郝清海，楊 帆，卿 澈，譚紅革

（中國民航大學理學院,天津 300300）

將帶有陰離子和陽離子端基重復單元的聚合物鏈末端接枝在襯底表面，可形成聚兩性離子刷.由于兩性離子聚合物兼具強帶電基團和高偶極矩，使得聚兩性離子刷具有優(yōu)異的潤滑、防污和生物相容性，在工業(yè)、生物和醫(yī)學領域具有廣泛的應用前景［1～3］.聚兩性離子刷的諸多應用與刷層的自組裝結構密切相關，研究聚兩性離子刷的表面結構對于設計和開發(fā)智能多功能界面材料至關重要［4］.

聚兩性離子刷中接枝鏈間的相互作用依賴于接枝密度、溶液親疏水性質、靜電作用強度、離子特性和濃度等參數(shù)［5］.如何利用這些參數(shù)對聚兩性離子刷的表面結構進行調控，并進一步優(yōu)化刷界面修飾性能引起了研究者的廣泛關注.由于聚（2-甲基丙烯氧基乙基磷酸化膽堿）（PMPC）中的兩性離子帶電基團與關節(jié)滑液中的磷脂結構類似，因此PMPC刷被廣泛研究.Klein等［6］發(fā)現(xiàn)在7.5 MPa壓力下，純水中PMPC 接枝的云母表面之間的摩擦系數(shù)為0.0004，僅是自然滑膜關節(jié)之間的摩擦系數(shù)的20%.Leggett 等［7］研究了PMPC 刷對不同價態(tài)鹽離子濃度的響應行為，發(fā)現(xiàn)鹽離子的加入改變了PMPC 分子內(nèi)、分子間的平衡和分子剛度，靜電排斥力的屏蔽效應和兩性離子基團剛度的共同作用引起了不同單價鹽離子存在時摩擦系數(shù)的差異.二價離子Ca2+與兩性離子基團的親和性強于單價離子，在濃度低至1 mmol/L 時就能提高PMPC 刷的潤滑性能.Feng 等［8］通過PMPC 刷改性單一硅表面，實現(xiàn)了非對稱結構的超潤滑性，摩擦系數(shù)（μ）在初始階段很高，隨著滑動量增加而逐漸減小，磨合后達到超潤滑狀態(tài)（μ=0.007）.

由于帶正電荷和帶負電荷基團的存在，兩性離子聚合物表現(xiàn)出獨特的鹽離子響應行為和水化性質.聚兩性離子鏈在水中采取折疊構象，而在鹽溶液中采取伸展構象，這與聚電解質鏈的響應行為完全相反，稱為“抗聚電解質效應”.兩性離子帶電基團間隔長度（CSL）是影響聚兩性離子刷水化狀態(tài)和溶脹行為的關鍵因素，吸引了研究者們的關注.Higaki等［9］研究了兩性離子聚磺基甜菜堿（PSB）電刷的水化狀態(tài)隨CSL和離子強度的變化，發(fā)現(xiàn)水化后的PSB刷在單價鹽離存在時會伸展膨脹，離子強度的敏感性隨CSL的增加越來越明顯.Xiao等［10］合成了6種具有不同兩性離子基團的聚合物刷，考察了兩性分子結構和組分對聚合物刷表面浸潤性、界面摩擦和離子特異性的影響.結果表明，具有不同陽離子基團和短CSL的兩性離子刷在鹽溶液中比在水中具有更高的表面摩擦和更低的表面水化作用，表現(xiàn)出強烈的“抗聚電解質效應”鹽反應行為.最近，Khakzad 等［11］研究了CSL 和分子量對兩性離子PSB 刷表面潤濕性和抗污性的影響，發(fā)現(xiàn)CSL=3 時，PSB 刷幾乎被水浸濕，接觸角幾乎為0，與分子量無關；當CSL=4 時，接觸角隨PSB 刷厚度的增加而增加，表明PSB 刷潤濕性取決于分子量.而水化后的PSB刷的強抗污能力與CSL或分子量無關.

分子模擬具有精度高、成本低及參數(shù)靈活可調等優(yōu)點，在研究帶電復雜體系的熱力學性質和預測材料性能方面發(fā)揮著越來越重要的作用［12，13］.Liu等［14］采用粗粒化分子動力學方法研究了聚兩性離子刷的自清潔特性，并與聚陰離子刷進行了對比.結果表明，在低接枝密度下，兩性離子對之間由于靜電相互作用而形成交聯(lián)網(wǎng)絡，其自清潔性能優(yōu)于聚陰離子刷；在高接枝密度下，聚陰離子刷由于靜電排斥作用而表現(xiàn)出較好的自清潔性能.Cheung 等［15］對兩性離子類肽聚合物刷的分子動力學模擬表明，低或中等接枝密度不僅有利于鏈的伸展構象和柔性，進一步增加了聚兩性離子刷周圍的水密度，而且最大限度地減少了能抑制與蛋白質靜電相互作用的表面偶極子，提升了表面防污效果.由于空間位阻效應，高接枝密度導致聚兩性離子刷表面水化度和鏈柔性降低.Zheng等［16］通過CHARMM力場的分子動力學模擬，對3種聚兩性離子刷的表面結構、水化和防污性能進行了計算.研究結果表明：在相同的聚合物主鏈上，兩性離子基團的細微結構變化可以極大地提高聚兩性離子刷的防污性能，刷對溶解酶的排斥力與表面水化程度變化一致.

目前，實驗上可以制備大量的陽離子和陰離子基團，聚兩性離子刷有許多可能的結構變化，這些多樣化的結構為實現(xiàn)理想的材料性能提供了可能［13］.然而，關于聚兩性離子刷在不同靜電相互作用強度和反離子價態(tài)時的表面自組裝結構的研究較少.本文采用分子動力學模擬方法，系統(tǒng)研究了靜電作用強度（溶劑極性）和反離子價態(tài)誘導的聚兩性離子平板刷的表面形貌.本文模擬結果可為更好地理解聚兩性離子刷的結構-性能機理，從而設計新型兩性離子材料提供參考.

1 模型與方法

在模擬中，聚兩性離子鏈采用粗粒化模型［17］，廣泛應用于模擬帶電高分子體系［18，19］.主鏈的末端接枝在襯底表面，帶一價電荷的正負基團側鏈連接在主鏈上（圖1）.每條主鏈由60 個（N）單體組成，每個單體上連接一條含有正、負基團的側鏈，主鏈單體不帶電.100 根（M）主鏈按照10×10正方點陣接枝在中性平板襯底上.體系中的抗衡離子討論分為3 種情況：（1）體系中只有側鏈上的正、負離子基團（以Zc=0標記）；（2）體系中加入單價陰、陽離子，電荷總量分別等于側鏈正、負基團帶電總量（以Zc=1∶1標記）；（3）體系中加入+3價陽離子和-1 價陰離子，電荷總量也分別等于側鏈正、負基團總電量（以Zc=3∶1 標記）.3個模擬系列均保持系統(tǒng)電中性，所有粒子的直徑均為σ.Zc=1∶1 和3∶1 的兩個模擬系列分別對應單價反離子和多價反離子存在時的無鹽體系.

系統(tǒng)中所有粒子之間的對相互作用采用截斷的Lennard-Jones（LJ）勢能［UIJ（rij）］表示：

Fig.1 Schematic of a coarse-grained polyzwitterionic brush

式中：rij為第i個粒子與第j個粒子之間的距離；粒子之間能量參數(shù)設置為εLJ=1.0kBT，其中，kB為玻爾茲曼常數(shù)，T（K）為標準溫度，截斷半徑設置為rc=21/6σ，對應的是良溶劑條件，溶劑粒子按隱性溶劑來處理.

聚兩性離子鏈上相鄰單體間的共價鍵Ubond（r）通過有限伸長非線性彈性勢能［20］來描述：

式中：彈性常數(shù)kspring=30kBT/σ2，最大鍵長Rmax=1.5σ.

帶電離子之間的靜電相互作用通過庫侖勢能UCoul（rij）來表示：

式中：lB為Bjerrum長度，lB=e2/（4πε0εrkBT）；ε0和εr分別為真空介電常數(shù)和溶劑的相對介電常數(shù)；qi和qj分別第i個和第j個帶電粒子的化合價.模擬中改變lB的大小來調節(jié)靜電相互作用強度.

模擬在正則系綜下進行，系統(tǒng)的溫度采用Langevin 熱浴控制（T=1.0），粒子的運動滿足Langevin方程［21］

式中：m為粒子的質量；U為系統(tǒng)的總勢能，U=ULJ+Ubond+UCoul；ξ和分別為溶劑摩擦系數(shù)和隨機力.所有的物理量在模擬中統(tǒng)一采用LJ單位制，將各物理量無量綱化處理.

采用分子動力學開源軟件包Lammps 進行模擬計算［22］，運動方程的差分求解采用velocity-Verlet算法，時間步長Δt=0.005τ.模擬盒子的邊長分別為Lx=Ly=45σ，Lz=150σ.接枝襯底在xy平面上，因此x和y方向上采用周期性邊界條件.初始構型中所有的兩性離子主鏈完全伸展并垂直接枝表面，側鏈基團與主鏈垂直，朝向隨機.反離子均勻散落在模擬盒子中，通過軟勢將可能重疊的粒子推開.為了消除初始構象對表面結構的影響，加載上述全部勢能函數(shù)后，首先系統(tǒng)在高溫（T=3.0）下運行4×106步，然后緩慢降溫至T=1.0，將系統(tǒng)平衡6×106步后，產(chǎn)出過程再運行8×106步，期間每隔2×103步采樣一次進行統(tǒng)計平均.為了確認系統(tǒng)是否弛豫到穩(wěn)定狀態(tài)，計算了刷高（H）的自關聯(lián)函數(shù)CH（t）：

考慮到靜電相互作用的長程特性，系統(tǒng)在lB越大時，弛豫至穩(wěn)定態(tài)需要越長的時間.圖2 示出了模擬中l(wèi)B取最大值時的刷高自關聯(lián)函數(shù).從圖2可以看出，3種情況下自關聯(lián)函數(shù)均在t=1000τ（=2×104步）之前衰減到0，遠小于系統(tǒng)平衡過程的持續(xù)時間6×106步，因此可以確認模擬產(chǎn)出過程中得到的數(shù)據(jù)是可信的.由于Zc=1∶1時體系中含有的帶電粒子總數(shù)最多，系統(tǒng)弛豫至穩(wěn)定狀態(tài)需要的時間更長，對應的刷高自關聯(lián)函數(shù)衰減慢于Zc=0和Zc=3∶1體系.

Fig.2 Autocorrelation functions of brush thickness in the presence of counterions with different valencies at lB=100.0

2 結果與討論

模擬快照圖能夠直觀地反映聚兩性離子刷的表面形貌.不同價態(tài)反離子組合存在時，刷表面結構隨lB的變化如圖3所示.

Fig.3 Snapshots of polyzwitterionic brushes in the presence of counterions with different valences induced by the electrostatic interaction strength

從圖3可以看出，當靜電相互作用較弱時（lB＜5.0），反離子價態(tài)對刷的表面結構影響較小，良溶劑條件下聚兩性離子刷形成了均勻的層狀相結構，刷內(nèi)的聚兩性離子鏈以單鏈形式存在，柔性的主鏈沿垂直襯底方向伸展，側鏈正、負離子基團均勻地懸掛在主鏈上.由于每個主鏈單體上都接枝有兩性離子基團，靜電相互作用較小時，側鏈離子基團幾乎把主鏈包裹起來，因此從刷的俯視圖上看到的主要是綠色的陽離子基團.

隨著靜電相互作用的增強（lB≥5.0），當Zc=0 時，側鏈正、負離子基團誘導的偶極相互作用使得聚兩性離子鏈相互吸引，聚兩性離子刷坍縮并發(fā)生橫向微相分離.當lB=25時，刷開始形成明顯的釘扎狀膠束結構，此時膠束的外層還主要是綠色的陽離子基團.隨著靜電作用的進一步增強，膠束團聚得更加緊密，同時正、負帶電基團向膠束的內(nèi)部聚集以降低靜電勢能，膠束的外層主要是主鏈上的中性單體（圖3 中的紫色珠子），膠束的內(nèi)外層粒子排布實現(xiàn)了反轉.當體系加入單價的陰、陽反離子時（Zc=1∶1），靜電吸引作用使得陰、陽反離子分別與鏈上的正、負離子基團結合.當lB=25.0時，刷形成的膠束結構比沒有反離子時（Zc=0）尺寸更大，這一方面歸因于反離子的靜電屏蔽作用可以削弱陰、陽離子基團間的偶極相互作用；另一方面，膠束中除了聚兩性離子刷單體外，還聚集了加入的帶正、負電荷的離子，反離子的體積排斥作用也有利于增加膠束的尺寸.單價反離子的靜電屏蔽作用還影響著膠束中單體的排布.當lB=50.0時，膠束表面仍然以綠色的陰離子基團為主，靜電作用增加到最大時，膠束的外層才出現(xiàn)部分的中性主鏈單體.當Zc=3∶1時，+3價陽性反離子的靜電關聯(lián)作用和單價陰性反離子的靜電屏蔽作用耦合，在相同的lB下，更多的聚兩性離子鏈聚集在一起形成膠束結構.由于+3價反離子與兩性單價離子基團的電荷不匹配，兩性離子間的有效偶極相互作用使得膠束內(nèi)單體的排布與Zc=0時類似.

刷高（H）能夠描述聚兩性離子刷的整體形貌，定義為

式中：ρm（z）為單體沿垂直接枝襯底方向上的密度分布函數(shù).不同反離子存在時，刷高隨lB的變化如圖4所示.

從圖4 可以看出，當lB≤1.0 時，3 種模擬系統(tǒng)下的刷高隨著lB的增加均保持不變.值得注意的是，Zc=0與Zc=3∶1時的刷高幾乎相同，高于Zc=1∶1時的刷高值.靜電作用較弱時，反離子的體積排斥作用占主導，在本文模型中，所有的反離子的直徑大小相同，Zc=1∶1 時反離子的數(shù)密度遠大于另外兩種情況，單價反離子的滲透壓將聚兩性離子刷壓縮，對應的刷高值較低.隨著靜電作用的增強，Zc=0下的刷高首先開始下降，其次是單價反離子存在的情況（Zc=1∶1），直到lB=5.0 時，+3 價反離子存在時（Zc=3∶1）的刷高才開始下降.上述差別可以理解為：靜電作用增強時，首先起作用的是接枝鏈上兩性離子基團的偶極吸引作用，此時鏈上帶電基團與反離子間的靜電吸引作用還不能抗衡反離子的平移熵，因此Zc=0 時刷高首先下降.靜電相互作用的繼續(xù)增強使得反離子逐漸凝聚到接枝鏈上，單價反離子的靜電屏蔽作用削弱了鏈內(nèi)的偶極吸引作用，使得Zc=1∶1 時刷高隨后下降.+3 價反離子與鏈上兩性離子基團的電量不匹配，使其刷高下降的轉變點對應的lB最大.刷高的急劇下降對應兩性離子刷由均勻的層狀結構轉變?yōu)闄M向各向異性聚集結構.聚兩性離子鏈伸展狀態(tài)隨靜電強度增加先不變后迅速降低的曲線與聚電解質刷隨lB的非單調曲線明顯不同［23］.

Fig.4 Polyzwitterionic brush thickness as a function of electrostatic interaction strength

為了進一步分析聚兩性離子刷的形貌變化，計算了主鏈單體和陽性反離子在垂直接枝平面方向上的密度分布（圖5）.圖5（A）～（C）展示了4種不同lB情況下的主鏈單體密度隨z的變化，對應圖4刷高曲線的4個階段.當lB較小時，主鏈單體密度分布曲線對應一個寬峰，峰寬與刷高值吻合.隨著靜電作用的增強，主鏈單體密度分布函數(shù)中的峰逐漸變窄變高，對應刷高逐漸減小.當lB=25.0時，主鏈單體密度分布函數(shù)呈現(xiàn)出一個峰和一個肩峰（峰的右側）的曲線.當lB增加到100.0時，主鏈單體密度分布函數(shù)為明顯的雙峰結構，雙峰高度的相對比例隨著Zc的變化而變化.

為了更好地理解主鏈單體密度分布曲線（lB=100.0）的雙峰結構，計算了側鏈陰、陽離子基團的密度分布，連同相應的主鏈單體密度分布一起畫在圖6中.從圖6可以看出，雙峰的中間區(qū)域被側鏈上的正、負離子基團占據(jù).末端接枝約束使得靠近接枝點的主鏈單體聚集在接枝襯底附近，形成了密度分布函數(shù)的第一個峰；強靜電作用誘導側鏈上的陰、陽離子基團相互吸引，即使在Zc=0的情況下，側鏈上的正、負基團間的強偶極相互作用也使得側鏈單體團聚在一起，將主鏈單體擠在釘扎狀膠束的表面，形成了主鏈單體密度分布函數(shù)的第二個峰.另外，在Zc=0和Zc=1∶1的情況下，側鏈正、負離子基團的密度分布函數(shù)在整個空間內(nèi)基本重合；由于Zc=3∶1 的價態(tài)不匹配性（+3 價陽離子的靜電關聯(lián)效應），負離子基團的密度分布峰明顯高于正離子基團的峰［圖6（C）］.需要注意的是，在靠近刷邊緣的區(qū)域，當Zc=0和Zc=3∶1時，主鏈單體的密度稍微大于側鏈離子基團的密度分布，而當Zc=1∶1時，三者的密度分布基本重合，這與快照圖中的觀測結果一致.

Fig.5 Density distributions of monomers(A—C) and positive counterions perpendicular to the grafting surface(D,E) for different electrostatic interactions as a function of the distance from the substrate(z)

Fig.6 Density distributions of the backbone monomers,cation groups and anion groups perpendicular to the grafting surface at lB=100.0 as a function of the distance from the substrate(z)

由圖5（D）和（E）可以看出，在靜電作用較弱時，反離子的平移熵占主導，陽性反離子均勻地分布在整個空間內(nèi).隨著lB的增加，陰、陽反離子分別被靜電吸附到側鏈正、負離子基團周圍.lB=25.0時，反離子的分布范圍與鏈單體的分布范圍基本重合.當靜電作用增加到lB=100.0時，Zc=1∶1情況下的部分陰、陽反離子會相互結合，游離到刷外區(qū)域形成團簇結構［圖5（D）插圖］，對應密度分布函數(shù)中遠離接枝襯底處的矮峰［圖5（D）中箭頭所示］.當Zc=3∶1 時，陰、陽反離子沒有形成游離到刷外的團簇結構，而是聚集在了刷的外圍.

主鏈單體間的對關聯(lián)函數(shù)［gmm（r）］能夠反映聚兩性離子刷的聚集結構.基于模擬數(shù)據(jù)計算了主鏈單體間的對關聯(lián)函數(shù)（圖7），為了清晰起見，僅顯示了4個不同的Bjerrum長度，與圖6選擇一致.

從圖7可以看出，3種模擬系統(tǒng)下主鏈單體的對關聯(lián)函數(shù)都在r=1.0處有一個尖銳的峰，峰值基本保持不變，表明主鏈單體間最近鄰的有序性與lB和Zc無關.當Zc=0 時［圖7（A）］，隨著靜電作用的增強，位于r=1.9附近的第二峰變高.當靜電作用增加到lB≥25.0時，主鏈單體對關聯(lián)函數(shù)曲線上出現(xiàn)了明顯的第三峰，對應刷表面形成的微相分離結構（圖3），此時長程有序性的增強源于靜電作用增強誘導的強偶極相互作用.當體系中加入反離子時，單價（Zc=1∶1時）的陰、陽反離子恰好與側鏈的正、負基團相互吸引，反離子的靜電屏蔽作用使得第二峰和第三峰減弱［圖7（B）］，并且lB=100.0時第三峰的位置的向r增大的方向移動.+3價反離子存在時，由于價態(tài)的不匹配性，一個+3價的陽離子可以吸引3個負離子基團，表現(xiàn)為多價離子的靜電關聯(lián)效應.Zc=3∶1時［圖7（C）］，第二峰的演化與Zc=0時的趨勢基本一致，第三峰的位置和峰高均介于Zc=0和Zc=1∶1時之間，表明多價離子的靜電關聯(lián)效應并不能誘導聚兩性離子刷形成更加有序的結構，不同于多價離子誘導的聚電解質刷表面組裝形成的有序結構［21］.

Fig.7 Pair correlation functions between the backbone monomers for different electrostatic interaction strengths

為了更好地理解反離子在聚兩性離子刷表面結構形成過程中的作用，按照反離子周圍帶電基團的分布將反離子分為4種狀態(tài)：自由（Free）、最近鄰凝聚（NNC）、鏈內(nèi)關聯(lián)（IAB）和鏈間關聯(lián)（IEB）［21］.具體做法為：以截斷半徑rcut=21/6（等于反離子與側鏈帶電基團對相互作用勢能的截斷半徑）建立每個反離子的帶電基團近鄰列表，當列表為0時反離子就是自由的；當列表中僅有1個側鏈基團時，反離子處于最近鄰凝聚狀態(tài)；當列表中有2個以上的側鏈基團均來自同一根接枝鏈時，反離子屬于鏈內(nèi)關聯(lián)；當列表中的側鏈基團來自不同的聚兩性離子鏈時，反離子則處于鏈間關聯(lián)狀態(tài).根據(jù)上述定義，計算了+1價和+3價陽性反離子的4種狀態(tài)份數(shù)（φ）隨Bjerrum長度的變化，結果如圖8所示.

Fig.8 Fractions of the four states[free,nearest neighbor condensation(NNC),intra-chain bridging(IAB),and inter-chain bridging(IEB)] of positive counterions as a function of Bjerrum length

從圖8可以看出，當lB≤1.0時，+1價和+3價的陽性反離子均處于自由狀態(tài).從反離子垂直襯底方向的密度分布函數(shù)來看，反離子均勻地分布在整個模擬盒子內(nèi)［圖5（D）和5（E）］，即刷層內(nèi)的反離子在靜電作用較弱時也沒有被吸附到接枝鏈上.隨著靜電作用的增強，多價的反離子首先被吸附到側鏈帶電基團周圍，對應自由狀態(tài)的反離子比例迅速減少，最近鄰凝聚、鏈內(nèi)關聯(lián)和鏈間關聯(lián)狀態(tài)的反離子依次增加.當lB=10.0時，大約一半的+3價反離子被吸附到側鏈基團上，鏈內(nèi)關聯(lián)狀態(tài)反離子的比例稍大于最近鄰凝聚狀態(tài)反離子，而+1價反離子大部分處于自由狀態(tài).靜電作用的進一步增強使得最近鄰凝聚狀態(tài)反離子和鏈內(nèi)關聯(lián)狀態(tài)反離子的比例都增加到最大值然后下降，下降轉變時對應的lB值+1價反離子較大.+3價反離子的鏈間關聯(lián)比例在lB=50.0時趨于穩(wěn)定，減少的最近鄰凝聚和鏈內(nèi)關聯(lián)的+3價反離子又恢復到自由狀態(tài).隨著靜電作用的進一步增強，自由狀態(tài)的反離子比例降低到極小值后又升高，這是由于足夠強的靜電相互作用使得聚兩性離子鏈上的正、負基團聚集形成釘扎狀膠束結構，膠束內(nèi)靜電平衡所需要的反離子數(shù)量降低，同時自由的陰、陽反離子也會自行團聚到一起形成團簇結構［圖5（D）插圖］，團簇結構不再被聚兩性離子鏈吸附到其周圍，引起了自由離子數(shù)量的增加.

3 結論

研究了靜電相互作用誘導的平板聚兩性離子刷在不同價態(tài)反離子組合情況下的表面形貌.隨著靜電相互作用的增強，聚兩性離子刷層最終都發(fā)生了橫向相分離，形成了釘扎狀膠束結構.但膠束內(nèi)主鏈單體與側鏈基團的排布和膠束的尺寸在不同價態(tài)反離子存在時有明顯的區(qū)別.沒有反離子存在時，側鏈基團間偶極相互作用的增強使得膠束內(nèi)主鏈單體和側鏈粒子的排布實現(xiàn)了反轉；Zc=3∶1時，由于離子價態(tài)的不匹配性，同樣可以觀察到反轉排布現(xiàn)象，粒子沿垂直襯底方向上的密度分布函數(shù)證實了這種分布規(guī)律.反離子的加入使得膠束內(nèi)聚集的粒子數(shù)量增加，尤其是+3價反離子的靜電關聯(lián)效應幾乎使得所有的接枝鏈都連成一團.通過計算主鏈單體間的對關聯(lián)函數(shù)和陽性反離子的4種狀態(tài)，發(fā)現(xiàn)當靜電作用足夠強時，反離子只有少部分被限制在膠束內(nèi)，處于鏈間關聯(lián)狀態(tài)，其余的正、負反離子相互結合.反離子的加入并不能誘導兩性離子刷形成更加有序的結構，這與聚電解質刷情況截然相反.本文模擬結果可為調控兩性離子刷的界面修飾性能提供有益的參考.