《中國光學(xué)與應(yīng)用光學(xué)》為雙月刊,A4開本;刊號:ISSN 1674-2915/CN 22-1389/O4;國內(nèi)外公開發(fā)行,郵發(fā)代號:國內(nèi) 12-140,國外 BM6782。

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報道內(nèi)容:基礎(chǔ)光學(xué)、發(fā)光理論與發(fā)光技術(shù)、光譜學(xué)與光譜技術(shù)、激光與激光技術(shù)、集成光學(xué)與器件、纖維光學(xué)與器件、光通信、薄膜光學(xué)與技術(shù)、光電子技術(shù)與器件、信息光學(xué)、新型光學(xué)材料、光學(xué)工藝、現(xiàn)代光學(xué)儀器與光學(xué)測試、光學(xué)在其他領(lǐng)域的應(yīng)用等。

發(fā)稿類型:學(xué)術(shù)價值顯著、實驗數(shù)據(jù)完整的原創(chuàng)性論文;研究前景廣闊,具有實用、推廣價值的技術(shù)報告;有創(chuàng)新意識,能夠反映當(dāng)前先進水平的階段性研究簡報;對當(dāng)前學(xué)科領(lǐng)域的研究熱點和前沿問題的專題報告;以及綜合評述國內(nèi)外光學(xué)技術(shù)研究現(xiàn)狀、發(fā)展動態(tài)和未來發(fā)展趨勢的綜述性論文。

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主管單位:中國科學(xué)院

主辦單位:中國科學(xué)院長春光學(xué)精密機械與物理研究所

編輯出版:《中國光學(xué)與應(yīng)用光學(xué)》編輯部

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