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        真空滅弧室表面拉弧問題的分析與解決

        2022-08-03 02:32:26趙子文
        通信電源技術(shù) 2022年6期
        關(guān)鍵詞:滅弧場強(qiáng)電場

        汪 路,趙子文

        (1.陜西寶光真空電器股份有限公司,陜西 寶雞 721006;2.西電寶雞電氣有限公司,陜西 寶雞 721306)

        1 表面拉弧問題

        超高壓老煉作業(yè)過程如圖1所示[1]。滅弧室動(dòng)端加超高壓電、靜端接地,滅弧室內(nèi)部的絕緣性能很高,但是外部絕緣需要借助絕緣介質(zhì),而絕緣介質(zhì)的絕緣性能受室內(nèi)溫濕度、雜質(zhì)等因素干擾不穩(wěn)定,常常出現(xiàn)電壓還未升高到作業(yè)要求時(shí),滅弧室外側(cè)就出現(xiàn)拉弧問題。大量的電荷瞬間釋放,擊穿絕緣介質(zhì),從滅弧室的瓷殼表面拉過,如圖2所示。電弧對滅弧室瓷殼表面造成外部損傷,導(dǎo)致產(chǎn)品報(bào)廢[2]。

        圖1 超高壓老煉作業(yè)圖示

        圖2 表面拉弧現(xiàn)象

        2 拉弧及擊穿現(xiàn)象的原理解讀

        2.1 拉弧及擊穿現(xiàn)象的物理原理

        2.1.1 電子崩

        場強(qiáng)高到一定程度,電子在向陽極運(yùn)動(dòng)時(shí)會(huì)碰撞電離,在連鎖碰撞后產(chǎn)生更多的電子,像雪崩一樣發(fā)展,這種急劇增加的電流為電子崩[3]。

        超高壓老煉過程中,液體電介質(zhì)中總會(huì)存在一些離子,在電場作用下運(yùn)動(dòng)而形成微弱電流。隨著場強(qiáng)逐漸提升,電子運(yùn)動(dòng)加速、積累能量、持續(xù)碰撞液體分子,進(jìn)一步使液體電介質(zhì)的分子電離,致使電子數(shù)量迅速增加。因碰撞電離而產(chǎn)生的正離子移動(dòng)至陰極附近,增強(qiáng)了陰極表面的場強(qiáng),促使陰極發(fā)射的電子數(shù)量進(jìn)一步增多,如圖3所示。隨著電流急劇增加,液體電介質(zhì)失去絕緣能力,發(fā)生擊穿[4]。

        圖3 高場強(qiáng)下電子變化圖示

        2.1.2 電子崩的宏觀表現(xiàn)

        超高壓老煉過程中的放電解析如圖4所示。0A階段,電壓逐漸增加,少量電子運(yùn)動(dòng)速度加快,電流隨著電壓的升高而升高。AB階段,隨著電壓的繼續(xù)增加,單位時(shí)間內(nèi)電離產(chǎn)生的自由電子數(shù)是一定的,所以電流沒有隨著電壓的增加而增加。BC階段,電壓繼續(xù)上升,電流隨著電壓的上升也持續(xù)上升,在高場強(qiáng)下產(chǎn)生碰撞電離,激發(fā)出更多的電子,電流顯著增加。C階段,電流急速增加,這時(shí)由于電場強(qiáng)度已經(jīng)很高,發(fā)生嚴(yán)重拉弧或擊穿現(xiàn)象,電流增加到極限,實(shí)現(xiàn)自持放電,電流無限增大。在BC段,就能很清楚地預(yù)判介質(zhì)的絕緣性能。

        圖4 高壓老煉過程放電圖解

        2.2 沿面放電

        沿面放電是指沿不同聚集態(tài)電介質(zhì)分界面的放電現(xiàn)象。沿面放電的特點(diǎn):沿固體介質(zhì)表面的閃絡(luò),電壓不但要比同體介質(zhì)本身的擊穿電壓低,而且也比極間距離相同的純氣隙的擊穿電壓低。

        在均勻電場的條件下(不涉及“極不均勻電場中的沿面放電”),固體介質(zhì)表面與電力線平行。

        從實(shí)測結(jié)果發(fā)現(xiàn),吸潮的固體介質(zhì)如瓷殼等的沿面閃絡(luò)電壓低于不吸潮的電壓,主要因?yàn)榻橘|(zhì)表面吸附的水分受到電子撞擊時(shí)很容易將電子俘獲而形成負(fù)離子。負(fù)離子在外電場作用下向陽極移動(dòng),使沿面電場發(fā)生了畸變,形成不均勻電場,從而降低了沿固體交界面的氣體擊穿電壓,如圖5所示。介質(zhì)表面吸附水分的能力越大,閃絡(luò)電壓就降得越低。另一方面,固體介質(zhì)表面電阻分布不均勻,表面有傷痕等都使沿面電場分布不均勻,因而都將引起沿面閃絡(luò)電壓下降[5]。高壓老煉的工作環(huán)境符合這個(gè)現(xiàn)象,光面瓷殼就比傘裙瓷殼更容易引起沿面放電。

        圖5 場強(qiáng)畸變引起沿面放電圖示

        2.3 小 結(jié)

        綜上分析得出真空滅弧室拉弧及擊穿的主要影響因素:一是電場強(qiáng)度,電場越強(qiáng)越容易放電;二是電場均勻程度,電場越不均勻,越容易放電;三是電場電離,電子和離子越多、越活躍,越容易引發(fā)場強(qiáng)畸變?;诖耍鉀Q拉弧及擊穿問題的主要研究方向定位在電場強(qiáng)度、電子、離子的控制上。

        3 解決方案

        3.1 電荷引流原理引入

        拉弧及擊穿的主要影響因素是電場強(qiáng)度和電子。超高壓老煉工作電壓約100 kV,是無法調(diào)整的,但可以控制電子的數(shù)量和電子的流向,用引流盤引導(dǎo)電子的流動(dòng)方向,如圖6所示。

        圖6 引流盤

        3.2 設(shè)計(jì)方案的場景分析

        升壓初始階段,滅弧室內(nèi)先聚集電荷,電壓繼續(xù)升高,介質(zhì)中慢慢開始產(chǎn)生自由電子和微弱電流,當(dāng)電壓升高到80 kV時(shí),電子數(shù)量逐漸增多,瓷殼表面開始出現(xiàn)拉弧現(xiàn)象。

        (1)在拉弧現(xiàn)象發(fā)生前,避免電子聚積,降低拉弧風(fēng)險(xiǎn)。在滅弧室旁邊放入引流裝置后,引流盤可以引流電離出的電子,預(yù)防電子堆積,引導(dǎo)外場強(qiáng)方向如圖7所示,降低拉弧現(xiàn)象發(fā)生的概率。

        圖7 引流盤的引流作用圖示

        (2)當(dāng)拉弧現(xiàn)象發(fā)生后,引流電弧,保護(hù)滅弧室。當(dāng)電荷急速增加,引發(fā)電子崩、造成拉弧現(xiàn)象,引流盤可引流電弧,引流盤和瓷殼底部會(huì)形成一個(gè)相對安全的區(qū)域,從而保護(hù)滅弧室不被損壞。

        4 設(shè)計(jì)方案驗(yàn)證

        根據(jù)設(shè)計(jì)方案制作了引流盤,進(jìn)行了3次試驗(yàn)。試驗(yàn)結(jié)果顯示:一是拉弧或擊穿次數(shù)減少了50%;二是一旦發(fā)生拉弧或擊穿現(xiàn)象,電荷被引流盤成功引流,保護(hù)滅弧室瓷殼不被電流損壞。圖8是擊穿現(xiàn)象發(fā)生的瞬間,引流盤成功實(shí)現(xiàn)引流,由于瞬間電流很大,引流盤被“點(diǎn)亮”,大量電流被引流走,對滅弧室起到保護(hù)作用。

        圖8 擊穿瞬間的電荷引流圖

        4.1 引流盤使用前后對比

        同一批滅弧室,在裝入引流盤前和裝入引流盤后的電流對比如圖9所示。

        圖9 滅弧室裝入引流盤前后的電流對比

        可以明顯看出,裝入引流盤后,電流平緩(BC段),放電點(diǎn)從75 kV抬升到80 kV。即便出現(xiàn)拉弧現(xiàn)象,通過引流盤也可以很好地保護(hù)滅弧室。

        4.2 試驗(yàn)結(jié)論

        在原理方面,引流裝置是可行的。實(shí)際試驗(yàn)結(jié)果顯示,引流裝置可以很好地改善超高壓老煉環(huán)境。

        4.3 試驗(yàn)有效性再驗(yàn)證

        高壓老煉的目的就是要打掉滅弧室內(nèi)部的毛刺,引流盤的使用并不會(huì)影響作業(yè)效果,具體分析見表1。

        表1 試驗(yàn)有效性驗(yàn)證

        5 結(jié) 論

        真空滅弧室表面拉弧及擊穿現(xiàn)象的本質(zhì)是高場強(qiáng)下,自由電子增多達(dá)到臨界值時(shí),電子集中釋放的現(xiàn)象。通過引流裝置即引流盤把產(chǎn)生拉弧的電荷引流,降低拉弧發(fā)生的風(fēng)險(xiǎn),同時(shí)給了電荷一個(gè)“合理”的運(yùn)動(dòng)路線,讓電荷按照“期望”的方向運(yùn)動(dòng),這樣即使發(fā)生拉弧現(xiàn)象,也會(huì)把風(fēng)險(xiǎn)降到最低。該設(shè)計(jì)方案有效解決了超高壓老煉作業(yè)過程中拉弧及擊穿問題,在超高壓老煉工序推廣使用,為真空滅弧室制造企業(yè)提供實(shí)踐參考經(jīng)驗(yàn)及相關(guān)解決方案。

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