裴亞星,周 聰,余兆菊
(1.鄭州磨料磨具磨削研究所有限公司,河南 鄭州 450002;2.廈門大學(xué)材料學(xué)院,福建 廈門 361005;3.安徽工程大學(xué)材料科學(xué)與工程學(xué)院,安徽 蕪湖 243002)
碳化鈦(TiC)具有低密度、高熔點(diǎn)、高硬度的特性以及優(yōu)異的導(dǎo)電、導(dǎo)熱和機(jī)械性能[1],在航天領(lǐng)域中被認(rèn)為是非常有前景的陶瓷材料.然而TiC單相陶瓷存在燒結(jié)性不佳、高溫抗氧化性差等缺點(diǎn),限制了其廣泛的應(yīng)用.TiC摻雜碳化硅(SiC)制備的復(fù)相陶瓷的抗氧化性能更加優(yōu)異,也更適合耐高溫領(lǐng)域的應(yīng)用[2-3].此外,SiC基復(fù)相陶瓷MC-SiC(M=Ti,Zr,Hf)等更適合在極端惡劣環(huán)境下使用,已經(jīng)在過(guò)去幾十年引起了眾多學(xué)者的廣泛關(guān)注[4-5].
由于四氯化鈦(TiCl4)結(jié)構(gòu)及組成簡(jiǎn)單,可以避免過(guò)多的C和O元素被引入先驅(qū)體中,所以本研究采用TiCl4作為鈦源,將其與液態(tài)超支化烯丙基聚碳硅烷(AHPCS)反應(yīng)合成聚鈦碳硅烷雜化先驅(qū)體,再經(jīng)交聯(lián)、高溫裂解制備Si-Ti-C陶瓷,并對(duì)聚鈦碳硅烷先驅(qū)體的合成、交聯(lián)和陶瓷化過(guò)程,以及Si-Ti-C陶瓷的結(jié)晶行為和耐高溫性能進(jìn)行深入研究.
在惰性氣氛保護(hù)下,往50 mL的Schlenk瓶中加入一定量的AHPCS和TiCl4,AHPCS和TiCl4的質(zhì)量比分別為2∶1,3∶1,4∶1,在室溫下攪拌3 h后,溶液逐漸由淡黃色變?yōu)楹谏茵ざ仍龃?;將反?yīng)后制得的產(chǎn)物命名為聚鈦碳硅烷先驅(qū)體(AHT),分別記為AHT-2, AHT-3, AHT-4.未添加TiCl4的AHPCS也按照相同操作進(jìn)行處理,用于對(duì)照實(shí)驗(yàn).
聚合物先驅(qū)體的裂解:稱取一定量的在140 ℃下交聯(lián)反應(yīng)6 h的先驅(qū)體置于瓷舟中,然后轉(zhuǎn)移到管式爐里,在Ar氣氛下,以5 ℃/min的升溫速率升到預(yù)設(shè)溫度(300~900 ℃)后保溫2 h,然后隨爐自然冷卻至室溫.陶瓷的高溫?zé)Y(jié):將900 ℃熱解制得的樣品置于石墨舟中,然后轉(zhuǎn)移至高溫管式爐里,在Ar氣氛下,以5 ℃/min 的升溫速率升到預(yù)設(shè)溫度Tp(1 100~1 600 ℃)后保溫2 h,然后隨爐自然冷卻.
采用傅里葉變換紅外(FT-IR)光譜對(duì)雜化先驅(qū)體的合成過(guò)程進(jìn)行表征(Nicolet Avator 360傅里葉紅外光譜儀,波數(shù)范圍4 000~400 cm-1,分辨率4 cm-1).采用熱重(TG)分析儀對(duì)先驅(qū)體陶瓷化轉(zhuǎn)變過(guò)程進(jìn)行深入研究(德國(guó)Netzsch STA 409C熱分析儀及QMS 403C Aeolos四級(jí)質(zhì)譜儀,測(cè)試條件:Ar氛圍,升溫速率10 ℃/min).采用X射線衍射(XRD)儀分析陶瓷樣品的物相組成和結(jié)晶行為(Rigaku Ultima ⅣXRD儀,掃描范圍2θ=10°~90°,掃描速度為10 (°)/min).采用掃描電子顯微鏡(SEM)分析陶瓷樣品的顆粒形貌(德國(guó)LEO 1530場(chǎng)發(fā)射SEM,工作電壓20 kV),并結(jié)合電子衍射能譜(EDS,日本JEOL公司JAX-8100)分析陶瓷產(chǎn)物的元素組成.
Si—CH3在交聯(lián)反應(yīng)中不參與反應(yīng),其吸收峰強(qiáng)度基本不變,因此以1 255 cm-1處的Si—CH3吸收峰為基準(zhǔn)對(duì)其他吸收峰進(jìn)行半定量分析,Si—H與Si—CH3的吸收峰的積分面積比(A(Si—H)∶A(Si—CH3))可間接反映Si—H的反應(yīng)程度[22].從表1可以看出:隨著TiCl4添加量的增加,A(Si—H)∶A(Si-CH3)逐漸減小,表明TiCl4引入后,Si—H大量參與反應(yīng),促進(jìn)了AHPCS自身的交聯(lián),有利于提高聚合物的交聯(lián)度[17].此外將反應(yīng)瓶出氣口通入石蕊溶液,檢測(cè)表明釋放的氣體為酸性氣體,再通入AgNO3溶液得到白色沉淀,表明反應(yīng)生成了HCl氣體,證明TiCl4與AHPCS發(fā)生了化學(xué)反應(yīng).依據(jù)文獻(xiàn)[19]報(bào)道,Cp2TiCl2可與AHPCS反應(yīng),在將Ti元素引入先驅(qū)體的同時(shí)釋放出HCl氣體,再結(jié)合上述實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù),推測(cè)本研究中含Ti單源先驅(qū)體AHT的合成機(jī)理可能如圖3所示:
表1 AHPCS和AHT先驅(qū)體交聯(lián)實(shí)驗(yàn)的相關(guān)數(shù)據(jù)Tab.1 Relevant data of cross-linking experiment of AHPCS and AHT precursor
1) AHPCS與TiCl4在常溫下即可進(jìn)行反應(yīng),并制得含Ti單源先驅(qū)體,而在一定溫度(如140 ℃)下進(jìn)行保溫,還可以促進(jìn)AHPCS與TiCl4之間進(jìn)一步反應(yīng);2) TiCl4的引入還可以促進(jìn)先驅(qū)體中的硅氫加成反應(yīng)和脫氫耦合反應(yīng),進(jìn)而提高單源先驅(qū)體的交聯(lián)度[11,17].
將140 ℃下交聯(lián)反應(yīng)6 h后的AHT在900 ℃惰性氣氛中進(jìn)行熱解,所得陶瓷產(chǎn)率如表1所示,可以看出:AHT的陶瓷產(chǎn)率均高于AHPCS,隨著TiCl4的添加量不斷提高,陶瓷產(chǎn)率在AHT-2達(dá)到最高,為85.5%;而AHPCS在900 ℃時(shí)的陶瓷產(chǎn)率僅為76.1%.
為了對(duì)AHT的陶瓷化過(guò)程進(jìn)行深入研究,對(duì)AHT-2、AHT-3、AHT-4和AHPCS分別進(jìn)行TG表征,測(cè)試結(jié)果如圖4所示.AHT和AHPCS的TG曲線都可以分成3個(gè)階段.
室溫至350 ℃階段,AHPCS的TG曲線基本保持水平,沒(méi)有明顯失重;350~800 ℃區(qū)間,AHPCS出現(xiàn)持續(xù)的失重,失重達(dá)到25%;800 ℃之后其TG曲線趨于平緩,表明陶瓷化轉(zhuǎn)變基本結(jié)束.而 AHT的TG曲線僅在100 ℃之前保持水平狀態(tài),當(dāng)溫度升高到100 ℃以上即出現(xiàn)失重,并且在100~800 ℃溫度區(qū)間內(nèi)可以觀察到樣品質(zhì)量持續(xù)減少.但AHT的失重速率顯著低于AHPCS;在100~500 ℃溫度區(qū)間內(nèi)AHT-2的失重最少,約為10%;800 ℃之后,AHT的TG曲線同樣趨于平緩,標(biāo)志著有機(jī)聚合物到無(wú)機(jī)陶瓷轉(zhuǎn)變的完成.1 000 ℃時(shí)AHT-2、AHT-3、AHT-4的陶瓷產(chǎn)率分別高達(dá)85.5%,84.1%,82.8%,其中AHT-2相比于AHPCS的陶瓷產(chǎn)率提高約10個(gè)百分點(diǎn),這表明由于引入TiCl4進(jìn)行改性,陶瓷產(chǎn)率得到了顯著提高.
當(dāng)熱處理溫度高于900 ℃時(shí),只能在800~1 100 cm-1區(qū)間觀察到一個(gè)寬峰,可以歸屬于Si—C吸收峰.隨著溫度不斷升高,1 300 ℃時(shí)Si—C吸收峰變得更加顯著,表明陶瓷中開(kāi)始產(chǎn)生相分離,產(chǎn)生SiC晶粒.當(dāng)熱處理溫度升高至1 600 ℃時(shí),Si—C吸收峰變得更加突出且尖銳,表明SiC晶粒隨著加熱而逐漸粗化.需要注意的是,在FT-IR譜圖中并未發(fā)現(xiàn)TiC的吸收峰,這一方面是由于產(chǎn)物中的TiC含量較低,另一方面是由于Ti—C的吸收峰較弱,難以探測(cè)到,所以需要進(jìn)一步采用XRD分析所得陶瓷的相組成.
陶瓷的結(jié)晶行為是評(píng)價(jià)其耐高溫性能的一個(gè)重要指標(biāo),為了研究所得陶瓷產(chǎn)物的相組成和結(jié)晶行為,采用XRD表征AHT-2先驅(qū)體在不同溫度下的燒結(jié)產(chǎn)物,結(jié)果如圖6所示.600~700 ℃的XRD譜圖中未觀察到衍射峰,表明該溫度下所得Si-Ti-C陶瓷高度無(wú)序,處于無(wú)定形態(tài).進(jìn)一步加熱至900 ℃后,開(kāi)始在2θ=36°,41°和60°出現(xiàn)微弱的衍射峰,表明產(chǎn)物開(kāi)始出現(xiàn)相分離和結(jié)晶;然而由于燒結(jié)溫度較低,測(cè)得的結(jié)晶峰為寬峰,并且TiC與β-SiC的衍射峰位置非常接近,兩者相互重疊導(dǎo)致無(wú)法區(qū)分.當(dāng)燒結(jié)溫度從1 100 ℃ 逐漸升高至1 400 ℃,衍射峰強(qiáng)度逐漸增強(qiáng),表明結(jié)晶相的晶粒逐漸增大.當(dāng)溫度升至1 600 ℃,TiC與β-SiC的衍射峰變得更加尖銳和顯著.其中,2θ=35.6°(111),41.3°(200),60.0°(220),71.9°(311)的4個(gè)主峰歸屬于β-SiC結(jié)晶;而在2θ=41.8°處的衍射峰(如圖6-b所示)為TiC的特征峰[19].TiC其他的特征峰2θ=36.1° (111), 60.7° (220) 和72.9° (113)在放大的XRD譜圖中(圖6-a、c、d所示)也均可以與β-SiC衍射峰明顯區(qū)分.這一結(jié)果表明,經(jīng)過(guò)1 600 ℃燒結(jié)后,β-SiC和TiC晶體的分相變得更為顯著,生成了SiC-TiC復(fù)相陶瓷.TiC結(jié)晶的出現(xiàn)表明通過(guò)TiCl4改性AHPCS成功地將Ti元素引入聚合物先驅(qū)體中,結(jié)合圖2和反應(yīng)中檢測(cè)到的HCl氣體,進(jìn)一步證實(shí)TiCl4是以化學(xué)鍵合的方式被引入先驅(qū)體的.
為考察TiCl4投料比對(duì)復(fù)相陶瓷微觀結(jié)構(gòu)的影響,對(duì)不同投料比的AHT在1 600 ℃燒結(jié)后得到的樣品進(jìn)行XRD表征.如圖7所示,隨著TiCl4投料量的增加,TiC衍射峰的強(qiáng)度明顯增強(qiáng),而SiC衍射峰的強(qiáng)度逐漸減弱,這表明SiC-TiC復(fù)相陶瓷的相組成和結(jié)晶度可以通過(guò)單源先驅(qū)體的化學(xué)組成靈活調(diào)控.圖7-a~c為XRD譜圖的局部放大圖,通過(guò)對(duì)比可知,在1 600 ℃時(shí)AHT的β-SiC衍射峰強(qiáng)度相對(duì)于AHPCS明顯減弱,表明TiCl4的引入有效抑制了β-SiC的結(jié)晶.
依據(jù)圖7,利用Scherrer公式[23]以2θ=35.6°和41.7°處的衍射峰來(lái)分別計(jì)算β-SiC和TiC的平均晶粒尺寸,結(jié)果如表2所示:隨著Ti含量的提高,1 600 ℃的燒結(jié)產(chǎn)物中β-SiC的晶粒尺寸不斷減小,根據(jù)相關(guān)文獻(xiàn)[13,19,24-25],這是由于過(guò)渡金屬元素Ti的存在使晶粒長(zhǎng)大過(guò)程中SiC生長(zhǎng)速率發(fā)生了變化,有效地抑制SiC陶瓷晶粒的長(zhǎng)大;同時(shí),TiC的晶粒尺寸隨Ti含量的升高而增大,均保持在40~50 nm 范圍內(nèi).
表2 在1 600 ℃燒結(jié)2 h后陶瓷產(chǎn)物中β-SiC和TiC的晶粒尺寸Tab.2 Grain sizes of β-SiC and TiC of ceramic products sintered at 1 600 ℃ for 2 h
采用SEM對(duì)AHT-3在1 600 ℃燒結(jié)制得的SiC-TiC復(fù)相陶瓷進(jìn)行表征,圖8(a)和(b)為其表面SEM圖,可以看出,由于經(jīng)歷了高溫?zé)Y(jié),陶瓷發(fā)生了劇烈的相分離和晶粒粗化,導(dǎo)致陶瓷表面坑洼不平,呈現(xiàn)大量凸起的不規(guī)則微小顆粒.采用EDS對(duì)陶瓷元素組成進(jìn)行分析,如圖8(c)所示,所得SiC-TiC復(fù)相陶瓷中含有豐富的Si和C元素,以及一定量的Ti元素,且產(chǎn)物中的Ti/Si元素質(zhì)量比(圖8(d))與AHT-3先驅(qū)體中的基本一致.上述測(cè)試結(jié)果證明采用TiCl4改性AHPCS可以成功制備SiC-TiC復(fù)相陶瓷.
本研究采用TiCl4對(duì)AHPCS進(jìn)行化學(xué)改性制備了一系列具有不同Ti含量的單源先驅(qū)體AHT,并對(duì)其熱交聯(lián)、陶瓷化過(guò)程以及高溫穩(wěn)定性進(jìn)行了深入研究和分析,結(jié)果表明:1) TiCl4與AHPCS發(fā)生化學(xué)反應(yīng),Ti元素被成功引入先驅(qū)體中;2) TiCl4的引入有效地促進(jìn)了先驅(qū)體的交聯(lián),減少了裂解過(guò)程中小分子的分解和揮發(fā),最終提高了陶瓷產(chǎn)率,在惰性氣體下經(jīng)900 ℃裂解制得Si-Ti-C無(wú)定形陶瓷,其中AHT-2的陶瓷產(chǎn)率最高,達(dá)到85.5%,比AHPCS提高了近10個(gè)百分點(diǎn);3) AHT經(jīng)1 600 ℃燒結(jié)制得SiC-TiC復(fù)相陶瓷,所得陶瓷的元素分布均勻,且Ti元素的摻入有效抑制了SiC晶粒的長(zhǎng)大,提高了陶瓷的高溫穩(wěn)定性.該方法簡(jiǎn)便,原料易得,無(wú)需使用溶劑,制備過(guò)程簡(jiǎn)單可控,為制備無(wú)氧SiC-MC(M 為金屬)復(fù)相陶瓷提供了一種新穎、便捷的策略.