2013年3期
刊物介紹
本刊主要反映我國(guó)發(fā)光學(xué)領(lǐng)域中在科研、技術(shù)和生產(chǎn)中的學(xué)術(shù)成就，開(kāi)展國(guó)內(nèi)外的學(xué)術(shù)交流，提高該領(lǐng)域內(nèi)從事科研、教學(xué)、生產(chǎn)人員的技術(shù)水平。
發(fā)光學(xué)報(bào)
材料合成及性能
器件制備及器件物理
- 氬、氫混合等離子體處理對(duì)GaAs表面性質(zhì)及發(fā)光特性的影響
- 金錫共晶互連對(duì)HP-LED光熱性能的改善
- 霍爾離子源輔助制備長(zhǎng)波紅外碳化鍺增透膜
- Effect of Channel Layer Thickness on The Device Characteristics of Room Temperature Fabricated In2O3Thin-film Transistors
- 全介質(zhì)鏡微腔的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)與發(fā)光特性的模擬
- 襯底彎曲度對(duì)GaN基LED芯片性能的影響
- Performance Improvement of Blue InGaN Light-em itting Diode w ith A Special Designed Electron-blocking Layer
- 高阻GaN的MOCVD外延生長(zhǎng)
- Al/ZnO∶Al薄膜結(jié)構(gòu)的熒光增強(qiáng)效應(yīng)