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        第三代半導(dǎo)體與硅器件將長(zhǎng)期共存

        2022-07-24 12:09:49英飛凌科技
        電子產(chǎn)品世界 2022年7期

        英飛凌科技

        目前全球能源需求的三分之一左右是用電需求,能源需求的日益增長(zhǎng),化石燃料資源的日漸耗竭,以及氣候變化等問(wèn)題,要求我們?nèi)ふ腋腔?、更高效的能源生產(chǎn)、傳輸、配送、儲(chǔ)存和使用方式。在整個(gè)能源轉(zhuǎn)換鏈中,第三代半導(dǎo)體技術(shù)的節(jié)能潛力可為實(shí)現(xiàn)長(zhǎng)期的全球節(jié)能目標(biāo)做出很大貢獻(xiàn)。除此之外,寬禁帶產(chǎn)品和解決方案有利于提高效率、提高功率密度、縮小尺寸、減輕重量、降低總成本,因此將在交通、新能源發(fā)電、儲(chǔ)能、數(shù)據(jù)中心、智能樓宇、家電、個(gè)人電子設(shè)備等等極為廣泛的應(yīng)用場(chǎng)景中為能效提升做出貢獻(xiàn)。

        除高速之外,碳化硅還具有高熱導(dǎo)率、高擊穿場(chǎng)強(qiáng)、高飽和電子漂移速率等特點(diǎn),尤其適合對(duì)高溫、高功率、高壓、高頻以及抗輻射等惡劣條件要求較高的應(yīng)用。

        功率密度是器件技術(shù)價(jià)值的另一個(gè)重要方面。SiC MOSFET芯片面積比IGBT小很多,譬如100 A 1200 V的SiC MOSFET芯片大小大約是IGBT與續(xù)流二級(jí)管之和的五分之一。因此,在電機(jī)驅(qū)動(dòng)應(yīng)用中,SiC MOSFET的價(jià)值能夠得到很好的體現(xiàn),其中包括650 V SiC MOSFET。

        在耐高壓方面,1200 V以上高壓的SiC高速器件,可以通過(guò)提高系統(tǒng)的開(kāi)關(guān)頻率來(lái)提高系統(tǒng)性能,提高系統(tǒng)功率密度。

        正是由于SiC MOSFET這些出色的性能,其在光伏逆變器、UPS、ESS、電動(dòng)汽車(chē)充電、燃料電池、電機(jī)驅(qū)動(dòng)和電動(dòng)汽車(chē)等領(lǐng)域都有相應(yīng)的應(yīng)用。然而,碳化硅是否會(huì)成為通吃一切應(yīng)用的終極解決方案呢?

        眾所周知,硅基功率半導(dǎo)體的代表——IGBT技術(shù),在進(jìn)一步提升性能方面遇到了一些困難。開(kāi)關(guān)損耗與導(dǎo)通飽和壓降降低相互制約,降低損耗和提升效率的空間越來(lái)越小,于是業(yè)界開(kāi)始希望SiC能夠成為顛覆性的技術(shù)。但是,這樣的看法不是很全面。首先,以英飛凌為代表的硅基IGBT的技術(shù)也在進(jìn)步,伴隨著封裝技術(shù)的進(jìn)步,IGBT器件的性能和功率密度越來(lái)越高。同時(shí),針對(duì)不同的應(yīng)用而開(kāi)發(fā)的產(chǎn)品,可以做一些特別的優(yōu)化處理,從而提高硅器件在系統(tǒng)中的表現(xiàn),進(jìn)而提高系統(tǒng)性能和性?xún)r(jià)比。因此,第三代半導(dǎo)體的發(fā)展進(jìn)程,必然是與硅器件相伴而行,在技術(shù)發(fā)展的同時(shí),還有針對(duì)不同應(yīng)用的大規(guī)模商業(yè)化價(jià)值因素的考量,期望很快在所有應(yīng)用場(chǎng)景中替代硅器件是不現(xiàn)實(shí)的。

        1新能源汽車(chē)的機(jī)遇

        在新能源汽車(chē)相關(guān)領(lǐng)域,續(xù)航里程和電池裝機(jī)量是關(guān)鍵,SiC技術(shù)能夠顯著的提升續(xù)航里程,或者相同續(xù)航里程下,降低電池裝機(jī)量和成本。因此,SiC正在越來(lái)越多地被采用,特別是在牽引主逆變器、車(chē)載充電機(jī)OBC以及高低壓DC-DC轉(zhuǎn)換器中。SiC為上述應(yīng)用帶來(lái)的技術(shù)優(yōu)勢(shì)。

        牽引主逆變器:

        ·提升電池利用率超過(guò)5%;

        ·更高功率密度可減小系統(tǒng)尺寸;

        ·輕載情況下具有更低導(dǎo)通損耗;

        ·比硅基IGBT更低的開(kāi)關(guān)損耗;

        ·對(duì)冷卻要求較低,被動(dòng)元件更少,進(jìn)而降低系統(tǒng)成本。

        車(chē)載充電機(jī)OBC及DCDC:

        ·更快的開(kāi)關(guān)速度有助于減少被動(dòng)元件,從而提升功率密度,或者實(shí)現(xiàn)更小的尺寸;

        ·CoolSiC?車(chē)規(guī)級(jí)MOSFET在高速開(kāi)關(guān)的情況下具有業(yè)界最低的開(kāi)關(guān)損耗;

        ·在PFC和DC-DC階段,車(chē)載充電機(jī)的效率可提升1%,因而冷卻要求更低;

        ·在圖騰柱拓?fù)浣Y(jié)構(gòu)中支持雙向充電。

        這里需要強(qiáng)調(diào)的是,在未來(lái)數(shù)年中,不同的半導(dǎo)體技術(shù)將并存于市場(chǎng)中,在不同的應(yīng)用場(chǎng)景中分別具有特殊的優(yōu)勢(shì)。在牽引逆變器中,基于不同的里程、效率和成本考量,SiC和硅基IGBT各有各的發(fā)揮空間。例如,SiC用于后輪主牽引驅(qū)動(dòng),可提升巡航里程;而硅基IGBT則用于前輪,以便優(yōu)化成本。在極端情況下,例如車(chē)載充電機(jī)中,在同一架構(gòu)下,會(huì)同時(shí)采用多達(dá)五種不同的半導(dǎo)體技術(shù),包括IGBT,硅基二極管、硅基MOSFET,超結(jié)MOSFET 和SiC MOSFET。

        2氮化鎵和碳化硅應(yīng)用目標(biāo)

        相較于傳統(tǒng)的硅材料,以碳化硅(SiC)和氮化鎵(GaN)為代表的第三代半導(dǎo)體材料,具有更大的禁帶寬度、更高的臨界場(chǎng)強(qiáng),使得基于這兩種材料制作的功率半導(dǎo)體具有耐高壓、低導(dǎo)通電阻、寄生參數(shù)小等優(yōu)異特性。碳化硅和氮化硅這兩種寬禁帶半導(dǎo)體材料之間也存在著諸多差異。

        適用的電壓等特性不同目標(biāo)應(yīng)用不同:碳化硅適用的電壓范圍為650 V-3.3 kV,是1200 V以上的高頻器件,同時(shí)兼有功率密度高的特點(diǎn),有著廣泛的應(yīng)用領(lǐng)域,比如太陽(yáng)能逆變器、新能源汽車(chē)充電、軌道交通、燃料電池中的高速空氣壓縮機(jī)、DCDC和電動(dòng)汽車(chē)電機(jī)驅(qū)動(dòng)以及數(shù)字化趨勢(shì)下的數(shù)據(jù)中心等等,這些都將成為碳化硅的應(yīng)用市場(chǎng)。英飛凌在這些市場(chǎng)向超過(guò)3000個(gè)客戶(hù)供應(yīng)碳化硅產(chǎn)品。

        相對(duì)于碳化硅,氮化鎵適用的電壓范圍會(huì)低一些,從中壓80 V到650 V。不過(guò)它具有快速開(kāi)關(guān)頻率的特性,氮化鎵的開(kāi)關(guān)頻率可以達(dá)到MHz級(jí),因此它適用于開(kāi)關(guān)頻率最高的中等功率應(yīng)用,例如快充、數(shù)據(jù)中心等。

        相對(duì)于友商,英飛凌的優(yōu)勢(shì)是同時(shí)擁有硅、氮化鎵、碳化硅三種主要的功率半導(dǎo)體技術(shù),在半導(dǎo)體設(shè)計(jì)、生產(chǎn)和各種應(yīng)用領(lǐng)域積累了豐富的經(jīng)驗(yàn),這樣可以完全做到以客戶(hù)需求為導(dǎo)向,為其提供出色的產(chǎn)品和解決方案,從而滿足客戶(hù)獨(dú)特的應(yīng)用需求。

        3氮化鎵落地的技術(shù)挑戰(zhàn)及英飛凌的解決方案

        這兩年硅基氮化鎵開(kāi)關(guān)器件的商用化進(jìn)程,和五年前市場(chǎng)的普遍看法已經(jīng)發(fā)生了很大的變化,其中有目共睹的是基于氮化鎵件的高功率密度快充的快速成長(zhǎng)。這說(shuō)明影響新材料市場(chǎng)發(fā)展的,技術(shù)只是眾多因素當(dāng)中的一個(gè)。未來(lái)五年,我們比較看好的氮化鎵的應(yīng)用領(lǐng)域包括:消費(fèi)類(lèi)快充、服務(wù)器/通信電源,馬達(dá)驅(qū)動(dòng),工業(yè)電源,音響,無(wú)線充電,激光雷達(dá)等,其中快充會(huì)繼續(xù)引領(lǐng)氨化鎵開(kāi)關(guān)器件的市場(chǎng)成長(zhǎng)。

        作為功率開(kāi)關(guān)器件的硅基氮化鎵在商用化的進(jìn)程中,除了性能和價(jià)格,最引起關(guān)注的話題是長(zhǎng)期可靠性。目前氯化鎵開(kāi)關(guān)器件絕大多數(shù)都是在硅襯底上生長(zhǎng)氮化鎵,并以二維電子氣作為溝道的GaN HEMT。從2010年IR發(fā)布的業(yè)界第一款硅基氮化鎵開(kāi)關(guān)器件到現(xiàn)在,整個(gè)業(yè)界對(duì)硅基氮化鎵的研究可以說(shuō)已經(jīng)很深入了,但真正大規(guī)模的應(yīng)還是在最近幾年的事。相對(duì)而言,硅乃至碳化硅在市場(chǎng)上運(yùn)行的時(shí)間要長(zhǎng)得多,現(xiàn)存器件數(shù)量也大得多,因此氮化鎵相對(duì)其他兩種材料而言,可供分析的失效案例要少很多。這也是消費(fèi)類(lèi)的快充成為氮化鎵快速成長(zhǎng)引擎的其中一個(gè)原因。另外,因?yàn)楣杌被壋〉募纳鷧?shù),使其為用戶(hù)帶來(lái)極低開(kāi)關(guān)損耗的優(yōu)勢(shì)之外,也大大提高了驅(qū)動(dòng)此類(lèi)器件的難度。

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