周 全,陳 航,代 波,任 勇
(西南科技大學(xué),環(huán)境友好能源材料國家重點實驗室, 四川 綿陽 621010)
沖擊片雷管是直列式起爆點火系統(tǒng)中的核心部件,因其結(jié)構(gòu)相對簡單,安全可靠被廣泛應(yīng)用。主要由反射片、爆炸箔、飛片、加速膛和鈍感藥柱組成。其中爆炸箔是沖擊片雷管中的核心元件之一,在起爆裝置中起著能量轉(zhuǎn)換的重要作用。影響爆炸箔起爆器起爆性能的參數(shù)主要有形狀、幾何尺寸和材料。大量研究人員對此展開詳細(xì)研究。對于爆炸箔形狀和尺寸的研究,有研究者認(rèn)為圓形橋箔爆發(fā)電流密度高于“X”行橋箔。在材料方面,研究表明,單質(zhì)金屬材料中銅和金橋箔爆發(fā)特性較好,能量利用率較高;Al/Ni多層膜所需能量比傳統(tǒng)的銅箔低。在薄膜制備方法中,磁控濺射技術(shù)所制備的薄膜具有較好的電爆炸性能。
上述研究表明橋箔形狀、尺寸、材料和制造工藝都會影響橋箔的電爆炸性能,為爆炸箔的設(shè)計研究提供了大量的技術(shù)支持。而在實際工程應(yīng)用階段,上述參數(shù)已經(jīng)固定,影響一致性的主要因素是質(zhì)量控制過程中的人員、設(shè)備、工藝、環(huán)境和原材料等,其中前四者為內(nèi)部因素,可控性更高,原材料為外部輸入性影響因素,對一致性的影響程度需要重點關(guān)注。鑒于此本文以原材料中的關(guān)鍵材料——濺射靶材為切入點,用不同純度靶材來模擬靶材批次性差異或者其他因素影響,并評估最終對爆炸箔性能的影響。本研究用最常見的銅為例,人為選擇同一國產(chǎn)廠家生產(chǎn)的不同純度銅濺射靶材,以相同濺射工藝制備了形狀和尺寸相同的爆炸箔。對比研究了相結(jié)構(gòu)、顯微結(jié)構(gòu)、電阻率和電爆炸參數(shù)的變化。從而考察在實際生產(chǎn)中靶材原材料可能的差異對爆炸箔性能參數(shù)一致性的影響,為提升爆炸箔批產(chǎn)可靠性提供一定的參考。
通過丙酮、去離子水、酒精粗清洗AlO陶瓷反射片;再經(jīng)過離子刻蝕設(shè)備精清洗反射片,目的是增強(qiáng)薄膜與反射片的結(jié)合力;利用JGP450A磁控濺射設(shè)備濺射銅薄膜。濺射參數(shù)的差異,會直接影響薄膜質(zhì)量。且有學(xué)者認(rèn)為制備的薄膜(111)取向衍射峰的差異,會影響薄膜電阻率。因此制備了多組濺射參數(shù)的薄膜,從XRD圖譜(圖1)中可以看出,當(dāng)真空度優(yōu)于3×10Pa,濺射工藝為120 W,0.8 Pa制備的銅薄膜(111)衍射峰較強(qiáng)。濺射參數(shù)確定為真空度優(yōu)于3×10Pa、功率120 W,氬氣壓強(qiáng)0.8 Pa,基底加熱溫度為80 ℃。在這一工藝下制備2.9 μm厚度的銅薄膜。
圖1 不同濺射參數(shù)下Cu薄膜的XRD圖譜Fig.1 XRD patterns of the Cu thin films under different sputtering parameters
橋箔的制備,主要通過光刻微加工技術(shù)制備,利用光刻機(jī),通過勻膠、光刻掩膜、顯影、刻蝕等步驟,制備出銅爆炸橋箔。尺寸設(shè)計為0.3 mm()×0.3 mm()×2.9 μm()。
采用X射線衍射儀,PANalytical,X’pert Pro,(管電壓40 kV,管電流40 mA,靶材為Cu,波長1.540 598?,測試角度20°~80°)表征薄膜的相組成并分析擇優(yōu)取向;采用場發(fā)射掃描電子顯微鏡,ULTRA55,研究薄膜表面形貌;采用臺階儀,BRUKER,Dektak-XT,(探針壓力為3 mg,掃描0~500 μm,掃描速度50 μm/s)測試薄膜厚度;用霍爾測試系統(tǒng),ECOPiA,(測試溫度300 K,測試電流20 mA,測試延時0.100 s,樣品厚度2.9 μm,測量磁場0.548T,測量次數(shù)1 000次),測定薄膜的電阻率;用TH2512B+型直流低電阻測量儀(測試電流10 mA,分辨率1 μΩ,精度0.05%,測試1 μΩ~2 kΩ),測量橋箔電阻。
本文采用用高壓探頭測試橋箔兩端的電壓變化,羅果夫斯基線圈電流探頭檢測回路的電流變化,所得電壓、電流信號由泰克MDO4104C數(shù)字示波器記錄,橋箔電爆炸測試平臺示意圖如圖2。采用電爆炸測試系統(tǒng)獲得橋箔的電爆炸曲線,并得到橋箔的爆發(fā)時刻、爆發(fā)電壓、爆發(fā)電流及峰值功率等電爆性能參數(shù)。
圖2 電爆炸測試系統(tǒng)示意圖Fig.2 Schematic diagram of measurement of electrical explosion
利用電爆性能測試平臺在充電電壓為2 kV、2.6 kV時,采用短路的方式進(jìn)行短路電流測試,其中充電電容為0.2 μF,測試結(jié)果如圖3所示。根據(jù)美軍軍標(biāo) MIL-DTL-23659D,脈沖電源在短路放電時,至少應(yīng)該包含 5 個等間距震蕩波形。起爆回路可以簡化為R-L-C電路,根據(jù)放電曲線結(jié)合R-L-C回路放電理論推導(dǎo)出計算式:
圖3 起爆回路短路電流曲線Fig.3 Detonatiing circuit short-circuit current curve
(1)
(2)
式中:為減幅震蕩周期,ns;、起始前2個電流峰值,A;為電感,nH;為電容,μF。根據(jù)以上公式計算得到回路中的電感為270 nH,回路電阻為135 mΩ。
利用荷蘭帕納科公司的X射線衍射儀,對所制備的不同純度的銅薄膜進(jìn)行測試,得到衍射圖譜。
XRD圖譜(圖4)可知,3種純度銅薄膜均在(111)、(200)晶面存在最強(qiáng)峰和次強(qiáng)峰,且隨著雜質(zhì)含量的增多,衍射峰有逐漸向小角度方向偏移??赏ㄟ^銅薄膜在(111)與(200)晶面衍射峰強(qiáng)的比值/大小來表征薄膜的擇優(yōu)取向,3種樣品(111)與(200)面衍射峰強(qiáng)的比值見表1所示。
圖4 不同純度Cu薄膜的XRD圖譜Fig.4 XRD patterns of the Cu films of different purity
表1 不同純度銅薄膜物相參數(shù)Table 1 Phase parameters of copper films with different purity
可以看出3種純度銅薄膜的/比值均大于國際標(biāo)準(zhǔn)銅/的比值2.17,這表明3種銅薄膜均在(111)面存在明顯的擇優(yōu)取向。
結(jié)合謝樂公式(3)對銅(111)晶面進(jìn)行晶粒尺寸計算:
(3)
式中:為謝樂常數(shù),取089;為銅靶的衍射波長,取1.540 598?;為實測樣品衍射峰半寬高,為衍射角;為銅(111)晶面的晶粒尺寸,單位nm。
依據(jù)布拉格方程(4)可得Cu在(111)晶面間距
(4)
式中:為衍射級數(shù),本文取1,與與式(1)含義相同。
銅為立方晶系,通過式(5)可計算不同純度下銅薄膜的晶格常數(shù)
(5)
式中:、、為Cu在(111)曲面的晶面指數(shù),均為1。
由式(3),計算結(jié)果見表1所示,可見99.9%和99.99%純度銅箔的晶粒尺寸均比99.999%純度銅箔小,這可能與靶材中含有雜質(zhì)關(guān),說明雜質(zhì)的存在抑制了晶粒的長大。而99.9%純度銅箔晶粒尺寸比99.99%純度銅箔偏大,這可能是由于其含有較多的Fe、Ag等雜質(zhì)元素,均為面心立方結(jié)構(gòu),進(jìn)入到銅的基體中,引起了點陣畸變,導(dǎo)致點陣常數(shù)增大,進(jìn)而影響晶粒尺寸細(xì)化。
通過場發(fā)射掃描電子顯微鏡,對所制備的3種純度的銅薄膜進(jìn)行掃描,如圖5所示,微量的雜質(zhì)在掃描電鏡表征中并不明顯且難以發(fā)現(xiàn),但99.999%純度金屬薄膜顆粒度明顯大于于其他兩類,與謝樂公式的計算結(jié)果相符。
圖5 不同純度的銅薄膜SEM圖Fig.5 SEM images of copper films of different purity
利用霍爾效應(yīng)測試系統(tǒng)對厚度相同的3種純度銅薄膜進(jìn)行電阻率測試。不同純度的銅薄膜電阻率及橋箔電阻測量結(jié)果如表2所示。
表2 不同純度銅薄膜電阻率及橋箔電阻Table 2 Different purity copper film resistivity and bridge foil resistance
由表2可知,不同純度的薄膜電阻率略有差異,表現(xiàn)為隨著純度的降低電阻率增大,99.9%Cu比99.999%Cu電阻率高了7.9%。這主要是雜質(zhì)元素的存在會導(dǎo)致晶粒變形,晶界扭曲程增加,晶界對電子造成的散射就會越顯著,薄膜電阻率相應(yīng)增大,因此導(dǎo)致99.9%和99.99%純度的銅箔的電阻率略高于99.999%純度銅箔。通過臺階儀和顯微鏡測試,見表2,制備的橋箔尺寸符合設(shè)計要求,一致性較高。橋區(qū)電阻通過低電阻測量儀測試,3種純度的橋箔實測值均為31 mΩ左右。
在進(jìn)行對比電爆測試前,需選擇在不同發(fā)火電壓下進(jìn)行測試,從而得到這一尺寸橋箔電壓電流變化趨勢。從圖6可知,在相同材質(zhì)及橋箔尺寸條件下,隨著發(fā)火電壓的升高,峰值電壓和峰值電流均呈現(xiàn)升高的趨勢。但是爆發(fā)時刻和電流峰值時刻呈現(xiàn)先逐漸靠近后逐疏遠(yuǎn)的趨勢,說明儲能有呈現(xiàn)過剩的趨勢。當(dāng)充電電壓在1.1~1.5 kV這個范圍時,爆發(fā)時刻和電流峰值時刻最為接近。因此認(rèn)為這一尺寸橋箔匹配起爆電壓為1.3 kV時可獲得最佳的能量利用率。
圖6 不同充電電壓伏安特性曲線Fig.6 Voltage and current curves of bridge foil under the different firing voltage
為使研究滿足低電壓和高電壓起爆要求并結(jié)合設(shè)備實際情況。在相同的起爆回路和相同的橋區(qū)尺寸條件下,對3種純度的銅爆炸箔在1.3 kV、1.7 kV、2.1 kV三組起爆電壓條件下進(jìn)行測試,每組條件各5發(fā)樣品。電流、電壓曲線如圖7所示。所測樣品均在短脈沖大電流的激勵下,發(fā)生電爆炸,且橋箔的電爆炸均發(fā)生在電流上升的前1/4周期的某個時刻,橋箔區(qū)域產(chǎn)生焦耳熱,從而發(fā)生固-液-氣-等離子體的復(fù)雜物相轉(zhuǎn)變。當(dāng)電阻達(dá)到最大時,相應(yīng)的電壓達(dá)到峰值,電爆炸發(fā)生。在各種起爆電壓條件下,3種純度的銅橋箔的電爆炸曲線略有差異。
圖7 不同純度銅爆炸箔在不同充電電壓下伏安特性曲線Fig.7 Volt-ampere characteristic curves of different purity Cu explosive foils under different charging voltage
根據(jù)測試的電爆炸曲線并結(jié)合以下公式
=×
(6)
(7)
(8)
式中:為爆發(fā)電壓、爆發(fā)電流、爆發(fā)功率、為爆發(fā)時刻,即電壓峰值時刻、充電電壓、為電容容量??筛鶕?jù)以上公式計算得到不同橋箔的爆發(fā)時刻、爆發(fā)電壓、爆發(fā)電流、峰值功率和能量利用率,結(jié)果見表3所示。
表3所的數(shù)據(jù),由每組5發(fā)樣品取平均數(shù)得出。由表可知,銅靶材的變化,會使得電爆性能參數(shù)一致性發(fā)生波動。電爆性能參數(shù)的變化隨起爆電壓的改變呈現(xiàn)的趨勢略有差異。
表3 銅爆炸箔電爆性能參數(shù)Table 3 The electric explosion performances of exploding foil
在低壓起爆時,變化趨勢并不明顯,如1.3 kV時,各類橋箔電爆參數(shù)變化量較小,這可能與輸入的能量未使橋箔充分起爆有關(guān)。但在高壓起爆時,如2.1 kV時,相比于99.999%Cu,當(dāng)純度為99.9%銅橋箔,其爆發(fā)時間會延長,延遲了12.45%,峰值電壓會降低,降低了12.22%;99.99%銅橋箔,峰值電壓也降低了18.06%;在2.1 kV時,純度的變化,使得爆發(fā)功率從1 640 400 W下降到 1 334 667 W,峰值功率降低了18.64%。
1) 在低壓起爆時,如1.3 kV,銅靶材純度的變化,未明顯改變電爆性能參數(shù)。
2) 當(dāng)高壓起爆時,如2.1 kV,銅靶材純度的變化,會使爆發(fā)時刻、爆發(fā)電壓、峰值功率產(chǎn)生明顯改變。與99.999%Cu橋箔相比,99.9%Cu橋箔在2.1KV時爆發(fā)時刻延遲了12.45%,峰值電壓降低了12.22%,峰值功率降低了12.29%;99.99% Cu橋箔,峰值電壓降低了18.06%、峰值功率降低了18.64%。
3) 實際生產(chǎn)應(yīng)用中,應(yīng)嚴(yán)格控制薄膜生長過程,盡可能保證濺射靶材批次性;確保銅靶材純度。銅靶材應(yīng)存放于干燥、真空環(huán)境中確保制備的橋箔起爆時電爆參數(shù)一致。