王偉明 李震 李慶忠

摘要 為提高球罩表面的加工質(zhì)量、加工效率，減少成本浪費，研究磨粒拋光過程中各運動參數(shù)對光學(xué)球罩表面材料去除均勻性的影響。以離散系數(shù)為評價指標，依據(jù)相對運動與向量法建立單顆磨粒運動軌跡模型。采用三角形網(wǎng)格對正二十面體表面進行迭代劃分，統(tǒng)計各三角網(wǎng)格中的軌跡點數(shù)，用軌跡點數(shù)來表征拋光次數(shù)。結(jié)果表明：轉(zhuǎn)速比對磨粒軌跡的分布與材料去除影響顯著；相同轉(zhuǎn)速比下，增大拋光頭半徑，離散系數(shù)逐漸降低，球罩表面材料去除均勻性由差變好；增大擺速，軌跡的長度與密度逐漸減小，離散系數(shù)隨之變大，球罩表面非均勻性增強；磨粒初始相位改變對軌跡均勻性基本無影響。

關(guān)鍵詞 光學(xué)球罩；磨粒軌跡；網(wǎng)格劃分；離散系數(shù)；均勻性

中圖分類號 TG73；TH161 文獻標志碼 A文章編號 1006-852X（2023）03-0386-06

DOI 碼 10.13394/j.cnki.jgszz.2022.0120

收稿日期 2022-08-05 修回日期 2022-10-06