檀 珺
(安徽文達(dá)信息工程學(xué)院,安徽 合肥 230000)
近年來(lái),三層金屬-氧化物-金屬(MIM)納米結(jié)構(gòu)被廣泛用于實(shí)現(xiàn)對(duì)光波長(zhǎng)的完美吸收,通過(guò)改變結(jié)構(gòu)參數(shù)實(shí)現(xiàn)對(duì)光波反射和吸收的有效控制,甚至得到完美吸收的一定頻率的光波[1-3]。所謂特定頻率的完美吸收即在一定光波段處的反射率為零。因此,MIM結(jié)構(gòu)可以用來(lái)制備結(jié)構(gòu)色。與傳統(tǒng)染料相比,結(jié)構(gòu)色由于其具有高分辨率、高信息存儲(chǔ)密度、高集成度、不褪色等優(yōu)點(diǎn)而備受關(guān)注。結(jié)構(gòu)色的原理是由于某種微觀(guān)結(jié)構(gòu)的大小與光波長(zhǎng)相匹配,有序排列使光的反射、透射、散射而產(chǎn)生顏色。這種結(jié)構(gòu)顏色是由周期性微觀(guān)結(jié)構(gòu)引起的。相較于化學(xué)色,結(jié)構(gòu)色有著穩(wěn)定而不褪色的優(yōu)點(diǎn)。在這些完美的光吸收結(jié)構(gòu)中,大部分結(jié)構(gòu)呈有圖案化的金屬結(jié)構(gòu)和沒(méi)有圖案化的薄膜結(jié)構(gòu),如自然界中孔雀的羽毛,蝴蝶的翅色等都屬于天然的結(jié)構(gòu)色,這些天然的結(jié)構(gòu)色的形成大多數(shù)是因?yàn)槠浔旧淼奶厥庑晕⒂^(guān)結(jié)構(gòu)而引起的光學(xué)現(xiàn)象。
最近,研究人員報(bào)告了用于沉積在鋁表面上的單層硅薄膜的完美光吸收體和用于A(yíng)l-Si-Al 納米結(jié)構(gòu)的完美光捕獲體[4-8]。在這里,我們從MIM 結(jié)構(gòu)開(kāi)始,用FDTD 解決方案模擬了三層納米結(jié)構(gòu) Au-ZnO-Al 結(jié)構(gòu)在可見(jiàn)光范圍內(nèi)的反射率。反射光譜用于計(jì)算結(jié)構(gòu)表面顯示的顏色。反復(fù)模擬 Al-Si-Al 納米結(jié)構(gòu)的反射率,并與 Au-ZnO-Al 結(jié)構(gòu)的反射率進(jìn)行比較。研究發(fā)現(xiàn),Au-ZnO-Al 結(jié)構(gòu)的反射光譜帶通寬度較窄,可應(yīng)用于窄帶帶通濾波器的制造。Au-ZnO-Al 納米結(jié)構(gòu)非常簡(jiǎn)單,易于制造,對(duì)于濾光片和結(jié)構(gòu)彩色顯示的應(yīng)用具有很大的優(yōu)勢(shì)。
本次研究的器件結(jié)構(gòu)示意圖如圖1 所示,該結(jié)構(gòu)為三層金屬-氧化物-金屬(MIM)納米結(jié)構(gòu),其中頂層金屬層為金(Au)層,中間氧化物層為低吸收系數(shù)的氧化鋅(ZnO)層,底層金屬層為鋁(Al)層,它們依次堆疊在玻璃(硅)基板上。底部鋁層應(yīng)足夠厚,以防止入射光穿透整個(gè)結(jié)構(gòu)。該結(jié)構(gòu)主要通過(guò)調(diào)整ZnO層厚度來(lái)改變?nèi)肷涔庾饔迷谡麄€(gè)結(jié)構(gòu)后的反射率光譜。用透射矩陣來(lái)計(jì)算結(jié)構(gòu)的反射率。這里指定i=0,1,2,3 代表空氣層、頂部金層、氧化鋅層和鋁層。θi表示光在介質(zhì)i 中的入射角,ni和ki表示介質(zhì)i 折射率的實(shí)部和虛部,φi表示光波在介質(zhì)i 中傳播的相位延遲。d1,d2,d3分別表示Au、ZnO 和Al 層的厚度。這里設(shè)置d1=28nm,d3=200nm 和d2的值分別為275nm、130nm、150nm 和170nm。
圖1 Au-ZnO-Al 結(jié)構(gòu)示意圖
反射率計(jì)算如下:
MIM 結(jié)構(gòu)允許在 TE 和 TM 偏振狀態(tài)下發(fā)生等離子共振,金屬表面自由電子分布均勻。當(dāng)光從光密電介質(zhì)入射到光疏金屬的界面時(shí),金屬層中的自由電子被誘導(dǎo)產(chǎn)生沿電場(chǎng)方向的不均勻密度分布,產(chǎn)生表面等離子體并在金屬表面上傳播。當(dāng)光在介電層與金屬層的界面處發(fā)生全反射時(shí),折射光是一種平面波,沿界面方向傳播,其幅度沿垂直于界面的方向呈指數(shù)衰減,這種電磁波稱(chēng)為倏逝波。當(dāng)入射角或波長(zhǎng)為合適值時(shí),表面等離子體波和倏逝波的頻率和波矢相等,發(fā)生耦合。此時(shí),一定波長(zhǎng)的入射光被吸收,反射光的能量急劇下降。
本文模擬采用的軟件為L(zhǎng)umerical 公司的FDTD solutions 軟件。通過(guò)該軟件對(duì)理論模型建模,通過(guò)改變模型中的部分參數(shù)(中間介質(zhì)層ZnO 層的厚度)進(jìn)行仿真模擬,將得到的反射率光譜數(shù)據(jù)計(jì)算得到形成的結(jié)構(gòu)色,并通過(guò)CIE1931 標(biāo)準(zhǔn)色度系統(tǒng)的理論知識(shí)分析形成不同顏色結(jié)構(gòu)色的原因。
在建立模型的過(guò)程中,將Au-ZnO-Al 納米結(jié)構(gòu)X、Y 方向設(shè)置無(wú)限大,Z 方向的厚度可以通過(guò)設(shè)置參數(shù)進(jìn)行調(diào)節(jié)。硅基底的厚度需要設(shè)置得足夠厚,用來(lái)防止入射光穿透硅基底。保持Al 層的厚度為200 nm,頂層Au 的厚度為28nm,調(diào)節(jié)ZnO 的厚度分別為275nm、130nm、150nm 和170 nm 時(shí)分別對(duì)該結(jié)構(gòu)進(jìn)行仿真模擬,得到反射率光譜圖,圖2 即為該納米結(jié)構(gòu)的光學(xué)反射率光譜圖,y 軸對(duì)應(yīng)反射率,x 軸對(duì)應(yīng)光波長(zhǎng)。紅色、青色、綠色、橙色曲線(xiàn)分別對(duì)應(yīng) ZnO 層厚度為275nm、130nm、150nm和170nm 結(jié)構(gòu)的反射率光譜曲線(xiàn)。
觀(guān)察圖2 可發(fā)現(xiàn),紅色、青色、綠色、橙色曲線(xiàn)的波谷位置光波長(zhǎng)分別為542nm、588nm、642nm 和695 nm,且反射率近零,即說(shuō)明該結(jié)構(gòu)在ZnO 的厚度為275nm、130nm、150nm 和170 nm 時(shí)反射率光譜中獲得完美吸收的波長(zhǎng)分別為542nm、588nm、642nm 和695 nm。
圖2 ZnO 層厚度分別為275nm、130nm、150nm 和170nm的MIM 結(jié)構(gòu)的計(jì)算光學(xué)反射率光譜
不發(fā)光的物體本身沒(méi)有顏色。物體受到各種波段光照射后,一部分光被物體吸收,另一部分被反射,每個(gè)物體吸收不同光的頻率及光量各不相同。如果從色度學(xué)的角度來(lái)解釋?zhuān)矬w所吸收的特定頻率的光量決定了人眼觀(guān)察到的物體的顏色[9]。由于納米結(jié)構(gòu)中ZnO 層厚度的變化導(dǎo)致結(jié)構(gòu)對(duì)整個(gè)可見(jiàn)光波段中特定頻率的光進(jìn)行不同程度的吸收和反射,從而改變光譜的組成。因此,人眼觀(guān)察到結(jié)構(gòu)表面的顏色隨著結(jié)構(gòu)參數(shù)的變化而變化。這里使用 FDTD 來(lái)模擬納米結(jié)構(gòu)的反射光譜,將獲得的反射率光譜數(shù)據(jù)根據(jù)CIE1931-XYZ 系統(tǒng)計(jì)算得到其對(duì)應(yīng)的顏色。結(jié)果顯示對(duì)應(yīng)四種反射光譜的結(jié)構(gòu)表面顏色分別為深粉色、青色、綠色和黃色。
基于以前的研究人員已經(jīng)發(fā)表了Al-Si-Al 納米結(jié)構(gòu)的完美吸收體的近零反射率。重復(fù)Al-Si-Al 納米結(jié)構(gòu)的模擬,并與我們提出的Au-ZnO-Al 結(jié)構(gòu)的反射光譜進(jìn)行比較。
結(jié)果發(fā)現(xiàn),由于室溫下ZnO 的帶隙為3.37 eV,Si 的帶隙為1.11 eV,因此ZnO 的吸收系數(shù)低于Si,Au-ZnO-Al 納米結(jié)構(gòu)的反射光譜的禁帶寬度比Al-Si-Al 納米結(jié)構(gòu)的反射光譜的禁帶寬度窄。因此,所提出的Au-ZnO-Al 納米結(jié)構(gòu)可以更好地實(shí)現(xiàn)需要窄禁帶寬度的應(yīng)用。為了研究光能在納米結(jié)構(gòu)中的耗散位置,通過(guò)FDTD 求解軟件計(jì)算了納米結(jié)構(gòu)中ZnO 的厚度為150nm 時(shí)X-Z 平面的電場(chǎng)分布,如圖3 所示。結(jié)果發(fā)現(xiàn)基底Si 層和底部Al 層的電場(chǎng)強(qiáng)度幾乎為零,電場(chǎng)主要分布在頂部Au 層和ZnO 層上。
圖3 ZnO 的厚度為150nm 的Au-ZnO-Al 納米結(jié)構(gòu)的X-Z 平面的電場(chǎng)分布圖
綜上所述,由薄金膜和沉積在厚鋁膜上的高折射率氧化錫膜組成的簡(jiǎn)單 Au-ZnO-Al 納米結(jié)構(gòu)可以實(shí)現(xiàn)可調(diào)諧完美吸收,在實(shí)現(xiàn)濾波器和制造中具有很好的應(yīng)用。固定金和鋁的厚度,改變氧化鋅的厚度范圍為130nm 到275nm,得到粉紅、青、綠、黃三種顏色。此外,通過(guò)對(duì)比Au-ZnO-Al 和Al-Si-Al 納米結(jié)構(gòu)具有完美吸收的反射光譜,結(jié)果發(fā)現(xiàn)Au-ZnO-Al 結(jié)構(gòu)的反射率光譜的帶通寬度非常窄,說(shuō)明所提出的Au-ZnO-Al 納米結(jié)構(gòu)可以更好地實(shí)現(xiàn)需要窄帶通寬度的應(yīng)用。最后對(duì)ZnO 的厚度為150nm 的Au-ZnO-Al 納米結(jié)構(gòu)的電場(chǎng)分布進(jìn)行了仿真模擬,發(fā)現(xiàn)電場(chǎng)主要分布在金層和氧化鋅層,而鋁層幾乎沒(méi)有電場(chǎng)分布。此研究將有助于實(shí)現(xiàn)結(jié)構(gòu)色和彩色濾光片。