)射度而提高束流俘獲率,但輸出宏脈沖流強(qiáng)也隨之減小,遠(yuǎn)小于實(shí)驗(yàn)預(yù)期的100 mA量級(jí)。

        圖5 注入束流在不同光欄孔徑下加速后的能譜Fig.5 Beam energy spectra at 170- and 210-keV injection energy and collimator of 5- or 10-mm width.

        2 改進(jìn)分析

        造成該偏差的主要原因?yàn)?,普通速調(diào)管的用畢束流是散焦的,電子注入束團(tuán)的旋轉(zhuǎn)發(fā)散動(dòng)量較大。我們?cè)又檬占瘶O聚焦線(xiàn)圈,作用并不理想,在能量選擇磁鐵到加速管入口的無(wú)聚焦自由漂移段中,束流損失嚴(yán)重。用Arsenal-MSU程序模擬了KS40645 MW速調(diào)管在正常工作高壓127 kV、電流89.23 A下的電子輸運(yùn)過(guò)程,跟蹤150個(gè)宏束團(tuán)至收集極開(kāi)口[4]。該程序是2.5維的,描述對(duì)稱(chēng)空間的坐標(biāo)r、z和動(dòng)量Pr、Pc、Pz,其中Pc為旋轉(zhuǎn)動(dòng)量。由對(duì)稱(chēng)空間均勻圓周分布引入Parmela程序所需的θ坐標(biāo)。宏束團(tuán)的粒子數(shù)正比于該宏束團(tuán)的電流組份dI.。為提高模擬的可靠性,我們將宏束團(tuán)數(shù)增加到 750,轉(zhuǎn)換為三維坐標(biāo)時(shí)候按 30°均勻分布于圓周,換算成9000個(gè)宏粒子團(tuán)。用Parmela程序描述粒子的偏轉(zhuǎn)、漂移及加速,發(fā)現(xiàn)在原有的聚焦及輸運(yùn)系統(tǒng)下,170 keV組份經(jīng)過(guò)偏轉(zhuǎn)鐵后為363 mA,經(jīng)8 mm光欄后流強(qiáng)為119.7 mA,漂移過(guò)真空閥到達(dá)加速管入口為35.9 mA。與試驗(yàn)結(jié)果基本符合。因?yàn)閷?duì)速調(diào)管磁約束場(chǎng)和引出后束流輸運(yùn)及聚焦系統(tǒng),我們進(jìn)行了重新計(jì)算和設(shè)計(jì)。

        在新方案中,將收集極開(kāi)孔半徑由7 mm增至9 mm。通過(guò)磁鐵分層改變磁約束場(chǎng)梯度,用Arsenal-MSU程序?qū)Υ艌?chǎng)分布和強(qiáng)度進(jìn)行優(yōu)化,在不影響引出微波功率的情況下略微提高速調(diào)管管體約束磁場(chǎng)的強(qiáng)度。在此模型下,程序給出偏轉(zhuǎn)磁鐵入口處的引出宏束團(tuán)坐標(biāo)及對(duì)應(yīng)的流強(qiáng)。所得偏轉(zhuǎn)鐵入口處的宏電子束團(tuán)的能量分布(圖6)。

        圖6 收集極出口各宏粒子束團(tuán)能量分布及對(duì)應(yīng)流強(qiáng)Fig.6 Beam energy distribution and intensity at collector exit.

        改造 90°偏轉(zhuǎn)磁鐵極面引入邊緣場(chǎng)弱聚焦作用,增加兩個(gè)8°的邊緣場(chǎng)。用Maxwell程序?qū)Υ盆F作改進(jìn)設(shè)計(jì)。在真空閥外增加兩個(gè)聚焦線(xiàn)圈,注入漂移段增加一個(gè)聚焦線(xiàn)圈。同時(shí)將加速管外部的注入段聚焦線(xiàn)圈由9個(gè)減至6個(gè)。比較一系列Parmela

        運(yùn)算結(jié)果得到的優(yōu)化情況下,170 keV束流組份經(jīng)過(guò)各漂移段的損失大為減小(表2)。注入加速管電子束團(tuán)經(jīng)加速后輸出流強(qiáng)為92 mA,平均能量為9.6 MeV,F(xiàn)WHM能散度為8.4%。其中86%的電子分布在半徑為4 mm的圓內(nèi)。圖7給出了加速管內(nèi)束團(tuán)橫向包絡(luò)圖。

        表2 改進(jìn)方案與原裝置束流(mA)損失對(duì)比(E=170 keV, w=8 mm)Table 2 Beam intensities (in mA) of the improvement at E=170 keV and w=8 mm.

        我們?cè)僭谡婵臻y與加速管之間的漂移段引入NdFeB材料的永磁四極透鏡,用Maxwell程序模擬了該永磁四極鐵的場(chǎng)分布。結(jié)果表明,該方案可提高17%的束流輸出,但注入電子的能量卻受該永磁四極鐵限制而不可更改。為進(jìn)一步研究該裝置性能,暫未采取這一方式。

        圖7 加速管內(nèi)束團(tuán)橫向包絡(luò)Fig.7 Bunch transverse envelope in acceleration tube.

        3 結(jié)論

        通過(guò)試驗(yàn),我們證實(shí)了速調(diào)管用畢束流注入方案的可行性與合理性。優(yōu)化設(shè)計(jì)方案的模擬計(jì)算為我們提供了改進(jìn)裝置性能先進(jìn)的理論依據(jù),證明該裝置性能還有很大的提高空間。計(jì)算顯示,通過(guò)優(yōu)化裝置宏脈沖流強(qiáng)可達(dá) 90 mA以上的良好工作狀態(tài)。該裝置的低能量高流強(qiáng)注入模式(170 keV注入)和高能量低流強(qiáng)的工作模式(210 keV注入),可以滿(mǎn)足不同條件的工作需要,具有良好的運(yùn)用前景。

        1 王發(fā)芽.高能物理與核物理, 2004, (2): 105–106 WANG Faya.High Energy Physics and Nuclear Physics,2004, (2): 105–106

        2 趙籍九, 尹兆升.粒子加速器技術(shù).北京: 高等教育出版社, 2006.469–470 ZHAO Jijiu, YIN Zhaosheng.Particel accelerator technology.Beijing: Higher Education Press, 2006.469–470

        3 Lapostolle, Pierre M.Linear accelerators.Amsterdam:North Holland Pub.Co., 1970.55

        4 XIE Jialin, WANG Faya, YANG Xueping, et al.Review of Scientific Instruments, 2003, (12): 5053–5057

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