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        光亮劑對鋰電銅箔表面質(zhì)量的影響研究

        2022-08-18 03:17:18朱若林代澤宇
        銅業(yè)工程 2022年3期
        關(guān)鍵詞:質(zhì)量

        宋 言,朱若林,林 毅,代澤宇

        (江西銅業(yè)技術(shù)研究院有限公司,江西 南昌 330096)

        1 引言

        在鋰離子電池制備中,銅箔充當(dāng)鋰離子電池負(fù)極的集流體,是制作鋰離子電池的核心原材料,占電池總成本的5%左右,在整個(gè)電池中銅箔材料的重量占比僅次于正極材料[1-3]。在銅箔厚度和質(zhì)量一定的條件下,足夠高的抗拉強(qiáng)度和斷裂延伸率是制備高性能鋰離子電池的必要條件[4-5]。除此之外,銅箔合適的光澤度、粗糙度和微觀表面形貌也是保證鋰離子電池穩(wěn)定性的重要條件[6-7]。

        鋰離子電池的正負(fù)極活性物質(zhì)在充放電過程中體積會發(fā)生變化,這對活性物質(zhì)與集流體之間的粘接性提出了較高的要求[8]。電極活性物質(zhì)與集流體之間的粘接性除了受到粘結(jié)劑的影響外,集流體的表面狀況也會對粘接性產(chǎn)生顯著的影響[9]。因此,控制銅箔表面均勻的微觀形貌來保障銅箔有足夠的粘結(jié)性尤為重要。在銅箔中調(diào)控光亮劑是細(xì)化晶粒、改變顯微形貌和控制粗糙度的一個(gè)重要手段[10-11],所以,選擇合適的光亮劑十分重要。

        為此,本文選取了四種比較常見、報(bào)道較多的光亮劑,對比研究了它們對鋰電銅箔表面質(zhì)量的影響。四種光亮劑分別是異硫脲丙磺酸內(nèi)鹽(UPS)、3-巰基-1-丙烷磺酸鈉(MPS)、N,N-二甲基二硫代甲酰胺丙烷磺酸鈉(DPS)和醇硫基丙烷磺酸鈉(HP)[5,12-14]。通過實(shí)驗(yàn)對比,研究了四種光亮劑的光亮效果以及對于8 μm銅箔樣品力學(xué)性能和表面微觀形貌帶來的影響。

        2 實(shí)驗(yàn)部分

        2.1 樣品制備

        在含有20L鍍液的電解槽中進(jìn)行直流電沉積實(shí)驗(yàn),選用性能穩(wěn)定的鍍銥鈦陽極板和工業(yè)純鈦陰極板[15]。鈦陰極板四周用聚四氟乙烯膠帶覆蓋,電鍍區(qū)域?yàn)?40 mm×160 mm,生產(chǎn)工藝為:Cu2+質(zhì)量濃度90 g/L,濃硫酸質(zhì)量濃度105 g/L,Cl-質(zhì)量濃度20 mg/L,蛋白質(zhì)量濃度0~6 mg/L,羥乙基纖維素質(zhì)量濃度0~10 mg/L,高抗劑0~5 mg/L,光亮劑質(zhì)量濃度0~6 mg/L,溫度53 ℃,電流密度60 A/dm2,流速6 m3/h。

        2.2 測試方法

        用JSM-6510型掃描電鏡分析銅箔毛面表面形貌,用SMN 268智能型光澤度儀測量銅箔毛面光澤,用MarSurf M300C粗糙度儀測試銅箔毛面粗糙度,用RGM-6005型微機(jī)控制電子萬能試驗(yàn)機(jī)參照IPC-TM-650標(biāo)準(zhǔn)測抗拉強(qiáng)度和斷裂總延伸率。

        3 結(jié)果與討論

        3.1 光亮劑濃度對銅箔光澤度與粗糙度的影響

        光亮劑濃度對銅箔樣品毛面光澤度的影響如圖1(a)所示。結(jié)果表明,隨著光亮劑濃度的升高,除UPS外,MPS、DPS和HP都能使銅箔光澤提升。當(dāng)質(zhì)量濃度低于1.5 mg/L時(shí),MPS、DPS和HP對銅箔的光亮效果相似,光澤均在100 GU以內(nèi);當(dāng)質(zhì)量濃度達(dá)到3 mg/L時(shí),MPS和HP都能使銅箔光澤度增加到200 GU以上,并且隨其質(zhì)量濃度的增加而增加;而DPS光亮效果相對較弱,需要達(dá)到6 mg/L才能達(dá)到相似效果。

        光亮劑濃度對銅箔樣品的毛面粗糙度的影響如圖1(b)所示。整體而言,銅箔的毛面粗糙度隨四種光亮劑濃度的升高而降低,MPS的作用最明顯。當(dāng)MPS質(zhì)量濃度為2.5 mg/L時(shí),粗糙度Rz(Rz為輪廓不平度十點(diǎn)高度)就已降低至1.34 μm左右,但當(dāng)MPS的濃度增至2.5 mg/L以上時(shí),對粗糙度的降低效果不明顯;對于HP,需要3 mg/L時(shí)才能達(dá)到MPS的效果。值得注意的是,銅箔粗糙度仍能隨著HP濃度的增加繼續(xù)降低,Rz最低可達(dá)到1.15 um;DPS效果稍差,質(zhì)量濃度為6 mg/L時(shí),Rz仍有1.4 um;UPS濃度變化對銅箔粗糙度的影響最弱,基本可以忽略不計(jì),考慮到其對銅箔光澤度的變化幾乎沒有影響,推斷粗糙度的變化僅僅是因?yàn)槠溆鄮追N添加劑消耗所導(dǎo)致。

        圖1 光亮劑質(zhì)量濃度對毛面光澤度(a)和粗糙度(b)的影響

        通過SEM分別對加入四種光亮劑的銅箔樣品微觀形貌進(jìn)行了觀察,結(jié)果如圖2所示。添加UPS的銅箔樣品形貌基本無變化,且不隨濃度發(fā)生改變;加入MPS后銅箔樣品形貌發(fā)生明顯改變,隨著質(zhì)量濃度增加,山巒溝壑形貌逐漸變得更加平坦,質(zhì)量濃度增至2.5 mg/L后形貌基本平坦無溝壑,而此時(shí)銅箔宏觀粗糙度也處于較低的水平,表現(xiàn)出良好的一致性;加入DPS后,銅箔表面形貌也呈現(xiàn)山巒溝壑狀,隨著其質(zhì)量濃度增加,山巒形貌先增加后降低,質(zhì)量濃度增至6 mg/L時(shí),銅箔表面形貌已經(jīng)基本平坦無溝壑;HP的效果最好,質(zhì)量濃度為3 mg/L時(shí),表面光滑平坦,但濃度繼續(xù)增加后,表面質(zhì)量反而變差,意味著已經(jīng)添加過量。

        圖2 分別添加UPS、MPS、DPS和HP的銅箔樣品毛面SEM圖

        3.2 光亮劑含量對銅箔的抗拉強(qiáng)度與斷裂延伸率的影響

        抗拉強(qiáng)度和斷裂延伸率是銅箔產(chǎn)品應(yīng)用的重要物性指標(biāo),一定程度上決定著產(chǎn)品品質(zhì)的高低[16],因此,銅箔樣品的抗拉強(qiáng)度和斷裂延伸率也是研究的重點(diǎn)。

        銅箔樣品的抗拉強(qiáng)度和斷裂延伸率隨四種光亮劑含量的變化如圖3所示??梢园l(fā)現(xiàn),加入DPS和HP后,銅箔樣品抗拉強(qiáng)度都表現(xiàn)出隨光亮劑質(zhì)量濃度增加而降低的趨勢,當(dāng)它們的質(zhì)量濃度分別達(dá)到6 mg/L和5 mg/L時(shí),抗拉強(qiáng)度分別降低了15.3%和10.6%,但最終抗拉強(qiáng)度均能保持在400 MPa左右;加入MPS后,抗拉強(qiáng)度表現(xiàn)出降低的趨勢,質(zhì)量濃度為3 mg/L時(shí),抗拉強(qiáng)度降低至415 MPa;加入U(xiǎn)PS后,銅箔抗拉強(qiáng)度變化較小,質(zhì)量濃度達(dá)6 mg/L時(shí),抗拉強(qiáng)度由初始458 MPa增加到477 MPa。

        銅箔樣品斷裂延伸率隨四種光亮劑含量的變化如圖3(b)所示??梢园l(fā)現(xiàn),前期加入MPS、DPS和HP后,銅箔樣品斷裂延伸率呈現(xiàn)出增加的趨勢,最高達(dá)4%以上;繼續(xù)增加濃度,加入MPS和HP的銅箔斷裂延伸率呈現(xiàn)降低的趨勢,但總體上均在3%以上,DPS表現(xiàn)出相對更好增加斷裂延伸率的效果,斷裂延伸率隨濃度質(zhì)量的提高而增強(qiáng);加入U(xiǎn)PS后,銅箔樣品的斷裂延伸率變化很小,僅有小幅的增加。造成銅箔抗拉強(qiáng)度和斷裂延伸率變化的原因可能是光亮劑的加入改變了銅箔的取向,或在生成銅箔時(shí)形成了摻雜。

        圖3 光亮劑的質(zhì)量濃度對抗拉強(qiáng)度(a)和斷裂延伸率(b)的影響

        4 結(jié)論

        (1)在實(shí)驗(yàn)中,銅箔光澤度均隨HP、DPS和MPS濃度增加而升高,粗糙度與光澤度變化相反,表現(xiàn)出了較好的光亮劑效果,UPS效果最弱,未能發(fā)揮光亮劑效果。

        (2)在實(shí)驗(yàn)中,加入HP、DPS和MPS后,銅箔樣品抗拉強(qiáng)度都表現(xiàn)出降低的趨勢,但制得銅箔抗拉強(qiáng)度基本均在400 MPa以上,而加入U(xiǎn)PS后,銅箔樣品強(qiáng)度變化較小。

        (3)HP、DPS、MPS能表現(xiàn)出很好的光亮效果,并且表面形貌和抗拉強(qiáng)度均能保持在一定水平,而UPS無明顯增亮效果和其他效果,表明僅UPS在研究的添加劑配方體系下沒有光亮劑的效果。

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