李樹(shù)成 李海全 阮炳權(quán)
(廣東和宇傳感器有限公司 廣東省江門(mén)市 529100)
MEMS 硅壓力傳感器廣泛應(yīng)用于消費(fèi)電子、工業(yè)、醫(yī)療和汽車(chē)等多領(lǐng)域壓力的測(cè)量。在實(shí)際應(yīng)用中,壓力傳感器的可靠性要求越來(lái)越高,如汽車(chē)領(lǐng)域的壓力測(cè)量,壓力傳感器常會(huì)出現(xiàn)過(guò)載、壓力沖擊等惡劣工況,壓力傳感器的壽命設(shè)計(jì)要求達(dá)到10年。針對(duì)越來(lái)越嚴(yán)苛的應(yīng)用工況,對(duì)傳感器的要求越來(lái)越高。
傳統(tǒng)的硅壓力傳感器芯片使用正面受壓的方式,封裝方式一般使用膠水進(jìn)行die-bonding,然后進(jìn)行wirebonding 和膠水保護(hù)。傳統(tǒng)的硅正面受壓封裝結(jié)構(gòu),其正面的電路和鍵合連接線長(zhǎng)期暴露于壓力交變的介質(zhì)中,傳感器容易失效。使用正面受壓封裝方式,使用的die-bonding 膠水通常為硬度較低的硅膠。wire-bonding連接的邦定線通過(guò)膠水保護(hù),但是需要和測(cè)量的介質(zhì)長(zhǎng)期接觸,在壓力交變的影響下,邦定線長(zhǎng)期處于往復(fù)的動(dòng)作狀態(tài),經(jīng)過(guò)一定次數(shù)的壓力交變后,邦定線由于壓力疲勞導(dǎo)致斷裂失效。傳感器所用的保護(hù)膠水需要考慮是否和使用的介質(zhì)兼容,針對(duì)一些具有侵入性介質(zhì),需要特殊材質(zhì)的保護(hù)膠水,應(yīng)用的范圍有限。因此正面受壓封裝方式的介質(zhì)一般為潔凈的空氣,應(yīng)用的范圍有限,而使用在嚴(yán)苛介質(zhì)中必須要經(jīng)過(guò)復(fù)雜的封裝,其工藝復(fù)雜,成本高,競(jìng)爭(zhēng)力低。目前國(guó)內(nèi)研發(fā)的壓力傳感器,如表壓式壓力傳感器,膜片的結(jié)構(gòu)通常使用濕法刻蝕,膜片的只能承受3 倍的過(guò)載壓力,部分可以實(shí)現(xiàn)背壓式封裝,但是大多都使用膠水粘接的方式,其可靠性取決于膠水的本身特性以及粘接的工藝,長(zhǎng)期在惡劣的環(huán)境使用,如高溫交變或者有侵蝕性的介質(zhì),將會(huì)使膠水失效,因此現(xiàn)階段背壓應(yīng)用的膠水封裝方式可靠性不高。
本文研制一種背壓式高過(guò)載的壓力傳感器,該傳感器使用背壓式共晶結(jié)構(gòu),具有較好的介質(zhì)兼容性,機(jī)械限位結(jié)構(gòu)提高抗過(guò)載能力,能夠顯著的提高傳感器可靠性。
設(shè)計(jì)的傳感器芯片如圖1所示,其中a’為窄梁區(qū),b’為寬梁區(qū),c’為梁寬,d’為島寬。中心寬梁區(qū)布置兩個(gè)力敏電阻,邊緣兩個(gè)窄梁區(qū)各布置一個(gè)力敏電阻。兩個(gè)邊梁區(qū)和中心寬梁區(qū)在應(yīng)力的作用下變形,并且應(yīng)力集中在兩個(gè)邊梁區(qū)和中心寬梁區(qū)。由于島具有剛性,其起到了非線性補(bǔ)償作用。當(dāng)應(yīng)力從正面作用時(shí)候,兩個(gè)邊梁區(qū)產(chǎn)生正應(yīng)力,而中心寬梁產(chǎn)生負(fù)應(yīng)力。在中心的寬梁區(qū)布置R2,R3 兩個(gè)力敏電阻,在兩個(gè)邊梁區(qū)布置力敏電阻R1,R4,如圖2所示的惠斯登電橋和梁膜區(qū)的應(yīng)力變化曲線圖[1]。
圖1:傳感器示意圖
圖2:電橋組成和應(yīng)力分布圖
根據(jù)設(shè)計(jì)芯片的量程,選取SOI 晶圓表面單晶硅薄膜的厚度,表面單晶硅薄膜為N 型硅,晶向?yàn)?00,電阻率為0.8~1.2Ω?cm,硅片的厚度為425um。使用離子注入技術(shù),設(shè)計(jì)單個(gè)力敏電阻的阻值約為5KΩ。
傳感器的膜片采用梁島膜結(jié)構(gòu),梁膜島結(jié)構(gòu)能夠有效的提高傳感器的線性度。梁膜島結(jié)構(gòu)膜片由ICP 工藝加工,膜片在壓力的作用下形變,起應(yīng)力傳遞的作用;梁區(qū)為應(yīng)力的集中點(diǎn),力敏電阻布置在梁區(qū),能夠?qū)崿F(xiàn)高靈敏度的應(yīng)力測(cè)量;島區(qū)為剛性體,和梁區(qū)組合使應(yīng)力集中在梁區(qū),實(shí)現(xiàn)應(yīng)力的集中以提高靈敏度。梁島膜結(jié)構(gòu)使用干法工藝制作,梁島膜區(qū)的光刻和力敏電阻的光刻均在單面完成,光刻精度高。背壓腔體使用濕法刻蝕或者干法刻蝕制作,芯片使用SOI 晶圓,BOX 氧化硅層對(duì)濕法刻蝕具有明顯的自停止作用,能夠有效的控制膜片的厚度并降低工藝的難度。傳感器的靈敏度可以調(diào)整正面膜區(qū)ICP 刻蝕的深度來(lái)進(jìn)行匹配。
蓋板可實(shí)現(xiàn)絕壓參考腔體和過(guò)載限位結(jié)構(gòu)的功能。蓋板使用多次光刻,薄膜濺射和深刻蝕加工而成,蓋板的材質(zhì)可以是高硼硅玻璃或者單晶硅。制作好蓋板,可通過(guò)靜電鍵合或者共晶的方式和傳感器本體進(jìn)行密封連接。傳感器本體通過(guò)埋層引線的方式實(shí)現(xiàn)硅表面平坦化,再真空中靜電鍵合或共晶鍵合[2],可實(shí)現(xiàn)絕壓參考腔的結(jié)構(gòu)和過(guò)載限位結(jié)構(gòu)。蓋板中的凸臺(tái)設(shè)計(jì)與傳感器的彈性膜區(qū)的間距約4~6um,保證傳感器在2 倍的量程壓力下依然能夠正常過(guò)載工作,在達(dá)到3 倍的量程的壓力后,膜區(qū)和蓋板的凸臺(tái)接觸,實(shí)現(xiàn)膜片的過(guò)載限位。
采用設(shè)計(jì)的傳感器芯片結(jié)構(gòu)制作背壓式高過(guò)載壓力傳感器芯片樣品,制作工藝的主要步驟如下:
(1)SOI 硅片在熱氧化爐中以900℃熱氧化30 分鐘;
(2)光刻濃硼層引線,光刻后離子注入,在濃硼埋層引線區(qū)中摻雜硼原子,使其形成導(dǎo)電層,同時(shí)保證晶圓表面平整;
(3)光刻力敏電阻區(qū),采用離子注入摻雜硼原子,形成P 型導(dǎo)電層;
(4)退火及再分布,調(diào)節(jié)電阻區(qū)的方阻,形成力敏電阻;
(5)PECVD 淀積氮化硅;
(6)光刻引線孔的氮化硅和氧化硅;
(7)正面濺射鋁;
(8)光刻鍵合區(qū)的氮化硅;
(9)正面,背面濺射鉻鎳金;
(10)反刻鋁焊盤(pán)和鋁引線;
(11)光刻背面的引壓腔,刻蝕引壓腔的金屬層;
(12)正面使用膠保護(hù),背面腐蝕引壓腔到氧化層終止;
(13)蓋板使用光刻、濺射鉻鎳金和IBE、DRIE刻蝕;
(14)蓋板通過(guò)金錫共晶工藝和傳感器本體鍵合。
使用制作出來(lái)的2.5MPa壓力傳感器芯片進(jìn)行封裝,封裝的方式為背壓式封裝,使用金錫共晶焊接的方式。
壓力傳感器芯片封裝的有效性是直接影響壓力傳感器穩(wěn)定性、綜合精度指標(biāo)的關(guān)鍵因數(shù)。壓力傳感器的穩(wěn)定性,除了和傳感器本身結(jié)構(gòu)以及制作工藝的水平有關(guān)外,還和其封裝技術(shù)工藝有密切的關(guān)系。壓力傳感器的封裝方法,能夠有效的避免封裝的應(yīng)力、安裝的應(yīng)力或者材料的應(yīng)力對(duì)傳感器的穩(wěn)定性產(chǎn)生影響。封裝的應(yīng)力通常和封裝的方法有關(guān),在設(shè)計(jì)中需要考慮使用的封裝材料和傳感器具有相同的工作溫度,相近的材料熱膨脹系數(shù),減少由于熱交變或者蠕變產(chǎn)生的應(yīng)力降低傳感器的穩(wěn)定性。對(duì)于安裝應(yīng)力的影響,主要考慮傳感器封裝后制作成壓力變送器,所應(yīng)用的環(huán)境的安裝如扭矩,固定方式等,還能夠設(shè)計(jì)有效的結(jié)構(gòu)避免安裝固定應(yīng)力傳遞到壓力傳感器,有效的減少安裝應(yīng)力對(duì)傳感器穩(wěn)定性的影響。
本試驗(yàn)使用金錫共晶的方式對(duì)傳感器進(jìn)行封裝。其中使用的金錫焊料為Au80Sn20 焊料,Au80Sn20 金錫合金焊料具有較好的熱導(dǎo)率、強(qiáng)度高,潤(rùn)濕性好,抗氧化性能好,耐腐蝕性強(qiáng),抗熱疲勞和蠕變性能優(yōu)良。它與高鉛焊料熔點(diǎn)最相近,在金焊盤(pán)、和鈀銀焊盤(pán)上使用該釬料時(shí)還可避免吃金問(wèn)題和焊盤(pán)脫落現(xiàn)象。該焊料與低熔點(diǎn)的無(wú)鉛共晶焊料相比,具有更高的穩(wěn)定性和可靠性。Au80Sn20 共晶焊料在封裝焊接中無(wú)需助焊劑,避免了因使用助焊劑對(duì)半導(dǎo)體芯片形成的污染和腐蝕。
Au80Sn20 焊料具有較低的熔點(diǎn),它的共晶點(diǎn)在280℃,在此溫度下,共晶反應(yīng)為液相L ←→ξ+δ,其結(jié)構(gòu)具有ξ(Au5Sn)鎂型六角密排結(jié)構(gòu)的ξ(Au5Sn)相,和δ(AuSn)金屬間化合物組成,δ 相是一種金屬間化學(xué)物,其熔點(diǎn)為419.3℃,具有NiAs 型六角結(jié)構(gòu)。在焊接的過(guò)程中,金錫焊料與芯片的背金層產(chǎn)生原子擴(kuò)散,形成具有ξ 相與δ 相金屬間化合物的共晶體。此過(guò)程就是共晶焊接的基本原理[4]。
考慮背壓式高過(guò)載壓力傳感器芯片的結(jié)構(gòu)特點(diǎn),本試驗(yàn)使用高溫不銹鋼材料加工壓力座,高溫不銹鋼的熱膨脹系數(shù)和硅的熱膨脹系數(shù)接近,壓力座設(shè)計(jì)有共晶面和焊接面,壓力座設(shè)計(jì)有有應(yīng)力隔離結(jié)構(gòu),能夠避免壓力座安裝應(yīng)力傳遞到壓力傳感器芯片上。壓力座的共晶面要求加工的粗糙度較低,通過(guò)電鍍的方式在共晶面鍍金屬鎳和金。
設(shè)計(jì)的傳感器封裝結(jié)構(gòu)為共晶焊接,需要設(shè)計(jì)工裝進(jìn)行定位進(jìn)行焊接。本試驗(yàn)中使用共晶工裝對(duì)壓力座進(jìn)行裝配,要求共晶的工裝必須能夠耐高溫且結(jié)構(gòu)穩(wěn)定且不容易變形。本試驗(yàn)中使用石墨導(dǎo)熱材料制作,也可以使用如不銹鋼等材料制作,石墨工裝具有高溫結(jié)構(gòu)穩(wěn)定,導(dǎo)熱快等特點(diǎn),工裝能夠在共晶的時(shí)候快速的吸熱并傳遞到壓力座上。通過(guò)使用共晶工裝固定壓力座,金錫材料,壓力傳感器,形成穩(wěn)固的結(jié)構(gòu),能夠在共晶爐里面完成有效的共晶焊接。
傳感器芯片共晶的質(zhì)量是影響傳感器穩(wěn)定性決定性因素。其中壓力傳感器共晶的空洞率是影響壓力傳感器密封可靠性的關(guān)鍵因素,控制傳感器共晶焊接的空洞率,尤其是需要控制整個(gè)焊接面共晶的空洞不形成壓力的泄露通道。通過(guò)調(diào)節(jié)壓力傳感器共晶焊接的工藝,如調(diào)節(jié)共晶爐共晶時(shí)候的共晶溫度曲線、真空率,保護(hù)氣體的壓力等,可以有效的減少空洞率[3]。
3.3.1 共晶焊接溫度曲線的控制
共晶焊接的溫度曲線的控制,直接決定共晶焊接的質(zhì)量。共晶焊接溫度曲線的確定通常受多個(gè)因素的影響,第一考慮因素為所使用材料的共晶溫度點(diǎn),材料的回流的溫度點(diǎn)。第二因素為工件的數(shù)量,工件的大小、吸熱效率等,第三因素為共晶爐內(nèi)氣體含量對(duì)共晶溫度的傳遞的有效性。本試驗(yàn)中使用的共晶爐溫曲線如圖3所示。
圖3:共晶焊接溫度曲線
3.3.2 真空率和保護(hù)氣體的控制
通過(guò)調(diào)節(jié)真空度,能夠有效的減少壓力傳感器芯片共晶時(shí)的氧氣含量,利用反復(fù)調(diào)節(jié)真空度和充氮?dú)獾姆椒?,去除真空共晶爐里面的氧氣,減少氧氣在高溫條件下對(duì)共晶焊料的氧化作用,同時(shí)充氮?dú)獾牟僮髂軌蛴行У睦玫獨(dú)庾鳛闊崃康膫鬟f媒介,實(shí)現(xiàn)加熱器和工件的有效熱量傳遞和對(duì)焊料的保護(hù)。在共晶焊料的熔融回流狀態(tài),通過(guò)抽真空處理,能夠有效的去除熔融焊料的氣泡,實(shí)現(xiàn)減少共晶焊接空洞率的目的。
使用2.5 MPa 壓力傳感器芯片樣品通過(guò)共晶焊接的方式進(jìn)行封裝,壓力的加壓方向?yàn)楸硥菏剑?/p>
測(cè)試設(shè)備:可編程恒壓5V 電源,威卡壓力控制器一臺(tái),60 MPa 活塞式壓力計(jì)一臺(tái),高低溫箱1 臺(tái),福祿克5 位半數(shù)字萬(wàn)用表;
在25℃下,傳感器封裝好后,使用威卡壓力控制器給傳感器組件分別施加0 MPa,0.5 MPa,1.5 MPa,2 MPa,2.5 MPa 的壓力,正向和反向各3 個(gè)行程,計(jì)算傳感器的靈敏度,非線性,重復(fù)性和遲滯;分別把傳感器防止在-40℃和125℃中,測(cè)試傳感器的0 MPa,2.5MPa壓力下的輸出電壓,計(jì)算傳感器的熱零點(diǎn)漂移和熱靈敏度漂移,結(jié)果如表1所示。
表1:壓力傳感器的測(cè)試結(jié)果
在常溫的條件下,使用威卡壓力控制器施加0 MPa,0.5 MPa,1.5 MPa,2 MPa, 2.5 MPa,3 MPa,3.5 MPa,4 MPa,4.5 MPa,5 MPa 壓力給傳感器,測(cè)試傳感器的輸出電壓,記錄傳感器的輸出電壓,結(jié)果表明傳感器能夠滿足2 倍的過(guò)載壓力使用要求。
在常溫的條件下,使用60 MPa 活塞式壓力計(jì)給傳感器以1 MPa 為間隔施加壓力,直到傳感器出現(xiàn)泄露,試驗(yàn)結(jié)果表明,傳感器在24 MPa 左右出現(xiàn)破裂,膜片和蓋板均爆裂,傳感器和基座的共晶結(jié)構(gòu)均完好無(wú)損,證明所設(shè)計(jì)的壓力傳感器和共晶結(jié)構(gòu)能夠滿足8 倍爆破的要求,實(shí)現(xiàn)了背壓式高過(guò)載。
設(shè)計(jì)的背壓式高過(guò)載壓力傳感器,通過(guò)設(shè)置梁島膜結(jié)構(gòu),能夠有效的保證傳感器的線性度。通過(guò)設(shè)置蓋板限位結(jié)構(gòu),背部濺射鉻鎳金金屬層,能夠?qū)崿F(xiàn)背壓式共晶焊接測(cè)量,在保證傳感器線性度和滿足2 倍過(guò)載使用壓力的前提下,提高了傳感器的過(guò)載爆破保護(hù)能力。實(shí)際測(cè)試證明,設(shè)計(jì)的傳感器過(guò)載爆破壓力可達(dá)量程的8倍。