用于高溫?zé)崽幚斫饘俪尚图闹С袠?gòu)件及其制造方法

本發(fā)明涉及一種用于高溫?zé)崽幚斫饘俪尚图闹С袠?gòu)件及其制造方法。主要用于高溫?zé)崽幚斫饘俪尚图奶假|(zhì)支承構(gòu)件，特別是粉末冶金熱處理用墊板。形式為碳-陶瓷復(fù)合材料成型制品，其堆密度為1.2～1.6g/ml，并包括碳質(zhì)基體和3wt%～20wt%的陶瓷顆粒，陶瓷顆粒均勻分散在碳質(zhì)基體中，部分暴露在復(fù)合制品表面。在熱處理過程中支承構(gòu)件能有效地阻止支承于其上的金屬成型件的滲碳，從而避免了涂敷層剝落的問題?？赏ㄟ^壓力形成細(xì)的碳前驅(qū)體和陶瓷顆粒的粉末混合物，然后在1000～2000℃加熱以碳化細(xì)的碳前驅(qū)體來制備該支承構(gòu)件。

專利號(hào): CN200410071410.1

陶瓷漿料組合物、擠壓生產(chǎn)薄生片的方法以及使用所述生片制造的電子設(shè)備

本發(fā)明公開了一種陶瓷漿料組合物。所述陶瓷漿料組合物含有20wt%～50wt%陶瓷粉末，2wt%～10wt%平均分子量為400000或更高的聚合物，0.1wt%～2wt%帶有可形成氫鍵的官能團(tuán)的聚合物和40wt%～75wt%溶劑。如果需要，所述陶瓷漿料組合物可進(jìn)一步含有1wt%～5wt%平均分子量為400000或者更低的聚合物。本發(fā)明同時(shí)公開了使用擠壓-拉伸方法生產(chǎn)薄生片的方法以及使用該生片制造的電子元件。該生片厚度為10μm或者更小，可被層壓成40層或者更多層的疊堆，即使被高度層壓時(shí)，也沒有層間開裂和枕狀現(xiàn)象發(fā)生。

專利號(hào): CN03160115.4

陶瓷組合物的制造方法

本發(fā)明提供一種陶瓷組合物的制造方法。該方法利用水熱反應(yīng)，可將所得的陶瓷組合物中的殘留堿量降低，使合成充分，并且減小晶粒尺寸。進(jìn)行如下工序：將陶瓷組合物構(gòu)成元素的離子氫氧化物處理得到氫氧化物漿液的第1工序；洗凈所得漿液中的氫氧化物，調(diào)整上述氫氧化物漿液的pH至6～9制得洗凈物的第2工序；在第2工序所得的上述洗凈物中，添加堿金屬氫氧化物溶液，進(jìn)行水熱反應(yīng)制得反應(yīng)物的第3工序；對(duì)第3工序制得的反應(yīng)物進(jìn)行攪拌洗凈的第4工序；在第4工序后，在反應(yīng)物中添加水性溶劑調(diào)整漿液PH值至5～7，再進(jìn)行水熱反應(yīng)的第5工序，其后，干燥反應(yīng)物。

專利號(hào): CN200410048873.6

氮化硅質(zhì)蜂窩式過濾器及其制造方法

本發(fā)明提供一種以金屬硅粒子作為起始原料，具有最適于除塵和脫塵的細(xì)孔徑和氣孔率的氮化硅質(zhì)蜂窩式過濾器的制造方法。通過將含有50wt%～85wt%的平均粒徑5～50μm的金屬硅粒子、5wt%～30wt%的平均粒徑為20～60μm的軟化溫度為400～1000℃的玻璃質(zhì)中空粒子和10wt%～20wt%的有機(jī)粘合劑的成形體，在氮?dú)夥罩羞M(jìn)行熱處理使金屬硅形成氮化硅。

專利號(hào): CN200410069964.8

用于制造玻璃熔爐爐底的未加工耐火組合物

本發(fā)明涉及一種未成形耐火組合物，尤其適用于制造玻璃熔爐的爐底，其特征在于它包含以下物質(zhì)的基本混合物：1wt%～6wt%的水硬水泥和94wt%～99wt%的至少一種主要由氧化鋁(Al₂O₃)、氧化鋯(ZrO₂)和二氧化硅(SiO₂)組成的耐火材料的顆粒。所述基本混合物中尺寸小于40μm的顆粒部分，以所述基本混合物重量計(jì)，以下述方式分布：＜0.5μm的部分：≥4wt%；＜2μm的部分：≥5wt%；＜10μm的部分：≥16wt%；＜40μm的部分：≥29wt%～45wt%。所述耐火組合物還包括以所述基本混合物重量計(jì)的下述物質(zhì)：0.02wt%～0.08wt%的有機(jī)纖維和0.075wt%～1wt%的表面活性劑。

專利號(hào): CN02822921.5

以裝飾漆使其顯示黑色感裝飾的玻璃陶瓷廚面

本發(fā)明涉及的這類裝飾漆通常在較高的溫度情況下，與熱的陶瓷化過程相結(jié)合而引入。為達(dá)到深黑和非常光滑的裝飾效果，本發(fā)明提出一種在熔體中染黑的形成廚面的玻璃陶瓷板上涂覆裝飾漆，該裝飾漆含在染黑的玻璃陶瓷上的無色熔融玻璃熔料和含量為0～10wt%的黑色顏料。該玻璃熔料的組成(wt%)優(yōu)選如下：Li₂O 0～5、Na₂O 0～5、K₂ O＜2、 ∑Li₂O+Na₂O+K₂O 1～10、MgO 0～3、CaO 0～4、SrO 0～4、BaO 0～4、ZnO 0～4、B₂O₃ 15～27、Al₂O₃ 10～20、SiO₂ 43～58、TiO₂ 0～3、ZrO₂ 0～4、Sb₂O₃ 0～2、F 0～3。

專利號(hào): CN200410057861.X

（化專供稿）